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1. 发明授权

KR101916458B1 초순수 제조 설비 및 초순수의 모니터링 방법 有权
公开(公告)号：KR101916458B1
公开(公告)日：2018-11-07
申请号：KR1020117018557
申请日：2010-03-29
申请人： 쿠리타 고교 가부시키가이샤
发明人： 도코시마히로토 , 고바야시히데키
IPC分类号： C02F1/00 , G01N33/18
CPC分类号： C02F1/008 , C02F1/006 , C02F2103/04 , C02F2209/02 , C02F2209/04 , C02F2209/05 , C02F2209/11 , C02F2209/14 , C02F2209/20 , C02F2209/22 , G01N33/18 , G01N33/1846 , Y02A20/206 , Y10T137/0318 , Y10T137/8593
摘要： 복수의계기로초순수의수질을측정하여모니터링하는경우에필요하게되는모니터링수량을저감시킴으로써초순수제조장치의규모를줄이고, 이로써장치비용의저감을도모한다. 초순수제조장치로부터유즈포인트에송급되는초순수의일부를분취하여수질을모니터링함에있어서, 이종의수질측정계기를직렬로 2 단이상연결하여이루어지는모니터링장치에통수하여수질을모니터링한다. 직렬로 2 단이상으로연결된이종의수질측정계기에, 초순수제조장치로부터유즈포인트로의급수배관으로부터분취한초순수를직렬로통수하기위해, 이들의계기에있어서의수질측정에필요한모니터링수를공통으로함으로써, 모니터링수량의저감을도모하고, 이결과, 초순수제조장치의규모를줄여장치비용의저감을도모할수 있다.

2. 发明授权

KR101837693B1 자동 윤활을 위한 개선된 시스템 有权
公开(公告)号：KR101837693B1
公开(公告)日：2018-03-12
申请号：KR1020177009843
申请日：2010-08-27
申请人： 밥 아이필드 홀딩스 피티와이 엘티디
发明人： 아이필드,벤자민 , 아이필드,윌리엄로버트 , 아이필드,크레이그알랜
IPC分类号： F16N7/38 , F16N27/00 , F16N29/04
CPC分类号： F16N27/00 , F16N7/385 , F16N2210/14 , Y10T137/0318 , Y10T137/85978
摘要： 하나이상의베어링(16)에윤활제를자동으로전달하기위한시스템이, 공급라인(3)을통해인젝터(4)로소정압력하에윤활제를제공하는윤활제펌프(1)를갖는다. 윤활제에의해구동되는, 인젝터는측정된양의윤활제를피드라인(14)을거쳐베어링(16)으로보낸다. 가압밸브(15)는, 어떠한공급의실패를압력스위치(2)에서압력감소로써탐지할수 있게하는, 피드라인(14) 내주입압력을유지시킨다. 바람직한특징은피드라인(14)의인젝터말단에서의제2 가압밸브(12)와, 차단또는파괴된피드라인을탐지할수 있게하는차단-라인벤트밸브(13)와, 체크밸브들(10, 11)의병합을포함한다. 인젝터(4)는바람직하게입구에서보다출구에서더 높은압력을발생하도록구성되며, 이러한강화인젝터의다양한변형들이설명되고청구된다.

3. 发明授权

KR101821314B1 압력-레스 오존화된 DI-수 (DIO3) 재순환 회수 시스템 및 방법 有权
标题翻译：无压力臭氧去离子水（DIO3）循环回收系统和方法
公开(公告)号：KR101821314B1
公开(公告)日：2018-03-08
申请号：KR1020177000525
申请日：2013-11-04
申请人： 엠케이에스 인스트루먼츠, 인코포레이티드
发明人： 자이베르트,요하네스,하인리히 , 브람머,울리히,알프레드 , 블라카,마르틴 , 슈나이터,게르하르트,요아힘
IPC分类号： B01D19/00 , C02F1/20 , C02F1/78 , G03F7/42 , C02F103/34
CPC分类号： C02F1/20 , B01D19/00 , B01D19/0063 , B01D19/0068 , B01D19/0073 , C02F1/78 , C02F2103/346 , C02F2209/02 , C02F2209/235 , C02F2209/38 , C02F2301/046 , G03F7/423 , H01L21/02052 , Y10T137/0318 , Y10T137/85978 , Y10T137/87249
摘要： 본발명은일 양상에서, 오존화된액체(ozonated liquid)를재순환(recirculating)하기위한시스템을제공한다. 시스템은적어도 2개의인렛(inlet)들및 적어도 2개의아웃렛(outlet)들을포함하는콘택터(contactor)를포함한다. 콘택터는제 1 콘택터인렛에서제 1 액체소스와그리고제 2 콘택터인렛에서제 2 액체소스와유체연통하고, 제 2 콘택터인렛은제 1 콘택터인렛에서수신된액체로부터가스의적어도일부를퍼지(purge)하는가스를수신한다. 퍼지된가스는제 1 콘택터아웃렛에서콘택터를빠져나간다. 콘택터는제 2 콘택터아웃렛에서제 2 액체소스와유체연통하고, 콘택터는콘택터내의액체의적어도일부를드레인(drain)시키고, 드레인된액체는제 2 콘택터아웃렛에서콘택터를빠져나간다. 콘택터는제 1 액체소스와유체연통하는제 3 인렛을포함하고, 제 3 인렛은제 1 액체소스가주위압력(ambient pressure)에서액체를릴리즈(release)하도록허용한다.
摘要翻译：在一个方面，本发明提供了一种用于再循环臭氧化液体的系统。该系统包括接触器，该接触器包括至少两个入口和至少两个出口。该接触器包括一第一吹扫（清洗）的至少一个第一流体源的和部分并与其流体连通的第二流体源，所述第二接触器入口包括从在第二接触器入口在接触器入口在所述第一接触器入口接收所述液体的气体它接收到的气体。净化后的气体在第一个接触器出口离开接触器。接触器和流体连通在所述第二接触器，接触器的出口和漏极（漏极）至少在接触器中的液体的一部分的第二流体源，漏液体离开在第二接触器出口处的接触器。接触器包括与第一液体源流体连通的第三入口，并且第三入口允许第一液体源在环境压力下释放液体。

4. 发明授权

KR101825503B1 가스 유동 패턴을 제어하기 위한 프로세스 챔버 장치, 시스템들, 및 방법들 有权
标题翻译：处理室装置系统和用于控制气体流动模式的方法
公开(公告)号：KR101825503B1
公开(公告)日：2018-02-05
申请号：KR1020167017045
申请日：2014-11-21
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 메리,니르 , 사프케일,찬드라칸트엠. , 크레메르만,아이쟈 , 허진스,제프리씨.
IPC分类号： H01J37/32 , F16K31/06
CPC分类号： H01J37/32449 , F16K1/24 , F16K31/00 , F16K51/00 , F16K51/02 , Y10T137/0318 , Y10T137/8593
摘要： 프로세스챔버가스유동제어장치는내부에서기판을프로세싱하도록구성되는프로세스챔버를포함할수 있거나, 이에포함될수 있다. 가스유동제어장치는프로세스챔버의배기포트를밀봉하도록구성되는밸브를포함할수 있다. 밸브는프로세스챔버내의가스유동패턴(예를들어, 유량및/또는유동균일함을포함)을조정하기위해배기포트에대하여 X, Y 및 Z 방향들로이동가능할수 있다. 프로세스챔버내의프로세스가스의유동을조정하는방법들이, 다른양태들로서또한제공된다.
摘要翻译：处理室气体流量控制装置可以包括或被包括在处理室中，处理室被配置为在其中处理基板。气体流量控制装置可以包括被配置为密封处理室中的排气口的阀。阀可相对于排气口在X，Y和Z方向上移动，以调节处理室内的气流模式（包括例如流速和/或流动均匀性）。还提供了调节处理室内处理气体流量的方法，其他方面也是如此。

5. 发明授权

KR101811066B1 액처리 장치 및 액처리 방법 有权
公开(公告)号：KR101811066B1
公开(公告)日：2017-12-20
申请号：KR1020120066770
申请日：2012-06-21
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 이토노리히로 , 아이우라가즈히로 , 신도나오키 , 하치야요스케 , 나가이다카시
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/02041 , H01L21/67051 , H01L21/6719 , Y02E60/34 , Y10T137/0318 , Y10T137/598
摘要： 본발명의액처리장치는, 상판(32)에는, 수평면상에서상기상판(32)을회전시키는상판회전기구가마련되어있다. 컵(40)의주위에설치된통형의컵 외주통(50)은, 그상단이컵(40)의상방에있는상승위치와, 상승위치보다하방에위치하는하강위치의사이에서승강하도록되어있다. 노즐(82a)을지지하는노즐지지아암(82)은, 컵외주통(50)이상승위치에있을때에상기컵 외주통(50)의측면의측면개구(50m)를통해컵 외주통(50) 내로진출한진출위치와컵 외주통(50)으로부터외방으로후퇴한후퇴위치의사이에서수평방향으로이동한다.

6. 发明授权

KR101800719B1 프로세스 챔버 가스 유동 장치, 시스템들 및 방법들 有权
标题翻译：处理室气体流量设备，系统和方法
公开(公告)号：KR101800719B1
公开(公告)日：2017-11-23
申请号：KR1020157016707
申请日：2013-11-26
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 메리,니르 , 사프카레,찬드라칸트엠. , 무투캄트치,카룹파사미 , 허진스,제프리씨. , 칸카나라,펜찰라엔.
IPC分类号： H01L21/02 , C23C16/455 , F16K1/32 , F16K31/00
CPC分类号： F16K51/00 , C23C16/4412 , F16K1/24 , F16K31/00 , F16K51/02 , Y10T137/0318 , Y10T137/8593
摘要： 틸트가능한밸브를갖는프로세스챔버가스유동제어장치가개시된다. 가스유동장치는기판을포함하도록이루어진프로세스챔버, 밸브시트를포함하는, 프로세스챔버로부터의출구, 및프로세스챔버내의유동불균일성들을제어하기위해밸브시트에대해틸팅하도록이루어지고구성된틸트가능한밸브를포함한다. 다수의다른양태들과같이, 틸트가능한밸브장치를포함하는시스템들및 방법들이개시된다.
摘要翻译：公开了一种具有可倾斜阀的处理室气体流量控制装置。该气流设备包括构造成包括基板，处理室的出口，包括阀座的处理室，以及构造和构造成相对于阀座倾斜以控制处理室内的流动非均匀性的可倾斜阀。如同许多其他方面一样，公开了包括可倾斜阀布置的系统和方法。

7. 发明授权

KR101793744B1 유동 포커싱 미세유동 장치의 규모 확장 有权
标题翻译：放大流动聚焦微流体装置
公开(公告)号：KR101793744B1
公开(公告)日：2017-11-03
申请号：KR1020117023966
申请日：2010-03-12
申请人： 프레지던트 앤드 펠로우즈 오브 하바드 칼리지
发明人： 로마노우스키마르크 , 아바테아담알. , 웨이츠데이비드에이.
IPC分类号： B01J13/04 , B01J19/00 , B01F13/00
CPC分类号： B01F13/0062 , B01F3/0807 , B01F3/0811 , B01F2215/0037 , B01J19/0093 , B01J2219/00015 , B01J2219/00783 , B01J2219/00828 , B01J2219/00831 , B01J2219/00833 , B01J2219/00837 , B01J2219/00889 , B01J2219/00891 , B01J2219/0097 , B01J2219/00975 , B01L3/502784 , B01L2200/0636 , B01L2200/0673 , B01L2300/0816 , B01L2300/0861 , Y10T137/0318 , Y10T137/8593
摘要： 유체내에서유사하거나상이한크기의불연속섹션들을포커싱및/또는형성하기위한미세유동방법및 장치의병렬사용이설명된다. 몇몇태양에서, 본발명은대체로유동포커싱타입기술및 또한미세유체역학에관한것이고, 더구체적으로분산제내에서분산상을제어하도록배열된미세유동시스템들의병렬사용, 다상유체시스템내의분산상의크기및 크기분포, 및복수의그러한장치로의유체성분의전달을위한시스템에관한것이다.
摘要翻译：描述了用于聚焦和/或形成流体中相似或不同尺寸的分立部分的微流体方法和装置的并行使用。在一些实施例中，方法一般是流动聚焦型技术，并且还细涉及流体动力学，更具体地的并行使用的微流体系统的布置成控制在该分散剂的分散体相，在多相流体系统中的分散体的粒度和粒度分布以及用于将流体组分输送到多个这种装置的系统。

8. 发明公开

KR1020170042829A 자동 윤활을 위한 개선된 시스템 审中-实审
标题翻译：改进的自动润滑系统
公开(公告)号：KR1020170042829A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：KR1020177009843
申请日：2010-08-27
申请人： 밥 아이필드 홀딩스 피티와이 엘티디
发明人： 아이필드,벤자민 , 아이필드,윌리엄로버트 , 아이필드,크레이그알랜
IPC分类号： F16N7/38 , F16N27/00 , F16N29/04
CPC分类号： F16N27/00 , F16N7/385 , F16N2210/14 , Y10T137/0318 , Y10T137/85978 , F16N29/04 , F16N2260/08
摘要： 하나이상의베어링(16)에윤활제를자동으로전달하기위한시스템이, 공급라인(3)을통해인젝터(4)로소정압력하에윤활제를제공하는윤활제펌프(1)를갖는다. 윤활제에의해구동되는, 인젝터는측정된양의윤활제를피드라인(14)을거쳐베어링(16)으로보낸다. 가압밸브(15)는, 어떠한공급의실패를압력스위치(2)에서압력감소로써탐지할수 있게하는, 피드라인(14) 내주입압력을유지시킨다. 바람직한특징은피드라인(14)의인젝터말단에서의제2 가압밸브(12)와, 차단또는파괴된피드라인을탐지할수 있게하는차단-라인벤트밸브(13)와, 체크밸브들(10, 11)의병합을포함한다. 인젝터(4)는바람직하게입구에서보다출구에서더 높은압력을발생하도록구성되며, 이러한강화인젝터의다양한변형들이설명되고청구된다.
摘要翻译：用于将润滑剂自动输送到一个或多个轴承（16）的系统具有润滑剂泵（1），该润滑剂泵通过供应管线（3）将正压下的润滑剂提供给喷射器（4）。由润滑剂驱动的喷射器将测量量的润滑剂通过输送管线14输送到轴承16。加压阀15维持供给管线14内的注入压力，这允许在压力开关2处的压降下检测到任何供给故障。优选的特征是进料管线14，第二压力阀12，并且，可用于检测堵塞或破坏进料管线和管线排放阀13的块的eseoui喷射器端部，止回阀（10,11）等等。喷射器4优选地构造成在出口处比在入口处产生更高的压力，并且描述并要求保护该增强的喷射器的各种修改。

9. 发明授权

KR101713799B1 반도체 제조장치 및 제조방법 有权
标题翻译：半导体装置及方法制造
公开(公告)号：KR101713799B1
公开(公告)日：2017-03-09
申请号：KR1020110035291
申请日：2011-04-15
申请人： 주식회사 원익아이피에스
发明人： 이기훈 , 류동호
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/768 , F17D1/04
CPC分类号： F17D1/04 , H01L21/67196 , H01L21/67201 , H01L21/76883 , Y10T137/0318 , Y10T137/6966
摘要： 반도체금속배선공정에적용될수 있는반도체제조장치및 제조방법에관한것이다. 반도체제조장치는로드락챔버와, 적어도하나이상의공정챔버와, 이송챔버, 및산화방지가스공급부를포함한다. 공정챔버는기판을공급받아서어닐링(annealing) 공정을처리한다. 이송챔버는로드락챔버와공정챔버사이에서기판을이송한다. 산화방지가스공급부는이송챔버와로드락챔버중 적어도한쪽으로산화방지가스를공급한다.
摘要翻译：本发明涉及可应用于半导体金属互连工艺中的半导体制造装置及其制造方法。半导体制造装置包括负载锁定室，至少一个处理室，转移室和防氧化气体供给单元。处理室通过接收衬底来处理退火过程。传送室在负载锁定室和处理室之间传送衬底。氧化防止气体供给单元将氧化防止气体供给到传送室或负荷锁定室中。

10. 发明授权

KR101652882B1 기판을 세정하기 위한 폼 발생기 有权
标题翻译：泡沫发电机清洁基板
公开(公告)号：KR101652882B1
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：KR1020117002774
申请日：2009-08-03
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 콜로덴코아놀드 , 후세인앤워 , 토마쉬그레고리에이 , 린청-위션
IPC分类号： B08B3/00 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67051 , B01F3/04446 , B01F5/0473 , B01F5/0475 , B01F5/0485 , B01F5/0656 , B01F5/0657 , Y10T137/0318
摘要： 예시적인실시형태에서, 세정폼을발생시키기위한디바이스는암형하우징및 수형플러그를포함한다. 수형플러그는유체가세정시스템의다른컴포넌트로부터흘러들어가는개구를포함한다. 수형플러그는개구로부터유체를수용하고폼을형성하기위해기체가주입되는사전혼합챔버를포함한다. 예시적인실시형태에서, 챔버는중공실린더이고, 기체는그 실린더에접선방향인채널들을통해서그 실린더에주입된다. 또한, 수형플러그는고체실린더의외측에서연속적인나선형홈부를갖는고체실린더를포함한다. 수형플러그가암형하우징에삽입될때, 연속적인나선형홈부및 하우징의내부표면은, 폼이유동하고세정시스템으로다시돌아가는경로상에서더 혼합되는나선형채널을형성한다.

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