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    • 기판 처리 장치
    • 基板处理装置
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    • 기판처리장치에서는, 챔버덮개부및 컵부 (161) 가제 1 위치에위치하는상태에서는, 컵측벽부 (611) 와액 수용측벽부 (253) 가직경방향으로겹치고, 가드부 (166) 가액 수용측벽부 (253) 에지지된다. 챔버덮개부및 컵부 (161) 가제 1 위치보다상방의제 2 위치로이동할때에는, 가드부 (166) 가컵 측벽부 (611) 에의해매달려상방으로이동한다. 챔버덮개부및 컵부 (161) 가제 2 위치에위치하는상태에서는, 컵측벽부 (611) 의하단이액 수용측벽부 (253) 의상단보다상방에위치하고, 가드부 (166) 가컵 측벽부 (611) 의하단과액 수용측벽부 (253) 의상단사이의간극을덮는다. 이에의해, 회전하는기판으로부터의처리액이컵 측벽부 (611) 보다하방으로비산한경우에도, 처리액이외측벽부 (164) 에부착되는것을억제할수 있다.
    • 在基板处理装置的状态下,室盖和杯位于第一位置,杯侧壁和液体接收侧壁在径向上彼此重叠,并且防护件由液体接收侧支撑 壁。 当腔室盖和杯子移动到高于第一位置的第二位置时,护罩从杯侧壁悬挂而向上移动。 当室盖和杯位于第二位置时,杯侧壁的下端位于液体接收侧壁的上端的上方,护罩覆盖杯侧壁的下端之间的间隙 和液体接收侧壁的上端。