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1. 发明公开

KR1020160104688A 정합기 및 정합 방법 审中-实审
标题翻译：匹配和匹配方法
公开(公告)号：KR1020160104688A
公开(公告)日：2016-09-05
申请号：KR1020167020861
申请日：2015-02-24
申请人： 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키
发明人： 나카무라마나부 , 후지모토나오야 , 가토노리카즈 , 오시다요시유키 , 다카하시나오토
IPC分类号： H01J37/32 , H03H7/40 , H05H1/46
CPC分类号： H03H7/40 , H01P5/18 , H05H2001/4682 , H01J37/32183
摘要： 어떠한부하임피던스에있어서도정합점에수속하는정합알고리즘을제공한다. 진행파와반사파를검출하는방향성결합기와, 제 1 가변용량콘덴서와제 2 가변용량콘덴서와인덕턴스를갖는정합회로와, 진행파와반사파에근거하여반사계수를산출하고제 1 가변용량콘덴서의용량값 VC1과상기제 2 가변용량콘덴서의용량값 VC2를제어하는제어부를구비하는정합기에있어서, 제어부는, 스미스차트상에서정합점을통과하는반사계수의궤적이그리는원과, 산출된반사계수의사이의거리가소정값보다큰 경우는, VC2를변경하여, 상기거리를상기소정값이내로하고, 상기거리가상기소정값이내가되면, VC1을변경하여반사계수를작게한다.
摘要翻译：匹配单元包括用于检测行波和反射波的定向耦合器; 包括第一可变电容电容器，第二可变电容电容器和电感的匹配电路; 以及控制单元，用于通过基于行波和反射波计算反射系数来控制第一和第二可变电容电容器的VC1和VC2。当计算出的反射系数与通过史密斯圆图上的匹配点的反射系数的迹线描述的圆之间的距离大于预定值时，控制单元改变第二可变电容电容器的VC2和计算出的使距离在预定值内的反射系数。当距离变为预定值时，控制单元改变第一可变电容电容器的VC1并使计算出的反射系数更小。

2. 发明授权

KR102088602B1 고주파 전원 장치 有权
公开(公告)号：KR102088602B1
公开(公告)日：2020-03-12
申请号：KR1020197002871
申请日：2017-09-01
申请人： 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키
发明人： 오시다요시유키 , 나스겐지 , 후지모토나오야
IPC分类号： H01J37/32 , H05H1/46

3. 发明授权

KR101520216B1 플라즈마 생성용 전원 장치 및 플라즈마 생성 파라미터 설정 방법 有权
公开(公告)号：KR101520216B1
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：KR1020137032759
申请日：2012-08-03
申请人： 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키
发明人： 후지모토나오야 , 오시다요시유키 , 가토노리카즈
IPC分类号： H05H1/46 , H01L21/3065
摘要： 임피던스 정합까지의 시간을 단축할 수 있어 처리 효율을 향상할 수 있는 플라즈마 생성용 전원 장치를 제공한다.
소정 주파수의 기준 신호를 생성하는 기준 신호 생성부와 기준 신호를 증폭해 고주파 전력 신호를 생성하는 전력 증폭부와 고주파 전력 신호에 포함되는 진행파 전력과 반사파 전력을 검출하는 검출부와 기준 신호의 주파수를 변화시켜 전력 증폭부에서의 증폭도를 변화시키는 제어부를 구비하는 플라즈마 생성용 전원 장치에 대하고, 제 1 시간에 있어 기준 신호를 제1의 주파수에 고정해 반사파 전력이 제 1 전력값 이하가 되도록 제어해, 그 후의 제 2 시간에 있고, 반사파 전력이 제 2 전력값 이하가 되도록 기준 신호의 주파수를 소인 하는 플라즈마 생성 동작을 실시하는 것과 동시에, 제1의 주파수, 제 1 시간, 제 2 시간의 최적치를 찾아내는 플라즈마 생성 파라미터 설정 동작을 실시한다.

4. 发明授权

KR102085470B1 정합기 有权
公开(公告)号：KR102085470B1
公开(公告)日：2020-03-05
申请号：KR1020187023940
申请日：2017-02-10
申请人： 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키
发明人： 오시다요시유키 , 후지모토나오야 , 가토노리카즈
IPC分类号： H03H7/40 , H03H7/52 , H05H1/46

5. 发明授权

KR101965995B1 정합기 및 정합 방법 有权
公开(公告)号：KR101965995B1
公开(公告)日：2019-04-04
申请号：KR1020177023780
申请日：2016-02-08
申请人： 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키
发明人： 후지모토나오야 , 오시다요시유키 , 가토노리카즈
IPC分类号： H03H7/40 , H03H11/30 , H05H1/46

6. 发明授权

KR101829563B1 정합기 및 정합 방법 有权
标题翻译：匹配设备和匹配方法
公开(公告)号：KR101829563B1
公开(公告)日：2018-02-14
申请号：KR1020167020861
申请日：2015-02-24
申请人： 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키
发明人： 나카무라마나부 , 후지모토나오야 , 가토노리카즈 , 오시다요시유키 , 다카하시나오토
IPC分类号： H01J37/32 , H03H7/40 , H05H1/46
CPC分类号： H03H7/40 , H01P5/18 , H05H2001/4682
摘要： 어떠한부하임피던스에있어서도정합점에수속하는정합알고리즘을제공한다. 진행파와반사파를검출하는방향성결합기와, 제 1 가변용량콘덴서와제 2 가변용량콘덴서와인덕턴스를갖는정합회로와, 진행파와반사파에근거하여반사계수를산출하고제 1 가변용량콘덴서의용량값 VC1과상기제 2 가변용량콘덴서의용량값 VC2를제어하는제어부를구비하는정합기에있어서, 제어부는, 스미스차트상에서정합점을통과하는반사계수의궤적이그리는원과, 산출된반사계수의사이의거리가소정값보다큰 경우는, VC2를변경하여, 상기거리를상기소정값이내로하고, 상기거리가상기소정값이내가되면, VC1을변경하여반사계수를작게한다.
摘要翻译：并提供了一种匹配算法，可在任何负载阻抗下收敛到匹配点。和定向耦合器，用于检测一个进度波和反射波时，第一可变电容电容器和所述第二可变电容电容器和具有电感的匹配电路，并且计算行进波的基础上的反射系数和反射波，并且所述第一可变电容电容器VC1髁上的电容基体2在组匹配控制单元，用于控制所述可变电容的电容器的电容值VC2，控制部分，计算出的反射系数的圆之间的预定距离通过史密斯圆图上的匹配点的反射系数的轨迹绘制和改变VC2以使该距离在预定值内，并且当距离达到预定值时，改变VC1以减小反射系数。

7. 发明公开

KR1020170107545A 정합기 및 정합 방법 审中-实审
标题翻译：匹配设备和匹配方法
公开(公告)号：KR1020170107545A
公开(公告)日：2017-09-25
申请号：KR1020177023780
申请日：2016-02-08
申请人： 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키
发明人： 후지모토나오야 , 오시다요시유키 , 가토노리카즈
IPC分类号： H03H7/40 , H03H11/30 , H05H1/46
CPC分类号： H03H7/383 , H01J37/32183 , H01P5/18 , H03H7/40 , H03H11/30 , H05H2001/4682 , H05H1/46
摘要： 정합기는진행파와반사파를검출하는방향성결합기와, 제 1 가변용량콘덴서와, 제 2 가변용량콘덴서와, 인덕턴스를갖는정합회로와, 진행파와반사파에근거해서반사계수를산출하고제 1 가변용량콘덴서의용량치(VC1)와제 2 가변용량콘덴서의용량치(VC2)를제어하는제어부를구비한다. 제어부는, 스미스차트상에서정합점을통과하는반사계수의궤적이그리는원을향하도록 VC2를변경하고, 예상한원과의교점에근거해서 VC1를미세조정하고, 산출된반사계수와원의사이의거리가소정치이내로되면, 산출되는반사계수를 0에가까워지도록 VC1를변경함과아울러, VC2를미세조정한다.
摘要翻译：和用于检测进展波和反射波组的定向耦合器匹配时，第一可变电容电容器和所述第二可变电容电容器和匹配电路，第1可变电容电容器，并计算行进波的基础和具有电感的反射波的反射系数以及用于控制第二可变电容电容器的电容值（VC1）和电容值（VC2）的控制部分。所述控制单元，所述变化的VC2之间的距离面对圆通过匹配点来绘制的反射系数的轨迹，并根据该VC1，圆的史密斯圆图上的输出反射系数的yesanghan凉爽和精细调整的交点当其在初始值内时，改变VC1以使计算的反射系数接近零，并且精细地调整VC2。

8. 发明公开

KR1020140008453A 플라즈마 생성용 전원 장치 및 플라즈마 생성 파라미터 설정 방법 有权
标题翻译：用于生成等离子体的电源装置，用于设定等离子体生成参数的方法
公开(公告)号：KR1020140008453A
公开(公告)日：2014-01-21
申请号：KR1020137032759
申请日：2012-08-03
申请人： 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키
发明人： 후지모토나오야 , 오시다요시유키 , 가토노리카즈
IPC分类号： H05H1/46 , H01L21/3065
CPC分类号： H05H1/46 , H01J37/32155 , H01J37/32174 , H05H2001/4682
摘要： 임피던스 정합까지의 시간을 단축할 수 있어 처리 효율을 향상할 수 있는 플라즈마 생성용 전원 장치를 제공한다.
소정 주파수의 기준 신호를 생성하는 기준 신호 생성부와 기준 신호를 증폭해 고주파 전력 신호를 생성하는 전력 증폭부와 고주파 전력 신호에 포함되는 진행파 전력과 반사파 전력을 검출하는 검출부와 기준 신호의 주파수를 변화시켜 전력 증폭부에서의 증폭도를 변화시키는 제어부를 구비하는 플라즈마 생성용 전원 장치에 대하고, 제 1 시간에 있어 기준 신호를 제1의 주파수에 고정해 반사파 전력이 제 1 전력값 이하가 되도록 제어해, 그 후의 제 2 시간에 있고, 반사파 전력이 제 2 전력값 이하가 되도록 기준 신호의 주파수를 소인 하는 플라즈마 생성 동작을 실시하는 것과 동시에, 제1의 주파수, 제 1 시간, 제 2 시간의 최적치를 찾아내는 플라즈마 생성 파라미터 설정 동작을 실시한다.

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