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1. 发明授权

KR101515534B1 전극소재용 플러렌의 제조방법 有权
标题翻译：用于电极材料的富勒烯的制造方法
公开(公告)号：KR101515534B1
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：KR1020130121943
申请日：2013-10-14
申请人： (주)씨지에프테크놀로지 , (주)엠에스티테크놀로지 , 유시흥
发明人： 송운강 , 김영욱 , 김배연 , 김기윤 , 김기태 , 함재호 , 마마에브세르게이 , 마마에바베라 , 유시흥
IPC分类号： H01M4/04 , H01G11/22 , C01B31/02
摘要： 본 발명은 전극소재용 플러렌(fullerene)의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 탄소 성분을 함유한 천연 광물을 분쇄하는 제1단계; 상기 분쇄된 천연 광물로부터 탄소 성분을 추출, 분리하는 제2단계; 및 상기 분리된 탄소 성분을 붕소 분위기 하에서 열처리하는 제3단계를 포함하는 전극소재용 플러렌의 제조방법을 제공한다. 본 발명에 따르면, 높은 추출율을 가지면서 회(ash) 성분이 적고, 중공 구조(공극성)가 최대한 확보되어 우수한 전기적 특성을 갖는다. 또한, 높은 생산성 및 경제성 등을 갖는다.
摘要翻译：本发明涉及制造用于电极材料的富勒烯的方法。本发明涉及粉碎含有碳成分的天然矿物质的方法，从粉碎的天然矿物中提取和分离碳组分的第二步骤; 第三步，在硼气氛下热处理分离的碳组分。根据本发明，可以获得高可萃取性，低灰分含量，最大中空结构（孔隙率）和优异的电性能。此外，它具有很高的生产力和经济性。

2. 发明公开

KR1020150043640A 전극소재용 플러렌의 제조방법 有权
标题翻译：电极材料制备方法
公开(公告)号：KR1020150043640A
公开(公告)日：2015-04-23
申请号：KR1020130121943
申请日：2013-10-14
申请人： (주)씨지에프테크놀로지 , (주)엠에스티테크놀로지 , 유시흥
发明人： 송운강 , 김영욱 , 김배연 , 김기윤 , 김기태 , 함재호 , 마마에브세르게이 , 마마에바베라 , 유시흥
IPC分类号： H01M4/04 , H01G11/22 , C01B31/02
CPC分类号： Y02E60/13 , H01M4/0471 , C01B32/152 , H01G11/22
摘要： 본발명은전극소재용플러렌(fullerene)의제조방법에관한것이다. 본발명은탄소성분을함유한천연광물을분쇄하는제1단계; 상기분쇄된천연광물로부터탄소성분을추출, 분리하는제2단계; 및상기분리된탄소성분을붕소분위기하에서열처리하는제3단계를포함하는전극소재용플러렌의제조방법을제공한다. 본발명에따르면, 높은추출율을가지면서회(ash) 성분이적고, 중공구조(공극성)가최대한확보되어우수한전기적특성을갖는다. 또한, 높은생산성및 경제성등을갖는다.
摘要翻译：本发明涉及一种电极材料的富勒烯的制造方法。本发明的方法包括：粉碎含有碳成分的天然矿物的第一步骤; 从粉碎的天然矿物中提取和分离碳成分的第二步骤; 以及在硼气氛下加热分离的碳成分的第三步骤。根据本发明，富勒烯具有高提取率，低灰分成分和最大限度确保的孔结构（孔隙率），从而具有优异的电性能。此外，确保了高生产率和经济可行性。

3. 发明公开

KR1020150043590A 플러렌의 제조방법 有权
标题翻译：制造富勒烯的方法
公开(公告)号：KR1020150043590A
公开(公告)日：2015-04-23
申请号：KR1020130121254
申请日：2013-10-11
申请人： (주)씨지에프테크놀로지 , (주)엠에스티테크놀로지
发明人： 송운강 , 김영욱 , 김배연 , 김기윤 , 김기태 , 함재호 , 마마에브세르게이 , 마마에바베라
IPC分类号： C01B32/50 , B01J6/00
CPC分类号： C01B32/50
摘要： 본발명은플러렌(fullerene)의제조방법에관한것이다. 본발명은탄소성분을함유한천연광물을분쇄하는제1단계; 상기분쇄된천연광물로부터탄소성분을추출, 분리하는제2단계; 및상기분리된탄소성분을붕소분위기하에서열처리하는제3단계을포함하는플러렌의제조방법을제공한다. 본발명에따르면, 높은추출율을가지면서회(ash) 성분이적은양질의플러렌을용이하게제조할수 있다. 또한, 중공구조(공극성)가최대한확보되어물리적및 화학적특성이우수하고, 높은생산성및 경제성등을갖는다.
摘要翻译：本发明涉及富勒烯的制造方法。本发明提供一种富勒烯的制造方法，该方法包括：对含有碳成分的天然矿物进行粉碎的第一工序; 从粉碎的天然矿物中提取和分离碳成分的第二步骤; 以及在硼气氛下加热分离的碳成分的第三步骤。根据本发明，可以容易地制造出具有高提取率并且包含少量灰成分的良好的富勒烯。此外，最大限度地确保孔结构（孔隙率），由此具有优异的物理和化学性质以及高生产率和经济可行性。

4. 发明授权

KR101618773B1 플러렌의 제조방법 有权
标题翻译：制造富勒烯的方法
公开(公告)号：KR101618773B1
公开(公告)日：2016-05-10
申请号：KR1020130121254
申请日：2013-10-11
申请人： (주)씨지에프테크놀로지 , (주)엠에스티테크놀로지
发明人： 송운강 , 김영욱 , 김배연 , 김기윤 , 김기태 , 함재호 , 마마에브세르게이 , 마마에바베라
IPC分类号： C01B32/50 , B01J6/00
摘要： 본발명은플러렌(fullerene)의제조방법에관한것이다. 본발명은탄소성분을함유한천연광물을분쇄하는제1단계; 상기분쇄된천연광물로부터탄소성분을추출, 분리하는제2단계; 및상기분리된탄소성분을붕소분위기하에서열처리하는제3단계을포함하는플러렌의제조방법을제공한다. 본발명에따르면, 높은추출율을가지면서회(ash) 성분이적은양질의플러렌을용이하게제조할수 있다. 또한, 중공구조(공극성)가최대한확보되어물리적및 화학적특성이우수하고, 높은생산성및 경제성등을갖는다.

5. 发明授权

KR101533326B1 친환경적 수용성 나노입자의 토양제 및 그 제조방법 有权
标题翻译：具有环境友好和可溶性的纳米颗粒的土壤应用改进材料及其制造方法
公开(公告)号：KR101533326B1
公开(公告)日：2015-07-06
申请号：KR1020130124338
申请日：2013-10-18
申请人： (주)씨지에프테크놀로지 , (주)엠에스티테크놀로지
发明人： 송운강 , 김영욱 , 김배연 , 김기윤 , 김기태 , 함재호 , 마마에브세르게이 , 마마에바베라
IPC分类号： C09K17/48 , C09K17/00 , C05D9/00
摘要： 본발명은비료등으로사용할수 있는친환경적수용성나노입자의토양제및 그제조방법에관한것이다. 본발명은슌기트(shungite) 광물로부터추출된탄소성분과규소질을포함하는토양제를제공한다. 또한, 본발명은, 슌기트(shungite) 광물을분쇄하는제1단계; 및상기분쇄된슌기트(shungite) 광물과알칼리용액을혼합, 가열하여탄소성분과규소질을추출하는제2단계를포함하는토양제의제조방법을제공한다. 본발명에따르면, 슌기트(shungite) 광물로부터추출된탄소성분및/또는규소질을포함하여, 식물(작물)의성장과토질의개선을효과적으로구현할수 있으며, 친환경성을도모한다.

6. 发明公开

KR1020150045540A 친환경적 수용성 나노입자의 토양제 및 그 제조방법 有权
标题翻译：具有环境友好和可溶性的纳米颗粒的土壤应用改进材料及其制造方法
公开(公告)号：KR1020150045540A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：KR1020130124338
申请日：2013-10-18
申请人： (주)씨지에프테크놀로지 , (주)엠에스티테크놀로지
发明人： 송운강 , 김영욱 , 김배연 , 김기윤 , 김기태 , 함재호 , 마마에브세르게이 , 마마에바베라
IPC分类号： C09K17/48 , C09K17/00 , C05D9/00
摘要： 본발명은비료등으로사용할수 있는친환경적수용성나노입자의토양제및 그제조방법에관한것이다. 본발명은슌기트(shungite) 광물로부터추출된탄소성분과규소질을포함하는토양제를제공한다. 또한, 본발명은, 슌기트(shungite) 광물을분쇄하는제1단계; 및상기분쇄된슌기트(shungite) 광물과알칼리용액을혼합, 가열하여탄소성분과규소질을추출하는제2단계를포함하는토양제의제조방법을제공한다. 본발명에따르면, 슌기트(shungite) 광물로부터추출된탄소성분및/또는규소질을포함하여, 식물(작물)의성장과토질의개선을효과적으로구현할수 있으며, 친환경성을도모한다.
摘要翻译：本发明涉及可用作肥料的环保型水溶性纳米颗粒土壤增强剂及其制备方法。根据本发明，土壤增强剂包括从成矿矿物提取的碳成分和硅质。该制备方法包括研磨矿物矿物的第一步; 第二步是将碱性矿物与碱溶液混合，并加热混合溶液以提取从石榴石矿物中提取的碳成分和硅质。因此，本发明可以促进植物的生长，提高土壤质量，同时促进环境友好。

7. 发明授权

KR101419276B1 플라즈마 전해 산화에 의한 코팅 형성 방법 有权
标题翻译：通过等离子体电解氧化的涂覆方法
公开(公告)号：KR101419276B1
公开(公告)日：2014-07-15
申请号：KR1020130101492
申请日：2013-08-27
申请人： (주)엠에스티테크놀로지
发明人： 김배연 , 김기윤 , 김기태 , 함재호
IPC分类号： C25D11/00 , C25D11/04 , C25D21/12
CPC分类号： C25D11/024 , C25D21/12
摘要： A coating method by plasma electrolytic oxidation according to the invention is to coat a metal surface with electrolyte. The electric current with 50 mA/ to 100 mA/ of electric current density is applied with 350 V to 600 V of voltage, higher voltage than voltage applied during the remaining process is applied in early plasma electrolytic oxidation process, the rate of number of times between a positive voltage pulse and a negative voltage pulse is 1 : 1 to 2 : 1 in early plasma electrolytic oxidation process and is 30 : 1 to 50 : 1 after middle process when applying the voltage for the positive electrode and the negative electrode in a plasma electrolytic oxidation bath. The surface coating according to the invention has a coating thickness of 0.5 to 5, a surface roughness Ra50 of 0.5 to 10, and maintains a breakdown voltage of 1,000V or higher. Moreover, the invention can be efficiently applied when coating the upper part in a way to apply the electricity such as paint, Teflon, electro deposition coating, silane or coating solution using silane as a main component, coating or electro deposition coating of glass-ceramic, PVD, electroplating, etc.. In addition, the coating has an excellent physical property such as pencil hardness of 8H or greater, 5% NaCl salt water resistant spraying of 96 hours or longer, excellent cohesive property (KS M ISO 2409) (no separation), excellent impact resistance (KS D 6711) (no abrasion).
摘要翻译：根据本发明的通过等离子体电解氧化的涂布方法是用电解质涂覆金属表面。施加电流为50mA / 100mA /电流密度的电流为350V至600V的电压，在早期等离子体电解氧化过程中施加的剩余过程中施加的电压高于施加的电压，次数在早期等离子体电解氧化处理中，正电压脉冲和负电压脉冲之间的比例为1:1至2:1，并且在将正电极和负极施加电压之后的中间工艺为30:1至50:1 等离子体电解氧化浴。根据本发明的表面涂层具有0.5至5的涂层厚度，0.5至10的表面粗糙度Ra 50，并且保持1000V或更高的击穿电压。此外，当以涂料，特氟龙，电沉积涂料，硅烷或涂料溶液为主要成分涂覆上层部件时，可以有效地应用本发明，涂覆或电镀淀积玻璃陶瓷，PVD，电镀等。此外，涂层具有优异的物理性能，如铅笔硬度为8H以上，耐氯化钾盐水耐腐蚀性为96小时以上，耐粘着性优异（KS M ISO 2409）（无分离），优异的抗冲击性（KS D 6711）（无磨损）。

8. 发明授权

KR101419273B1 플라즈마 전해 산화에 의해 금속 표면에 투명층을 형성하는 방법 有权
标题翻译：通过等离子体电解氧化在金属表面形成透明层的方法
公开(公告)号：KR101419273B1
公开(公告)日：2014-07-15
申请号：KR1020130101495
申请日：2013-08-27
申请人： (주)엠에스티테크놀로지
发明人： 김배연 , 김기윤 , 김기태 , 함재호
IPC分类号： C25D5/00 , C25D21/12
CPC分类号： C25D11/024 , C25D11/06
摘要： A method for forming a transparent layer according to the invention is a plasma electrolytic oxidation method for forming the transparent layer on a metal surface by using electrolyte. The electric current with 50 mA/ to 100 mA/ of electric current density is applied with 350 V to 600 V of voltage, higher voltage than voltage applied during the remaining process is applied in early plasma electrolytic oxidation process, the rate of number of times between a positive voltage pulse and a negative voltage pulse is 10 : 1 to 1 : 1 when applying the voltage for the positive electrode and the negative electrode in a plasma electrolytic oxidation bath. The surface coating according to the invention maintains transparency and has an excellent physical property such as pencil hardness of 6H or greater, 5% NaCl salt water resistant spraying of 72 hours or longer, an excellent cohesive property (KS M ISO 2409) (no separation), excellent impact resistance (KS D 6711) (no abrasion) after coating an upper part of oxide film with a paint, a Teflon, an electro deposition coating, silane or a solution using silane as a main component, glass-ceramic, thereby allowing the transparent coating with excellent transparency or color for metal luster to be produced.
摘要翻译：根据本发明的形成透明层的方法是通过使用电解质在金属表面上形成透明层的等离子体电解氧化方法。施加电流为50mA / 100mA /电流密度的电流为350V至600V的电压，在早期等离子体电解氧化过程中施加的剩余过程中施加的电压高于施加的电压，次数在等离子体电解氧化浴中对正极和负极施加电压时，正电压脉冲和负电压脉冲之间的电压为10:1至1:1。根据本发明的表面涂层保持透明性并且具有优异的物理性能，例如铅笔硬度为6H或更高，耐水性为5％的NaCl盐水喷雾为72小时以上，具有优异的粘结性（KS M ISO 2409）（无分离），用油漆，特氟纶，电沉积涂料，硅烷或使用硅烷作为主要成分的溶液涂布氧化膜上部后的耐冲击性（KS D 6711）（无磨损），玻璃陶瓷允许生产具有优异透明度或颜色的透明涂层。

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