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1. 发明公开

KR1020110033894A 열처리 장치 및 냉각 방법 有权
标题翻译：热处理装置和冷却方法
公开(公告)号：KR1020110033894A
公开(公告)日：2011-04-01
申请号：KR1020100092834
申请日：2010-09-24
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 구사까베요시노리 , 야마가겐이찌
IPC分类号： H01L21/324
CPC分类号： H01L21/67109 , C30B25/10 , C30B35/00
摘要： PURPOSE: A thermal processing device and a cooling method are provided to remove an expensive heat exchanger for a high temperature by dropping the temperature of mixed gas by mixing cooling gas with a rising temperature with the gas for a temperature drop on the upper side of a heater exchanger. CONSTITUTION: A support unit(18) is inserted into a process container(4) and detachably moves. An opening of a manifold(10) is hermetically sealed with a cover(22). A furnace(30) for heating a semiconductor wafer is installed outside the process container. An insulation member(32) surrounds the side and ceiling of the process container. A resistance heater(34) is installed along the surfaces of the inner wall of the insulation member.
摘要翻译：目的：提供一种热处理装置和冷却方法，以通过将冷却气体与上升温度相混合来降低混合气体的温度，从而通过在气体上升温度下降温度来降低高温热交换器加热器交换器。构成：将支撑单元（18）插入到处理容器（4）中并可拆卸地移动。歧管（10）的开口用盖（22）气密地密封。用于加热半导体晶片的炉（30）安装在处理容器的外部。绝缘构件（32）围绕处理容器的侧面和天花板。沿着绝缘构件的内壁的表面安装电阻加热器（34）。

2. 发明授权

KR100882635B1 종형 열 처리 장치 失效
标题翻译：立式热处理设备
公开(公告)号：KR100882635B1
公开(公告)日：2009-02-06
申请号：KR1020047010063
申请日：2002-11-29
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 가도베마사또 , 나까오겐 , 야마가겐이찌
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/31 , H01L21/22 , B60B33/08
CPC分类号： H01L21/67109 , C23C16/46
摘要： 히터 요소의 교환 등의 보수 작업을 쉽게 하여 보수성의 향상을 도모한다.
다수의 피처리체(w)를 수용하여 열 처리하기 위한 처리 용기(4)와, 상기 처리 용기(4)의 주위를 덮는 통형의 히터(6)와, 상기 히터(6)를 설치하는 히터 설치부(7)와, 상기 히터(6)를 일측으로부터 보수 가능하게 수용한 하우징(11)을 구비하고, 상기 히터(6)는 복수의 히터 요소(31)를 하나하나 교환 가능하게 갖고, 상기 히터 설치부(7)에는 히터(6)를 회전 가능하게 지지하는 회전 지지 기구(40)가 설치되어 있다.
히터 요소, 피처리체, 히터, 하우징, 회전 지지 기구, 설치부

3. 发明公开

KR1020040099261A 종형 열 처리 장치 失效
公开(公告)号：KR1020040099261A
公开(公告)日：2004-11-26
申请号：KR1020047010063
申请日：2002-11-29
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 가도베마사또 , 나까오겐 , 야마가겐이찌
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/31 , H01L21/22 , B60B33/08
CPC分类号： H01L21/67109 , C23C16/46
摘要： 히터 요소의 교환 등의 보수 작업을 쉽게 하여 보수성의 향상을 도모한다.
다수의 피처리체(w)를 수용하여 열 처리하기 위한 처리 용기(4)와, 상기 처리 용기(4)의 주위를 덮는 통형의 히터(6)와, 상기 히터(6)를 설치하는 히터 설치부(7)와, 상기 히터(6)를 일측으로부터 보수 가능하게 수용한 하우징(11)을 구비하고, 상기 히터(6)는 복수의 히터 요소(31)를 하나하나 교환 가능하게 갖고, 상기 히터 설치부(7)에는 히터(6)를 회전 가능하게 지지하는 회전 지지 기구(40)가 설치되어 있다.

4. 发明授权

KR101264958B1 열처리 장치, 히터 및 그 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101264958B1
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：KR1020087020229
申请日：2007-02-07
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 고바야시마꼬또 , 야마가겐이찌 , 사이또오다까노리
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/02 , H01L21/205
摘要： 본 발명은, 분출 구멍의 설계의 자유도가 높아 분출 구멍의 설계에 의해 조정 밸브를 필요로 하지 않고 히터 각 부의 강온 속도를 조정할 수 있고 유로 구조가 단순하여, 시일의 용이화 및 비용의 저감을 꾀할 수 있는 열처리 장치를 제공한다. 열처리 장치(1)는 열처리체(w)를 다단으로 수용하여 소정의 열처리를 행하기 위한 처리 용기(2)와, 상기 처리 용기(2)의 외주를 덮어 피처리체(w)를 가열하는 통 형상의 히터(3)와, 상기 히터(3)와 처리 용기(2) 사이의 공간(24) 내의 분위기를 배출하는 배열계(25)와, 상기 공간(24) 내에 냉각 유체를 분출하여 냉각시키는 냉각 수단(26)을 구비하고 있다. 상기 히터(3)는 통 형상의 단열재(17)와, 이 단열재(17)의 내주에 설치된 발열 저항체(18)와, 단열재(17)의 외주에 설치된 외피(20)를 갖고 있다. 상기 냉각 수단(26)은 상기 단열재(17)와 외피(20)의 사이에 높이 방향으로 단수 혹은 복수 형성된 고리 형상 유로(28)와, 각 고리 형상 유로(28)로부터 단열재(17)의 중심 방향 혹은 중심 경사 방향으로 냉각 유체를 분출하기 위해 단열재(17)에 형성된 분출 구멍(29)을 갖는다.
히터, 처리 용기, 외피, 냉각 유체, 단열재

5. 发明授权

KR101230723B1 피처리체의 열처리 장치 및 열처리 방법과, 기억 매체 有权
标题翻译：加热对象加热处理装置和加热方法及储存介质
公开(公告)号：KR101230723B1
公开(公告)日：2013-02-07
申请号：KR1020090051396
申请日：2009-06-10
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 야마가겐이찌 , 왕웬링
IPC分类号： H01L21/324
CPC分类号： H01L21/67109 , H01L21/67248
摘要： 본 발명은, 복수의 피처리체 외에 추가로 탄성파 소자를 갖는 온도 측정용 피처리체까지도 수용할 수 있는 배기 가능하게 이루어진 처리 용기와, 상기 복수의 피처리체와 상기 온도 측정용 피처리체를 유지한 상태에서 상기 처리 용기 내로 로드 및 언로드되는 유지 수단과, 상기 처리 용기 내로 가스를 도입하는 가스 도입 수단과, 상기 처리 용기 내에 수용된 상기 복수의 피처리체 및 상기 온도 측정용 피처리체를 가열하는 가열 수단과, 상기 처리 용기 내에 수용된 상기 탄성파 소자를 향하여 측정용 전파를 송신하기 위해, 고주파 라인을 통하여 송신기에 접속된 송신용 안테나로서 기능하는 제1 도전성 부재와, 상기 처리 용기 내에 수용된 상기 탄성파 소자로부터 발생하는 온도에 따른 전파를 받기 위해, 고주파 라인을 통하여 수신기에 접속된 수신 용 안테나로서 기능하는 제2 도전성 부재와, 상기 수신용 안테나에 의해 받은 전파에 기초하여 상기 온도 측정용 피처리체의 온도를 구하는 온도 분석부와, 상기 가열 수단을 제어하는 온도 제어부를 구비하고, 상기 제1 도전성 부재는 상기 처리 용기 내의 열처리부의 일부로서 설치되어 있고, 상기 제2 도전성 부재도, 상기 처리 용기 내의 열처리부의 일부로서 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 피처리체의 열처리 장치이다.
피처리체, 열처리부, 유지 수단, 가스 도입 수단, 수신용 안테나

6. 发明公开

KR1020090129354A 피처리체의 열처리 장치 및 열처리 방법과, 기억 매체 有权
标题翻译：加热对象加热处理装置和加热方法及储存介质
公开(公告)号：KR1020090129354A
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：KR1020090051396
申请日：2009-06-10
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 야마가겐이찌 , 왕웬링
IPC分类号： H01L21/324
CPC分类号： H01L21/67109 , H01L21/67248
摘要： PURPOSE: A heat processing apparatus and a heat processing method for an object to be processed, and a storage medium are provided to improve the accuracy of the device by measuring the temperature of an object to be processed accurately. CONSTITUTION: In a device, a processing vessel(8) accepts an object to be measured having an elastic wave component besides a plurality of objects. A keeping unit(22) maintains the object and an object for measuring the temperature. A gas inlet(40) introduces gas inside the processing vessel. A heating unit(12) heats the object and the object for measuring the temperature. A first conductive member is functioned as a transmission antenna connected to transmitter through the high frequency line. A second conductive member is functioned as a receiver antenna connected to the receiver through the high frequency line. A temperature analysis unit(70) calculates the temperature of the object for measuring temperature based on the electric wave receiving from the receiver antenna. A temperature controller(50) controls the heating unit.
摘要翻译：目的：提供一种用于被处理物体的热处理装置和热处理方法以及存储介质，以通过精确测量待处理物体的温度来提高装置的精度。构成：在装置中，除了多个物体之外，处理容器（8）接受具有弹性波分量的待测物体。保持单元（22）保持物体和用于测量温度的物体。气体入口（40）在处理容器内引入气体。加热单元（12）加热物体和物体以测量温度。第一导电构件用作通过高频线连接到发射机的发射天线。第二导电构件用作通过高频线连接到接收器的接收器天线。温度分析单元（70）基于从接收器天线接收的电波来计算用于测量温度的物体的温度。温度控制器（50）控制加热单元。

7. 发明授权

KR100848209B1 반도체 처리 시스템용 낱장식 열처리 장치 失效
标题翻译：用于半导体加工系统的单槽式热处理装置
公开(公告)号：KR100848209B1
公开(公告)日：2008-07-24
申请号：KR1020057020932
申请日：2004-05-26
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 야마가겐이찌 , 나까오겐
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/67109
摘要： 반도체 처리 시스템에 있어서의 낱장식 열처리 장치(2)는 피처리 기판(W)을 수납하는 처리 용기(4)를 포함한다. 처리 용기(4) 내에 지지 부재(6)가 배치되고, 피처리 기판(W)의 하면이 노출된 상태에서 피처리 기판을 실질적으로 수평하게 지지한다. 가열 가스를 발생하는 동시에 피처리 기판(W)의 하면을 향해 공급하는 가열 가스 공급부(20)가 배치된다. 가열 가스 공급부(20)로부터 공급되는 가열 가스의 유로에 분산 부재(16)가 배치되고, 피처리 기판(W)의 하면에 대한 가열 가스의 분산 균일성을 향상시킨다.
피처리 기판, 낱장식 열처리 장치, 가열 가스 공급부, 처리 용기, 지지 부재

8. 发明公开

KR1020040091613A 냉각 장치 및 이를 이용한 열 처리 장치 有权
标题翻译：冷却装置和使用其的热处理装置
公开(公告)号：KR1020040091613A
公开(公告)日：2004-10-28
申请号：KR1020047009493
申请日：2003-02-28
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 사이또다까노리 , 야마가겐이찌
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/22
CPC分类号： H01L21/67109
摘要： 열 처리 장치(50)는 처리 용기(56) 및 히터(100)를 덮는 냉각통을 갖는다. 냉각통은 통형의 베이스 부재(110)와, 그 외주면에 나선형으로 권취된 냉각 파이프(112)를 갖는다. 냉각 파이프(112)는 베이스 부재(110)에 납땜되어 있다.

9. 发明授权

KR101569557B1 열처리로 및 열처리 장치 有权
标题翻译：热处理炉和热处理设备
公开(公告)号：KR101569557B1
公开(公告)日：2015-11-16
申请号：KR1020120066283
申请日：2012-06-20
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 니찌아스 카부시키카이샤
发明人： 고바야시마꼬또 , 야마가겐이찌 , 사사끼아끼라 , 이께다다이스께 , 고이께다까히로
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/22 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/67109
摘要： 열처리로는, 하나이상의피처리체를수용하는처리용기와, 상기처리용기의주위를덮는원통형상의단열재와, 상기단열재의내주면을따라배치된히터를구비하고, 이히터는단열재의내주면을따라배치되는코러게이트형의띠 형상히터엘리먼트를구비하고, 상기히터엘리먼트는외측으로돌출되는골부와, 내측으로돌출되는마루부를갖는다.

10. 发明授权

KR101332094B1 열처리로 및 그 제조 방법 有权
标题翻译：热处理炉及其制造方法
公开(公告)号：KR101332094B1
公开(公告)日：2013-11-22
申请号：KR1020070096577
申请日：2007-09-21
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 나까오겐 , 야마가겐이찌 , 고바야시마꼬또
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/205
CPC分类号： F27B17/0025 , H01L21/67103 , H05B3/08 , Y10T29/49083
摘要： 열처리로는, 피처리체를 수용하여 열처리하기 위한 처리 용기와, 이 처리 용기를 위요하는 통 모양의 단열재와, 단열재의 내주면을 따라 배치된 나선 모양의 발열 저항체와, 단열재의 내주면에 축 방향으로 형성되어, 발열 저항체를 소정 피치로 지지하는 지지체를 구비하고 있다. 발열 저항체의 외측에는, 발열 저항체에 부착되고, 단열재를 직경 방향으로 관통하여 외부로 연장된 복수의 단자판이 적당한 간격으로 배치되어 있다. 발열 저항체에 부착되고, 단열재에 고정되는 복수의 고정판이 발열 저항체의 외측에 적당한 간격으로 배치되어 있다. 고정판은, 발열 저항체에, 단자판과 발열 저항체의 부착 구조와 동일한 부착 구조에 의해 부착되어 있다.
피처리체, 처리 용기, 단열재, 발열 저항체, 고정판

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