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1. 发明授权

KR101106116B1 공정챔버의 리크 검출 방법 有权
标题翻译：处理室泄漏检测方法
公开(公告)号：KR101106116B1
公开(公告)日：2012-01-20
申请号：KR1020090088613
申请日：2009-09-18
申请人： (주)쎄미시스코
发明人： 이순종 , 우봉주 , 김학권 , 강지호 , 엄준희 , 차영진
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/3065 , H01L21/02
摘要： 본 발명은 공정챔버의 리크 검출 방법을 개시한다. 상기 리크 검출 방법은 제품 생산시의 공정변화 후 공정챔버의 플라즈마 광 에미션들을 검출하여 광 에미션들의 인텐시티에 대한 피크값을 비교하고, 비교결과 스펙범위내에서 광 에미션들의 인텐시티 비교값에 대한 편차비율 변화량이 정상상태에서 기 설정된 편차비율에 해당되지 않을 경우에만 리크가 발생한 것으로 판단하도록 한 것이며, 이를 통해 공정챔버에서의 리크 발생여부를 오류없이 보다 정확하고 빠르게 판단함은 물론, 미세한 리크 검출이 가능하도록 하는 한편, 잦은 경보음 출력에 따른 공정진행의 방해원인을 제거한 것이다.
공정챔버, 리크, 플라즈마 광 에미션, 인텐시티, 스펙

2. 发明公开

KR1020110030936A 공정챔버의 리크 검출 방법 有权
标题翻译：过程室泄漏检测方法
公开(公告)号：KR1020110030936A
公开(公告)日：2011-03-24
申请号：KR1020090088613
申请日：2009-09-18
申请人： (주)쎄미시스코
发明人： 이순종 , 우봉주 , 김학권 , 강지호 , 엄준희 , 차영진
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/3065 , H01L21/02
摘要： PURPOSE: A method for detecting a leakage of a process chamber is provided to accurately determine whether a leakage occurs by checking whether a deviation rate change amount about the intensity comparison value of light emission corresponds to a preset deviation rate in a normal state. CONSTITUTION: A normal speculation deviation rate with regard to a peak value of reference intensity is set. A deviation rate of an actual peak value with regard to the intensity of plasma light emission is calculated. It is determined whether the deviation rate of the calculated actual peak value corresponds to the normal specification deviation rate with regard to the peak value of the preset intensity. If the deviation rate of the actual peak value corresponds to the normal specification deviation rate, it is determined that a leakage does not occur. If the deviation rate of the actual peak value dose not correspond to the normal specification deviation rate, it is determined that a leakage occurs.
摘要翻译：目的：提供一种用于检测处理室泄漏的方法，以通过检查关于发光强度比较值的偏差率变化量是否对应于正常状态下的预设偏差率来准确地确定是否发生泄漏。构成：设定关于参考强度的峰值的正常猜测偏差率。计算关于等离子体发光强度的实际峰值的偏差率。确定计算出的实际峰值的偏差率是否对应于关于预设强度的峰值的正常规格偏差率。如果实际峰值的偏差率对应于正常规格偏差率，则确定不发生泄漏。如果实际峰值的偏差率不符合正常规格偏差率，则判断为发生泄漏。

3. 发明授权

KR101316039B1 수광장치와 이를 이용한 기판 품질검사장치 有权
标题翻译：接收设备和玻璃透明膜检查使用此设备
公开(公告)号：KR101316039B1
公开(公告)日：2013-10-10
申请号：KR1020120046420
申请日：2012-05-02
申请人： (주)쎄미시스코
发明人： 이순종 , 우봉주 , 최성진 , 차영진
IPC分类号： G01N21/88
摘要： PURPOSE: A light receiving device and a substrate quality testing device using the same are provided to improve the performance for testing the quality of a substrate via the quality testing device by increasing the performance of the receiving lights penetrating through the substrate. CONSTITUTION: A light receiving device includes a light receiving body (10), a screen (20), and an image processing unit (30). The light receiving body includes a light receiving opening unit (11) in which lights penetrating through a substrate on the bottom surface and forms a darkroom. The screen is formed on the inner end portion of the light receiving body, and a shadow image of a substrate surface is projected by the lights incident via the light receiving opening unit. The image processing unit aligned with the screen in a row is formed on the other inner end portion of the light receiving body while the focus is adjusted and photographs the shadow image projected on the screen.
摘要翻译：目的：提供一种光接收装置和使用该光接收装置的基板质量检测装置，以通过提高穿透基板的接收光的性能，通过质量检测装置来提高测试基板质量的性能。构成：光接收装置包括光接收体（10），屏幕（20）和图像处理单元（30）。光接收体包括光接收开口单元（11），其中光穿透底表面上的基板并形成暗室。屏幕形成在光接收体的内端部分上，并且通过经由光接收开启单元入射的光来投射基板表面的阴影图像。在调整焦点的同时，在光接收体的另一内端部上形成与行的屏幕对齐的图像处理单元，并拍摄投影在屏幕上的阴影图像。

4. 发明授权

KR101126363B1 분광기의 입사광 조절장치 失效
标题翻译：装置调整光谱仪的入射光
公开(公告)号：KR101126363B1
公开(公告)日：2012-03-23
申请号：KR1020100038040
申请日：2010-04-23
申请人： (주)쎄미시스코
发明人： 이순종 , 우봉주 , 최성진 , 차영진
IPC分类号： G01J3/04 , G01J3/02
摘要： 본 발명은 분광기의 입사광 조절장치를 제공한다. 본 발명에 따른 분광기의 입사광 조절장치는 검사대상물의 광학포트 전면 투명창에 위치하여 광 에미션을 수집하는 광 파이버; 상기 광 파이버에 수집된 광 에미션을 분광기로 입사시키는 분광기 슬릿; 상기 분광기 슬릿 전방에 구비되고, 중앙에 상기 광 파이버가 결합되며, 상기 광 파이버의 중심이 상기 분광기 슬릿에 일치하도록 상기 광 파이버의 각도를 보정하는 조절부재를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 분광기의 입사광 조절장치에 따르면, 분광기에 결합되는 광 파이버들의 중심이 분광기의 슬릿에 일치되도록 광 파이버들의 각도를 보정함으로써, 광 파이버에 수집된 광 에미션이 분광기의 슬릿에 최대 강도로 입사되며, 아울러 분광기에 수집된 광 에미션의 스펙트럼을 보다 정확히 분석할 수 있게 되어 검사 대상물 내의 리크 발생 여부를 보다 정밀하게 검출할 수 있게 된다.

5. 发明授权

KR101088486B1 분광기의 슬릿유닛 구조 失效
标题翻译：分析仪的SLIT UNIT结构
公开(公告)号：KR101088486B1
公开(公告)日：2011-11-30
申请号：KR1020100073414
申请日：2010-07-29
申请人： (주)쎄미시스코
发明人： 이순종 , 우봉주 , 이동석 , 민코올렉 , 차영진
IPC分类号： G01J3/04
CPC分类号： G01J3/04 , G01J3/02 , G01J3/0202 , G02B7/003
摘要： PURPOSE: A slit unit structure of a spectrometer is provided to precisely perform the spectrum concentration of emitted light by preventing the incident angle error of the light. CONSTITUTION: A slit unit structure of a spectrometer comprises a slit bracket(10), a holder(20), a separator(30), a mode striper(40), and a slit(50). The slit bracket is formed in an L-shape. A terminal(11) is formed in one end of the slit bracket, and a coupling flange is protruded from the other end. The holder has a mounting hole(21) in which the coupling flange is inserted. Position alignment grooves are formed in the corners of the mounting hole. The separator is inserted into the mounting hole of the holder. The mode striper is inserted into the mounting hole at the rear end of the separator. The slit is coupled between the coupling flange and the separator.
摘要翻译：目的：提供光谱仪的狭缝单元结构，以通过防止光的入射角误差精确地执行发射光的光谱浓度。构成：光谱仪的狭缝单元结构包括狭缝支架（10），保持器（20），隔板（30），模式剥离器（40）和狭缝（50）。狭缝支架形成为L形。端子（11）形成在狭缝支架的一端，并且联接凸缘从另一端突出。支架具有安装孔（21），连接法兰被插入其中。位置对准槽形成在安装孔的角部。分离器插入支架的安装孔中。模式分条器插入分离器后端的安装孔中。狭缝联接在联接法兰和分离器之间。

6. 发明公开

KR1020110118447A 분광기의 입사광 조절장치 失效
标题翻译：装置调整光谱仪的入射光
公开(公告)号：KR1020110118447A
公开(公告)日：2011-10-31
申请号：KR1020100038040
申请日：2010-04-23
申请人： (주)쎄미시스코
发明人： 이순종 , 우봉주 , 최성진 , 차영진
IPC分类号： G01J3/04 , G01J3/02
摘要： 본 발명은 분광기의 입사광 조절장치를 제공한다. 본 발명에 따른 분광기의 입사광 조절장치는 검사대상물의 광학포트 전면 투명창에 위치하여 광 에미션을 수집하는 광 파이버; 상기 광 파이버에 수집된 광 에미션을 분광기로 입사시키는 분광기 슬릿; 상기 분광기 슬릿 전방에 구비되고, 중앙에 상기 광 파이버가 결합되며, 상기 광 파이버의 중심이 상기 분광기 슬릿에 일치하도록 상기 광 파이버의 각도를 보정하는 조절부재를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 분광기의 입사광 조절장치에 따르면, 분광기에 결합되는 광 파이버들의 중심이 분광기의 슬릿에 일치되도록 광 파이버들의 각도를 보정함으로써, 광 파이버에 수집된 광 에미션이 분광기의 슬릿에 최대 강도로 입사되며, 아울러 분광기에 수집된 광 에미션의 스펙트럼을 보다 정확히 분석할 수 있게 되어 검사 대상물 내의 리크 발생 여부를 보다 정밀하게 검출할 수 있게 된다.

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