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    • 4. 发明公开
    • 착색 경화성 수지 조성물
    • 有色固化树脂组合物
    • KR1020150041583A
    • 2015-04-16
    • KR1020140133227
    • 2014-10-02
    • 동우 화인켐 주식회사
    • 박소연김성수권봉일
    • G03F7/032G03F7/027G02B5/20G02F1/13
    • G03F7/032C07C211/43C07D409/12C07D471/04C07D487/04C07D498/04C09B11/24G03F7/027G03F7/105
    • 본발명은, 착색제, 수지, 광중합성화합물, 광중합개시제, 용제및 산화방지제를함유하고, 착색제는, 화학식 (A-VI)으로표시되는이온을갖는염료및 크산텐염료로이루어진군에서선택되는적어도 1종의염료를포함하며, 산화방지제는, 인산에스테르구조를갖는기 및아인산에스테르구조를갖는기로이루어진군에서선택되는적어도하나의기와히드록시페닐기를분자내에갖는산화방지제인것을특징으로하는착색경화성수지조성물을제공한다.[화학식 (A-VI)에서, R∼R는각각독립적으로수소원자, 할로겐원자, 니트로기, 히드록시기또는탄소수 1∼20의알킬기(상기알킬기를구성하는탄소원자사이에산소원자가삽입되어있어도좋음), 또는탄소수 3∼20의지환식탄화수소기를나타낸다. R와 R가서로결합하여 -O-, -NH-, -S-, 또는 -SO-를형성하고있어도좋다. R∼R는각각독립적으로수소원자, 탄소수 1∼20의알킬기(상기알킬기를구성하는수소원자는, 디알킬아미노기, 아미노기, 또는할로겐원자로치환되어있어도좋고, 상기알킬기를구성하는탄소원자사이에산소원자가삽입되어도좋음), 탄소수 3∼20의지환식탄화수소기, 치환되어있어도좋은아랄킬기, 또는치환되어있어도좋은아릴기를나타낸다. R와 R가결합하여이들이결합하는질소원자와함께고리를형성하여도좋고, R와 R가결합하여이들이결합하는질소원자와함께고리를형성하여도좋다. A는, 치환되어있어도좋은방향족탄화수소기, 또는치환되어있어도좋은헤테로방향족기를나타낸다.]
    • 本发明涉及着色固化树脂组合物。 本发明含有着色剂,树脂,聚合性化合物,聚合引发剂,溶剂和抗氧化剂。 着色剂包括选自由具有由化学式(A-VI)表示的离子的染料和呫吨染料组成的组中的至少一种染料。 通过使用本发明的着色固化树脂组合物,可以获得具有优异的抗蚀剂图案的线性和耐热性的滤色器。
    • 5. 发明授权
    • 스페이서 형성용 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 표시 장치용 스페이서 및 이를 포함하는 표시 장치
    • 用于间隔物的感光性树脂组合物,由组合物制成的间隔物和包括间隔物的显示装置
    • KR101495533B1
    • 2015-02-25
    • KR1020100131115
    • 2010-12-21
    • 동우 화인켐 주식회사
    • 최화섭김성수
    • G03F7/027G02F1/13
    • 본 발명에 따른 스페이서 형성용 감광성 수지 조성물은 바인더 수지(A), 광중합성 화합물 (B), 광중합 개시제(C) 및 용제(D)를 포함하며, 상기 바인더 수지는 하기 (A-11) 내지 (A-13)을 포함하는 화합물을 공중합하여 얻어지는 공중합체에 (A-14)를 더 반응시켜 얻어지는 불포화기 함유 제1수지를 포함하는 것을 특징으로 한다.
      (A-11): 하기 화학식 1로 표시되는 화합물,


      (상기 화학식 1에서 R1은 위치에 따라 각각 독립적으로 수소원자(단 원자수는 화학적 구조상 가능한 범위내에서 0~2개 범위로 선택되며, 수소 원자수 0의 R1은 이웃하는 수소 원자수 0의 R1과 함께 이중결합을 구성하는 것을 의미함), 알킬기(탄소수 1~12), 알릴기, 페닐기, 벤질기, 할로겐 원자 또는 탄소수 1~8의 알콕시기이며, R2는 수소원자(원자수 0 또는 1), 히드록시기, 알킬기(탄소수 1~12), 또는 탄소수 1~8의 알콕시기이다.)
      (A-12): (A-11) 및 (A-13)과 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물,
      (A-13): 불포화결합과 카르복실기를 갖는 카르복실산,
      (A-14): 1 분자 중에 불포화 결합과 에폭시기를 갖는 화합물.
      상기한 본 발명에 따른 스페이서 형성용 감광성 수지 조성물은 스페이서 형성에 적용시 기존 스페이서와 유사한 탄성 회복률을 가지면서도 외부 압력에 변형이 적은 딱딱한 특성을 갖는다. 그에 따라서 상기한 스페이서 형성용 감광성 수지 조성물은 표시 장치용 스페이서 및 표시 장치의 제조에 유용하게 사용될 수 있다.
    • 6. 发明授权
    • 금속막 식각용액
    • 金属层的蚀刻
    • KR101353123B1
    • 2014-01-17
    • KR1020060113356
    • 2006-11-16
    • 동우 화인켐 주식회사
    • 이준우김성수오금철
    • C23F1/16
    • 본 발명은, 금속막 식각용액에 관한 것으로서, 조성물의 총 중량에 대해 8 내지 31중량%의 과산화수소수와; 조성물의 총 중량에 대해 0.1 내지 10중량%의 할로겐 계열 첨가제와; 조성물의 총 중량에 대해 59 내지 91.9중량%의 물을 포함하는 것을 특징으로 한다.
      본 발명에 따른 금속막 식각용액으로, 인듐산화막, 알루미늄, 알루미늄합금, 몰리브덴 및 몰리브덴합금으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상으로 마련되는 단일막 또는 다층막을 식각할 경우, 매우 양호한 식각특성을 제공할 수 있다. 더욱이, 액정표시장치용 어레이기판의 제조시 본 발명에 따른 금속막 식각용액을 사용하는 경우 기판의 크기가 커도 식각균일성을 유지할 수 있고, 얼룩발생을 방지할 수 있다.
      액정표시장치용 어레이기판, 금속막, 식각, 과산화수소수, 할로겐 계열 첨가제.
    • 9. 发明公开
    • 착색 감광성 수지 조성물, 컬러 필터 및 이를 구비한 액정 표시 장치
    • 有色感光树脂组合物,彩色滤光片和液晶显示装置
    • KR1020120019619A
    • 2012-03-07
    • KR1020100082917
    • 2010-08-26
    • 동우 화인켐 주식회사
    • 송병훈김성수
    • G03F7/031G03F7/027G02B5/20G02F1/13
    • G03F7/0295C07D209/94C09B11/24G02B5/223G03F7/0007G03F7/004G03F7/027G03F7/032G03F7/033
    • PURPOSE: A colored photo-sensitive resin composition, a color filter, and a liquid crystal display device including the same are provided to prevent the reduction of transmission and the line-peeling phenomenon of patterns based on the low amount of exposure. CONSTITUTION: A colored photo-sensitive resin composition includes a coloring material, a binder resin, a photo-polymerizable compound, a photo-polymerization initiator, and a solvent. The photo-polymerization initiator includes a compound containing at least two photo-active oxime ester skeletons in one molecule. The compound is obtained by dimerizing a compound represented by chemical formula 18 based on the R1 or the R2. In chemical formula 18, the R1, the R2, and the R3 are respectively R11, OR11, COR11, SR11, CONR12R13, or CN; the R4 and the R5 are respectively R11, OR11, SR11, COR11, CONR12R13, NR12COR11, OCOR11, COOR11, SCOR11, OCSR11, COSR11, CSOR11, CN, halogen element, or hydroxyl group; the a and the b are respectively 0 to 3.
    • 目的:提供着色感光树脂组合物,滤色器和包括其的液晶显示装置,以防止基于低曝光量的透射率和线剥离现象。 构成:着色光敏树脂组合物包括着色材料,粘合剂树脂,光聚合性化合物,光聚合引发剂和溶剂。 光聚合引发剂包括在一个分子中含有至少两个光活性肟酯骨架的化合物。 该化合物通过基于R1或R2将由化学式18表示的化合物二聚而获得。 在化学式18中,R1,R2和R3分别为R11,OR11,COR11,SR11,CONR12R13或CN; R4和R5分别是R11,OR11,SR11,COR11,CONR12R13,NR12COR11,OCOR11,COOR11,SCOR11,OCSR11,COSR11,CSOR11,CN,卤素元素或羟基; a和b分别为0〜3。
    • 10. 发明授权
    • 구리 단일막 또는 구리 몰리브덴막의 식각용액 및 그식각방법
    • 美国职业棒球协会
    • KR100459271B1
    • 2004-12-03
    • KR1020020023091
    • 2002-04-26
    • 동우 화인켐 주식회사엘지디스플레이 주식회사
    • 채기성조규철권오남이경묵황용섭김기섭김성수오금철
    • C23F1/18
    • PURPOSE: Etching solutions for Cu monolayer or Cu-molybdenum multilayers comprising deionized water and two types of additives comprising hydrogen peroxide water, organic acid, phosphate and nitrogen, and an etching method are provided. CONSTITUTION: The etching solutions comprises first additive comprising 8 to 20 wt.% of hydrogen peroxide water for the total weight of composition, 1 to 5 wt.% of organic acid for the total weight of composition, 0.2 to 5 wt.% of phosphate for the total weight of composition and 0.2 to 5 wt.% of nitrogen for the total weight of composition; second additive comprising 0.2 to 5 wt.% of nitrogen for the total weight of composition; and a balance of deionized water for the total weight of composition. The etching method comprises first step of depositing copper/molybdenum layer on a substrate; second step of selectively leaving photoresist on the copper/molybdenum layer; and third step of etching the copper/molybdenum layer using the etching solution, wherein the copper/molybdenum layer is a double film in which copper film(14) is formed on molybdenum layer(12), wherein thickness of the copper layer is thicker than that of the molybdenum layer, wherein the substrate is a glass substrate(10) for TFT LCD (thin film transistor liquid crystal display), and wherein the copper layer is a source/drain wiring.
    • 目的:提供包含去离子水和包含过氧化氢水,有机酸,磷酸盐和氮的两种添加剂的铜单层或铜钼多层膜的蚀刻溶液以及蚀刻方法。 组成:蚀刻溶液包含第一添加剂,其包含组合物总重量的8至20重量%的过氧化氢水,组合物总重量的1至5重量%的有机酸,0.2至5重量%的磷酸盐 对于组合物的总重量和组合物总重量为0.2-5重量%的氮; 第二添加剂,其包含组合物总重量的0.2至5重量%的氮; 余量的去离子水用于组合物的总重量。 该蚀刻方法包括在基底上沉积铜/钼层的第一步骤; 第二步,在铜/钼层上选择性地留下光刻胶; 以及使用所述蚀刻溶液蚀刻所述铜/钼层的第三步骤,其中所述铜/钼层是在钼层(12)上形成铜膜(14)的双层膜,其中所述铜层的厚度比 其中基板是用于TFT LCD(薄膜晶体管液晶显示器)的玻璃基板(10),并且其中铜层是源极/漏极布线。