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1. 发明授权

KR101143982B1 복합 산화피막 및 이의 제조방법 有权
标题翻译：复合氧化物膜及其制造方法
公开(公告)号：KR101143982B1
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：KR1020090066024
申请日：2009-07-20
申请人： (주)엠에스티테크놀로지
发明人： 김배연 , 김광엽
IPC分类号： C25D11/02 , C25D13/00
CPC分类号： C25D11/026 , C25D9/06 , C25D11/04 , C25D11/06 , C25D11/26 , C25D11/34 , C25D11/36 , C25D13/02
摘要： 본 발명은 플라즈마 전해 산화법(PEO : Plasma Electronic Oxidation)에 의해 금속 모재의 표면에 형성되는 산화피막으로서, 상기 산화피막을 형성시키기 위한 전해질 용액에는 전해질 용액과 합성, 침전, 가수분해 반응을 일으키는 금속염 성분이 첨가되며, 상기 산화피막에는, 상기 금속 모재의 성분과 전해질 용액과 금속염 성분의 합성 반응에 의해 생성되는 금속화합물이 포함되는 것을 특징으로 하는 복합 산화피막 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
이에 의해, 전해질 용액과 합성 반응을 일으키는 금속염 성분을 전해질 용액에 첨가하여 합성 반응 및 침전 반응으로 생성된 금속화합물 성분이 산화피막에 포함되어 새로운 성분과 기능이 부가된 복합 산화피막을 구현할 수 있으며, 상기 금속염 성분의 추가로 인하여 PEO로 형성되는 산화피막 형성 속도를 향상시킴과 동시에 원하는 산화피막의 두께를 용이하게 형성시킬 수 있다.
플라즈마, 산화피막, 합성, 침전

2. 发明公开

KR1020110049473A 면상 발열체 및 이의 제조방법 有权
标题翻译：加热板及其制造方法
公开(公告)号：KR1020110049473A
公开(公告)日：2011-05-12
申请号：KR1020090106493
申请日：2009-11-05
申请人： (주)엠에스티테크놀로지
发明人： 김배연 , 김광엽
IPC分类号： H05B3/20
CPC分类号： H05B3/20 , H05B3/08 , H05B3/12
摘要： PURPOSE: A heating plate and manufacturing method thereof are provided to form an oxide film formed by a PEO(Plasma Electronic Oxidation) method, thereby increasing the bonding strength between a metal plate and the oxide film. CONSTITUTION: A heating plate includes a metal plate(10) and a heating object(40). The metal plate is made of an aluminum alloy. The heating object is placed on the metal plate. A method for manufacturing a heating plate comprises the following steps. A metal plate is manufactured. An oxide film(20) is formed on the metal plate by a PEO method. The heating object is placed on the metal plate on which the oxide film is formed.
摘要翻译：目的：提供一种加热板及其制造方法，以形成通过PEO（等离子体电子氧化）法形成的氧化膜，从而提高金属板与氧化物膜之间的接合强度。构成：加热板包括金属板（10）和加热物（40）。金属板由铝合金制成。加热对象放置在金属板上。制造加热板的方法包括以下步骤。制造金属板。通过PEO法在金属板上形成氧化膜（20）。将加热对象放置在其上形成有氧化膜的金属板上。

3. 发明授权

KR100913309B1 금속회로기판 有权
标题翻译：金属电路
公开(公告)号：KR100913309B1
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：KR1020070053047
申请日：2007-05-31
申请人： (주)엠에스티테크놀로지
发明人： 김광엽 , 김배연
IPC分类号： H05K1/02
摘要： 본 발명은 금속회로기판에 관한 것으로서, 열전도성이 뛰어난 금속소재로 형성된 금속기판과; 상기 금속기판의 표면에 절연성 세라믹으로 형성된 절연층과; 상기 절연층 상부에 전도성의 금속소재로 형성된 회로층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 회로기판에 있어서, 상기 절연층은 전해질 용액에 전원을 인가하여 발생된 플라즈마가 상기 금속기판과 반응하여 금속기판 표면에 형성된 절연성 금속 산화 피막으로 구성되는 것을 특징으로 한다.
이에 의해, 우수한 방열효과를 나타내며, 상기 금속기판과 산화 피막이 형성된 상기 절연층이 상호 분리되지 않으며, 절연층이 갈라지는 현상을 방지할 수 있다.

4. 发明公开

KR1020080105451A 금속회로기판 有权
标题翻译：金属电路
公开(公告)号：KR1020080105451A
公开(公告)日：2008-12-04
申请号：KR1020070053047
申请日：2007-05-31
申请人： (주)엠에스티테크놀로지
发明人： 김광엽 , 김배연
IPC分类号： H05K1/02
CPC分类号： H01L21/02252 , H05K1/056 , H05K2203/0315
摘要： A metal electric circuit having an insulating layer is provided to supply high electrical insulation and protection against heat property by forming metal oxidation through PEO(Plasma Electrolytic Oxidation). In a metal electric circuit having an insulating layer, an insulating layer is formed with metal oxidation by reacting plasma with the metal substrate, composed of metal material having excellent thermal conductance after supplying power from an electrolyte solution and generating plasma. A circuit layer(20) is formed on the top of dielectric layer with conductive metal material. A protecting coating layer(30) is formed between the insulating layer and the circuit layer.
摘要翻译：提供具有绝缘层的金属电路，通过PEO（等离子体电解氧化）形成金属氧化来提供高电绝缘性和耐热性。在具有绝缘层的金属电路中，通过使等离子体与金属基板反应而由金属氧化形成绝缘层，金属基板由从电解液供给电力并产生等离子体后具有优异的导热性的金属材料构成。在电介质层的顶部用导电金属材料形成电路层（20）。在绝缘层和电路层之间形成保护涂层（30）。

5. 发明授权

KR101515534B1 전극소재용 플러렌의 제조방법 有权
标题翻译：用于电极材料的富勒烯的制造方法
公开(公告)号：KR101515534B1
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：KR1020130121943
申请日：2013-10-14
申请人： (주)씨지에프테크놀로지 , (주)엠에스티테크놀로지 , 유시흥
发明人： 송운강 , 김영욱 , 김배연 , 김기윤 , 김기태 , 함재호 , 마마에브세르게이 , 마마에바베라 , 유시흥
IPC分类号： H01M4/04 , H01G11/22 , C01B31/02
摘要： 본 발명은 전극소재용 플러렌(fullerene)의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 탄소 성분을 함유한 천연 광물을 분쇄하는 제1단계; 상기 분쇄된 천연 광물로부터 탄소 성분을 추출, 분리하는 제2단계; 및 상기 분리된 탄소 성분을 붕소 분위기 하에서 열처리하는 제3단계를 포함하는 전극소재용 플러렌의 제조방법을 제공한다. 본 발명에 따르면, 높은 추출율을 가지면서 회(ash) 성분이 적고, 중공 구조(공극성)가 최대한 확보되어 우수한 전기적 특성을 갖는다. 또한, 높은 생산성 및 경제성 등을 갖는다.
摘要翻译：本发明涉及制造用于电极材料的富勒烯的方法。本发明涉及粉碎含有碳成分的天然矿物质的方法，从粉碎的天然矿物中提取和分离碳组分的第二步骤; 第三步，在硼气氛下热处理分离的碳组分。根据本发明，可以获得高可萃取性，低灰分含量，最大中空结构（孔隙率）和优异的电性能。此外，它具有很高的生产力和经济性。

6. 发明公开

KR1020110066299A 금속회로기판 및 이의 제조방법 有权
标题翻译：金属基板电路板及其制造方法
公开(公告)号：KR1020110066299A
公开(公告)日：2011-06-17
申请号：KR1020090122896
申请日：2009-12-11
申请人： (주)엠에스티테크놀로지
发明人： 김배연 , 김광엽
IPC分类号： H05K1/03
摘要： PURPOSE: A metal circuit board and manufacturing method thereof are provided to form an oxide film on a metal board by a plasma electrolytic oxidation method, thereby increasing the bonding strength between the metal board and the oxide film. CONSTITUTION: A metal board is manufactured(S10). An oxide film is formed by on the metal board a plasma electrolytic oxidation method(S20). The thickness of the oxide film is 1~50 micro meters. A thin film is formed on the metal board. An oxidation prevention layer is formed(S50).
摘要翻译：目的：提供金属电路板及其制造方法，通过等离子体电解氧化法在金属板上形成氧化膜，提高金属板与氧化膜的接合强度。构成：制造金属板（S10）。在金属板上通过等离子体电解氧化法形成氧化膜（S20）。氧化膜的厚度为1〜50微米。在金属板上形成薄膜。形成氧化防止层（S50）。

7. 发明公开

KR1020110008616A 치아 수복재 및 의료용 생체재료 有权
标题翻译：牙科修复材料和生物材料用于医疗用途
公开(公告)号：KR1020110008616A
公开(公告)日：2011-01-27
申请号：KR1020090066039
申请日：2009-07-20
申请人： (주)엠에스티테크놀로지
发明人： 김배연 , 김광엽
IPC分类号： A61K6/04 , A61P1/02
CPC分类号： A61K6/0235 , A61K6/04
摘要： PURPOSE: A dental restorative material and a medical bio-material are provided to improve binding force between surfaces of alloy and ceramic and to ensure high strength. CONSTITUTION: A dental restorative material is able to cover the metal surface with oxidation film formed by PEO(plasma electronic oxidation). The thickness of the oxidation film is 3-30 um. The dental restorative material additionally contains sintered ceramic coating layer. The thickness of the ceramic coating layer is 1-300 um. A medical bio-material is coated with an oxidation film formed by PEO.
摘要翻译：目的：提供牙科修复材料和医用生物材料，以提高合金和陶瓷表面之间的结合力，并确保高强度。构成：牙科修复材料能够用由PEO（等离子体电子氧化）形成的氧化膜覆盖金属表面。氧化膜的厚度为3-30μm。牙科修复材料另外包含烧结陶瓷涂层。陶瓷涂层的厚度为1-300μm。医用生物材料涂覆有由PEO形成的氧化膜。

8. 发明公开

KR1020150043590A 플러렌의 제조방법 有权
标题翻译：制造富勒烯的方法
公开(公告)号：KR1020150043590A
公开(公告)日：2015-04-23
申请号：KR1020130121254
申请日：2013-10-11
申请人： (주)씨지에프테크놀로지 , (주)엠에스티테크놀로지
发明人： 송운강 , 김영욱 , 김배연 , 김기윤 , 김기태 , 함재호 , 마마에브세르게이 , 마마에바베라
IPC分类号： C01B32/50 , B01J6/00
CPC分类号： C01B32/50
摘要： 본발명은플러렌(fullerene)의제조방법에관한것이다. 본발명은탄소성분을함유한천연광물을분쇄하는제1단계; 상기분쇄된천연광물로부터탄소성분을추출, 분리하는제2단계; 및상기분리된탄소성분을붕소분위기하에서열처리하는제3단계을포함하는플러렌의제조방법을제공한다. 본발명에따르면, 높은추출율을가지면서회(ash) 성분이적은양질의플러렌을용이하게제조할수 있다. 또한, 중공구조(공극성)가최대한확보되어물리적및 화학적특성이우수하고, 높은생산성및 경제성등을갖는다.
摘要翻译：本发明涉及富勒烯的制造方法。本发明提供一种富勒烯的制造方法，该方法包括：对含有碳成分的天然矿物进行粉碎的第一工序; 从粉碎的天然矿物中提取和分离碳成分的第二步骤; 以及在硼气氛下加热分离的碳成分的第三步骤。根据本发明，可以容易地制造出具有高提取率并且包含少量灰成分的良好的富勒烯。此外，最大限度地确保孔结构（孔隙率），由此具有优异的物理和化学性质以及高生产率和经济可行性。

9. 发明授权

KR101169946B1 치아 수복재 및 의료용 생체재료 有权
标题翻译：牙科修复材料和生物材料用于医疗用途
公开(公告)号：KR101169946B1
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：KR1020090066039
申请日：2009-07-20
申请人： (주)엠에스티테크놀로지
发明人： 김배연 , 김광엽
IPC分类号： A61K6/04 , A61P1/02
摘要： 본 발명은 기존의 합금계 특히 Ti-6Al-4V계 의료용 합금의 표면을 개질하여 심미적인 도치 분말(세라믹)을 쉽게 입힐 수 있고, 합금과 도치 분말의 결합력을 향상시킨 치아 수복재에 관한 것으로서, Ti-6Al-4V 계 합금으로 마련되는 금속 모재의 표면을 플라즈마 전해 산화법(PEO : Plasma Electronic Oxidation)에 의해 형성되는 산화피막으로 코팅시킨 후, 여기에 닥터블레이드 등의 방법으로 성형한 세라믹 그린 시트를 접착 피복시키거나 또는 세라믹 슬러리를 도포하여 코팅시키는 것을 특징으로 한다.
이에 의해, 합금과 세라믹의 계면 간 접합력을 획기적으로 향상시킬 수 있으며, 기존의 세라믹 수복재에 비하여 높은 강도를 구비하고, 금 합금 수복재에 비하여 낮은 비중을 구비하여 내구성이 뛰어나며 가벼운 치아 수복재를 구현할 수 있다.
또한, 인체의 치아와 동일한 색상 및 질감을 구비하여 심미적으로 뛰어나며, 금 합금 등으로 마련되는 고가의 치아 수복재를 대체하여 귀금속의 불필요한 사용을 줄임과 동시에 경제성이 뛰어난 치아 수복재를 구현할 수 있다.
치아, 수복재, 산화피막

10. 发明授权

KR101117160B1 금속회로기판 및 이의 제조방법 有权
标题翻译：金属基板电路板及其制造方法
公开(公告)号：KR101117160B1
公开(公告)日：2012-03-09
申请号：KR1020090122896
申请日：2009-12-11
申请人： (주)엠에스티테크놀로지
发明人： 김배연 , 김광엽
IPC分类号： H05K1/03
摘要： 이에의해, 금속판재의표면에효과적인절연층을형성시킬수 있을뿐만아니라절연층상부에박막을원하는형태로접합시킬수 있어장시간사용이나반복적인 on/off 에도안정적으로절연효과가우수함과동시에 450℃부근의고온에서도동작인가능한금속회로기판을제조할수 있다.

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