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1. 发明公开

KR1020100102217A 권취식 진공 성막 장치 无效
标题翻译：卷绕真空膜涂装置
公开(公告)号：KR1020100102217A
公开(公告)日：2010-09-20
申请号：KR1020107017978
申请日：2008-04-14
申请人： 가부시키가이샤 아루박
发明人： 요코이신 , 노무라츠네히토 , 나카츠카아츠시 , 타다이사오
IPC分类号： C23C14/24 , C23C14/56 , C23C14/22 , C23C14/58
CPC分类号： C23C14/562 , C23C14/541
摘要： 장치를 대형화하지 않고, 제전유닛으로부터의 누출 하전 입자에 기인하는 기재의 열변형을 방지할 수 있는 권취식 진공 성막 장치를 제공한다.
본 발명과 관련되는 권취식 진공 성막(증착) 장치 10은, 냉각용 캔 롤러 14와 제전유닛 23의 사이에, 제전유닛 23으로부터 캔 롤러 14로 향하는 하전 입자를 포착하는 전하 포착체 25를 포함한다. 이것에 의해, 제전유닛 25로부터 누출한 하전 입자가 캔 롤러 14에 도달하는 것을 저지하고, 캔 롤러 14에 인가된 기재와의 밀착용 바이어스 전위의 변동을 억제해, 기재 12에 대한 정전력을 안정적으로 유지한다. 이것에 의해, 기재 12와 캔 롤러 14 사이의 밀착력이 안정적으로 보관 유지되므로, 기재 12의 열변형이 방지되게 된다.

2. 发明授权

KR100777759B1 권취식 진공 막형성장치 有权
标题翻译：旋转真空喷雾装置
公开(公告)号：KR100777759B1
公开(公告)日：2007-11-19
申请号：KR1020067026420
申请日：2006-02-14
申请人： 가부시키가이샤 아루박
发明人： 하야시노부히로 , 요코이신 , 타다이사오 , 나카츠카아츠시
IPC分类号： C23C16/50 , C23C16/52 , C23C14/24
CPC分类号： C23C14/042 , C23C14/54 , C23C14/562
摘要： 본 발명은 절연성 원료 필름의 열변형을 억제하고, 고속으로 금속막을 막형성하여 생산성 향상을 꾀할 수 있고, 더욱이는 필름의 제전효과를 높일 수 있는 권취식 진공 막형성장치를 제공한다.
이를 위해 본 발명은 권출롤러(13)와 증발원(16) 사이에 배치되고 원료 필름(12)에 하전입자를 조사하는 전자빔 조사기(21)와, 냉각용 캔롤러(14)와 권취롤러(15) 사이에 배치되고 원료 필름(12) 막형성면에 접촉하여 당해 원료 필름(12) 주행을 가이드하는 보로 롤러(18)와, 캔롤러(14)와 보조 롤러(18) 사이에 직류전압을 인가하는 직류 바이어스 전원(22)과, 캔롤러(14)와 권취롤러(15) 사이에 배치되고 원료 필름(12)의 전하를 제거하는 제전 유니트(23)를 구비하고, 당해 제전 유니트(23)를 한편의 전극이 접지된 직류 2극방전형 프라즈마 발생원으로 구성한다.
막형성, 성막, 진공 막형성 장치, 스퍼터링장치

3. 发明公开

KR1020070088313A 권취식 진공 막형성장치 有权
标题翻译：旋转真空喷雾装置
公开(公告)号：KR1020070088313A
公开(公告)日：2007-08-29
申请号：KR1020067026420
申请日：2006-02-14
申请人： 가부시키가이샤 아루박
发明人： 하야시노부히로 , 요코이신 , 타다이사오 , 나카츠카아츠시
IPC分类号： C23C16/50 , C23C16/52 , C23C14/24
CPC分类号： C23C14/042 , C23C14/54 , C23C14/562
摘要： A reel to reel vacuum sputtering device which suppresses thermal deformation of an insulative material film, forms a metal film at high speed, and enables the productivity improvement and enhancement of neutralization effect on the film. A reel to reel vacuum sputtering apparatus comprises an electron beam irradiator (21) disposed between a feed roller (13) and an evaporating source (16) and emitting charged particles toward a material film (12), an assisting roller (18) disposed between a cooling can roller (14) and a take-up roller (15), in contact with a film forming surface of the materal film (12) so as to guide the travel of the material film (12), a DC bias power source (22) for applying a DC voltage between the can roller (14) and the assisting roller (18), and a neutralizing unit (23) disposed between the can roller (14) and the take-up roller (15) and neutralizing the material film (12). The neutralizing unit (23) is constituted by a two-electrode DC discharge plasma generating source one electrode of which is grounded.
摘要翻译：抑制绝缘材料膜的热变形的卷筒式真空溅镀装置，高速地形成金属膜，能够提高生产效率，提高膜的中和效果。卷筒式真空溅镀装置包括设置在进料辊（13）和蒸发源（16）之间并将带电粒子朝向材料膜（12）发射的电子束照射器（21），辅助辊（18）与所述侧膜（12）的成膜表面接触以引导所述材料膜（12）的移动的冷却罐辊（14）和卷取辊（15），DC偏置电源（22），用于在罐辊（14）和辅助辊（18）之间施加DC电压;以及中和单元（23），设置在罐辊（14）和卷取辊（15）之间，并且中和材料薄膜（12）。中和单元（23）由一个电极接地的双电极DC放电等离子体发生源构成。

4. 发明公开

KR1020100086508A 성막 장치 및 성막 방법 无效
标题翻译：胶片形成装置和胶片形成方法
公开(公告)号：KR1020100086508A
公开(公告)日：2010-07-30
申请号：KR1020107014258
申请日：2008-12-12
申请人： 가부시키가이샤 아루박
发明人： 하야시노부히로 , 코바야시요스케 , 사이토타카오 , 이지마마사유키 , 타다이사오
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/50 , C23C16/44 , H01L21/285
CPC分类号： C23C14/56 , C23C16/4412 , C23C16/54
摘要： It is possible to provide a film formation device and a film formation method which can reduce an air exhaust time of an air exhaust system having a large condensation load and improve productivity. The film formation device simultaneously performs film formation on a plurality of bases. The device includes: a support unit (50) having a support portion which rotatably supports the bases around a rotation shaft; a vacuum chamber (10) having a cylindrical processing chamber (14) which rotatably contains the support unit (50); film formation sources arranged inside the vacuum chamber (10); a low-temperature air exhaust unit (21) having a low-temperature condensation source (21A) arranged to oppose to an upper position support member (52) of the vacuum chamber (10); and an auxiliary pump (22).
摘要翻译：可以提供一种可以减少具有大的冷凝负荷的排气系统的排气时间并提高生产率的成膜装置和成膜方法。成膜装置同时在多个基底上进行成膜。该装置包括：支撑单元（50），其具有支撑部分，其可旋转地支撑围绕旋转轴的基部; 具有可旋转地容纳所述支撑单元（50）的圆柱形处理室（14）的真空室（10）; 设置在真空室（10）内的成膜源; 具有与所述真空室（10）的上部位置支撑构件（52）相对配置的低温冷凝源（21A）的低温排气单元（21）。和辅助泵（22）。

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