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1. 发明授权

KR101828293B1 진공증착에 의한 나노구조체 패턴 형성방법, 이를 이용한 센서 소자의 제조방법 및 이에 의해 제조된 센서 소자 有权
公开(公告)号：KR101828293B1
公开(公告)日：2018-03-23
申请号：KR1020160095038
申请日：2016-07-26
申请人： (재)한국나노기술원
发明人： 박형호 , 황선용 , 이근우 , 임웅선 , 윤홍민 , 고유민 , 조주영 , 정상현 , 성호근 , 박경호 , 박원규
IPC分类号： C23C14/04 , C23C14/54 , C23C14/06 , C23C14/58 , H01L21/033 , H01L29/78 , G01N27/414
摘要： 본발명은진공증착공정을이용하여나노구조체패턴을형성하기위한것으로서, 기재상부의일부영역을노출시키는마스크패턴층을형성하는제1단계와, 상기기재의노출된영역및 상기마스크패턴층상부에나노구조체의성장을위해필요한나노구조체의최소임계반지름을만족하는진공증착조건을설정하는제2단계와, 진공증착공정에의해상기기재의노출된영역및 상기마스크패턴층상부에나노구조체를성장시키는제3단계및 상기마스크패턴층을제거하여, 상기기재의노출된영역에나노구조체를형성하여상기기재상부에나노구조체패턴을형성하는제4단계를포함하여이루어지는것을특징으로하는진공증착에의한나노구조체패턴형성방법, 이를이용한센서소자의제조방법및 이에의해제조된센서소자를기술적요지로한다. 이에의해본 발명은나노구조체의성장을위해필요한나노구조체의최소임계반지름을만족하는진공증착조건을설정하여진공증착공정을이용하여기재상부에나노구조체패턴을형성함으로써, 공정이간단하면서균일한나노구조체분포를가지는나노구조체패턴의형성이용이하며, 열처리공정이필요하지않아고온에취약한고분자기판과같은유연기판상에서의나노구조체패턴을형성할수 있고, 나노구조체의형태및 두께변형등을최소화함으로써고품질의소자를제공할수 있는이점이있다.

2. 发明公开

KR1020180012387A 진공증착에 의한 하이브리드 패턴 형성방법, 이를 이용한 센서 소자의 제조방법 및 이에 의해 제조된 센서 소자 有权
标题翻译：通过真空沉积的混合图案形成方法，使用该方法制造传感器元件的方法以及通过该方法制造的传感器元件
公开(公告)号：KR1020180012387A
公开(公告)日：2018-02-06
申请号：KR1020160095040
申请日：2016-07-26
申请人： (재)한국나노기술원
发明人： 박형호 , 황선용 , 이근우 , 임웅선 , 윤홍민 , 고유민 , 정해용 , 조주영 , 최재원 , 정상현 , 최영수 , 강성민 , 최원명 , 조영대 , 성호근 , 박경호 , 박원규
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , H01L29/06 , H01L29/41 , H01L21/203 , H01L21/306 , H01L21/02 , H01L21/324 , H01L21/033
CPC分类号： G03F7/2022 , H01L21/02118 , H01L21/02315 , H01L21/0274 , H01L21/0337 , H01L21/203 , H01L21/30604 , H01L21/324 , H01L29/0665 , H01L29/413
摘要： 본발명은진공증착공정을이용하여금속나노구조체패턴을형성하기위한것으로서, 기재상부의일부영역을노출시키는마스크패턴층을형성하는제1단계와, 상기기재의노출된영역및 상기마스크패턴층상부에금속나노구조체의성장을위해필요한금속나노구조체의최소임계반지름을만족하는진공증착조건을설정하는제2단계와, 진공증착공정에의해상기기재의노출된영역및 상기마스크패턴층상부에금속나노구조체를성장시키는제3단계와, 상기마스크패턴층을제거하여, 상기기재의노출된영역에금속나노구조체를형성하여상기기재상부에금속나노구조체패턴을형성하는제4단계및 상기금속나노구조체를이용하여상기기재의일부영역을습식식각하여하이브리드패턴을형성하는제5단계를포함하여이루어지는것을특징으로하는진공증착에의한하이브리드패턴형성방법을기술적요지로한다. 이에의해본 발명은금속나노구조체의성장을위해필요한금속나노구조체의최소임계반지름을만족하는진공증착조건을설정하여진공증착공정을이용하여기재상부에금속나노구조체패턴을형성하고이를이용하여기재를습식식각하여기재의일부영역에하이브리드패턴을제공하고자하는것이다.
摘要翻译：本发明提供一种使用真空沉积工艺形成金属纳米结构图案的方法，所述方法包括：第一步骤，形成暴露所述衬底的部分上表面的掩模图案层; 金属纳米第二步骤来设置真空沉积条件满足用于该结构的生长所需的金属纳米结构的最小临界半径，并在区域中的金属通过真空沉积工艺和衬底纳米的掩膜图案层上曝光生长结构中，通过去除掩模图案层的第三步骤，第四步骤和所述金属纳米结构，以形成在所述衬底的曝光区域的金属纳米结构，以形成在衬底顶部上的金属纳米结构图案以及第五步骤，通过使用真空气相沉积方法湿法蚀刻部分基材来形成混合图案。而作为一个技术基础。这种做发明是基材使用真空沉积工艺来设置真空沉积条件满足对金属纳米结构的生长所需要的金属纳米结构的最小临界半径，以形成金属纳米结构图案，以在基底顶部，并使用此湿法蚀刻以在衬底的一部分中提供混合图案。

3. 发明公开

KR20180012386A 진공증착에 의한 나노구조체 패턴 형성방법 및 이를 이용한 센서 소자 有权
标题翻译：通过真空沉积和传感器装置形成纳米结构图案的方法
公开(公告)号：KR20180012386A
公开(公告)日：2018-02-06
申请号：KR20160095039
申请日：2016-07-26
申请人： (재)한국나노기술원
发明人： 박형호 , 황선용 , 이근우 , 임웅선 , 윤홍민 , 고유민 , 최재원 , 정상현 , 강성민 , 성호근 , 박경호 , 박원규
IPC分类号： B82B3/00 , B82Y15/00 , B82Y40/00 , C23C14/02 , C23C14/04 , C23C14/06 , C23C14/24 , C23C14/34 , C23C14/58
CPC分类号： B82B3/0038 , B82Y15/00 , B82Y40/00 , C23C14/02 , C23C14/042 , C23C14/06 , C23C14/24 , C23C14/34 , C23C14/5806 , C23C14/5826
摘要： 본발명은진공증착공정을이용하여나노구조체패턴을형성하기위한것으로서, 기재를준비하는제1단계와, 상기기재상부의일부영역을노출시키는마스크패턴층을형성하는제2단계와, 상기기재의노출된영역및 상기마스크패턴층상부에나노구조체의성장을위해필요한나노구조체의최소임계반지름을만족하는진공증착조건을설정하는제3단계와, 진공증착공정에의해상기기재의노출된영역및 상기마스크패턴층상부에나노구조체를성장시키는제4단계및 상기마스크패턴층을제거하여, 상기기재의노출된영역에나노구조체를형성하여상기기재상부에나노구조체패턴을형성하는제5단계;를포함하여이루어지되, 상기제1단계의기재의표면을소수성표면처리후 상기제2단계의마스크패턴층을형성하거나, 상기제2단계의마스크패턴층을형성한후에, 상기기재상부의노출된일부영역을소수성표면처리하는것을특징으로하는진공증착에의한나노구조체패턴형성방법및 이를이용한센서소자를기술적요지로한다. 이에의해본 발명은나노구조체의성장을위해필요한나노구조체의최소임계반지름을만족하는진공증착조건을설정하여진공증착공정을이용하여기재상부에나노구조체패턴을형성함으로써, 공정이간단하면서균일한나노구조체분포를가지는나노구조체패턴의형성이용이하며, 열처리공정이필요하지않아고온에취약한고분자기판과같은유연기판상에서의나노구조체패턴을형성할수 있고, 나노구조체의형태및 두께변형등을최소화함으로써고품질의소자를제공할수 있는이점이있다.
摘要翻译：在本发明中，作为利用真空沉积工艺形成纳米结构图案，准备基板的第一步骤中，形成掩模图案层的第二工序到所述衬底以暴露所述上，所述衬底的所述部分第三步骤，设定真空沉积条件，该真空沉积条件满足在暴露区域和掩模图案层上生长纳米结构所需的纳米结构的最小临界半径; 在掩模图案层上生长纳米结构的第四步骤和除去掩模图案层并在衬底的暴露区域上形成纳米结构以在衬底上形成纳米结构图案的第五步骤其中第二阶掩模图案层是在对第一步骤的衬底表面进行疏水表面处理之后或者在形成第二步骤的掩模图案层之后形成的，和传感器元件的纳米结构的图案形成通过真空蒸发和通过该方法，其特征在于在与一个子区域的技术基础，疏水表面处理。因此，通过处理完毕发明通过设置真空沉积条件满足对使用真空沉积过程中银纳米结构的生长所需要的纳米结构的最小临界半径，以形成在基板上，一个和该过程的纳米结构图案是简单的，均匀的纳米结构可以形成在易受高温影响的柔性衬底（例如聚合物衬底）上的纳米结构图案，并且可以最小化纳米结构的形状和厚度变形，等等。

4. 发明授权

KR101886056B1 진공증착에 의한 나노구조체 패턴 형성방법 및 이를 이용한 센서 소자 有权
公开(公告)号：KR101886056B1
公开(公告)日：2018-08-08
申请号：KR1020160095039
申请日：2016-07-26
申请人： (재)한국나노기술원
发明人： 박형호 , 황선용 , 이근우 , 임웅선 , 윤홍민 , 고유민 , 최재원 , 정상현 , 강성민 , 성호근 , 박경호 , 박원규
IPC分类号： B82B3/00 , B82Y15/00 , B82Y40/00 , C23C14/04 , C23C14/02 , C23C14/06 , C23C14/24 , C23C14/58 , C23C14/34
摘要： 본발명은진공증착공정을이용하여나노구조체패턴을형성하기위한것으로서, 기재를준비하는제1단계와, 상기기재상부의일부영역을노출시키는마스크패턴층을형성하는제2단계와, 상기기재의노출된영역및 상기마스크패턴층상부에나노구조체의성장을위해필요한나노구조체의최소임계반지름을만족하는진공증착조건을설정하는제3단계와, 진공증착공정에의해상기기재의노출된영역및 상기마스크패턴층상부에나노구조체를성장시키는제4단계및 상기마스크패턴층을제거하여, 상기기재의노출된영역에나노구조체를형성하여상기기재상부에나노구조체패턴을형성하는제5단계;를포함하여이루어지되, 상기제1단계의기재의표면을소수성표면처리후 상기제2단계의마스크패턴층을형성하거나, 상기제2단계의마스크패턴층을형성한후에, 상기기재상부의노출된일부영역을소수성표면처리하는것을특징으로하는진공증착에의한나노구조체패턴형성방법및 이를이용한센서소자를기술적요지로한다. 이에의해본 발명은나노구조체의성장을위해필요한나노구조체의최소임계반지름을만족하는진공증착조건을설정하여진공증착공정을이용하여기재상부에나노구조체패턴을형성함으로써, 공정이간단하면서균일한나노구조체분포를가지는나노구조체패턴의형성이용이하며, 열처리공정이필요하지않아고온에취약한고분자기판과같은유연기판상에서의나노구조체패턴을형성할수 있고, 나노구조체의형태및 두께변형등을최소화함으로써고품질의소자를제공할수 있는이점이있다.

5. 发明授权

KR101758305B1 벤트홀이 형성된 마이크로 히터의 제조방법 및 이에 의해 제조된 마이크로 히터 有权
标题翻译：一种制造其中形成通气孔的微型加热器和微型加热器的方法
公开(公告)号：KR101758305B1
公开(公告)日：2017-07-27
申请号：KR1020150191134
申请日：2015-12-31
申请人： (재)한국나노기술원
发明人： 성호근 , 박범두 , 이희관 , 이용수 , 최원명 , 황선용 , 유정상
IPC分类号： H05B3/10 , H05B3/14 , H05B3/03 , H05B3/06 , H05B3/78
摘要： 본발명은마이크로히터의제조방법및 이에의해제조된마이크로히터에관한것으로서, 기판상에멤브레인을형성할물질을증착하고, 이를패터닝하여캐버티형(cavity type) 멤브레인을형성하는제1단계와, 상기멤브레인상에전극을형성할물질을증착하고, 이를패터닝하여전극패턴을형성하는제2단계와, 상기전극패턴을패터닝하여상기전극패턴에상기멤브레인의캐버티와연통하는상부벤트홀(top vent-hole)을형성하는제3단계및 상기기판의뒷면을패터닝하여에칭하여상기상부벤트홀과연통하는하부벤트홀(bottom vent-hole)을형성하는제4단계를포함하여이루어진것을특징으로하는벤트홀이형성된마이크로히터의제조방법및 이에의해제조된마이크로히터를기술적요지로한다. 이에의해마이크로히터의탑(top) 부분에상부벤트홀(top vent-hole)을형성하여온도변화에따른캐버티(cavity) 내부의절대압력변화에의한구조적안정성을향상시키고, 상부벤트홀을멤브레인이아닌전극이나금속요소에형성함으로써, 멤브레인에작용하는물리적인스트레스를최소화하여온도및 압력이급격하게변하는환경등에서도널리활용할수 있는마이크로히터를제공하는이점이있다.
摘要翻译：本发明的第一个步骤，以形成沉积材料，以在基板上形成膜，通过图案化型腔模具（腔型）膜涉及一种用于制造微型加热器，因此微型加热器通过制备用于沉积材料以形成在膜上的电极，并且通过图案化该图案化形成电极图案的第二步骤上通气孔，电极图案连通与膜的电极图案中的腔体（顶部排气 5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述基板的背面形成图案并蚀刻所述基板的背面以形成与所述上通气孔连通的底部通气孔，公开了一种制造微型加热器的方法和通过该方法制造的微型加热器。因此，通过形成上通气孔（顶部泄孔）到微加热器的顶部（顶端）部分，以提高绝对压力变化的在腔（空腔）的结构稳定性由于通过膜的温度变化到上通风孔有可能提供一种微型加热器，即使在通过最小化作用于膜上的物理应力而使温度和压力迅速改变的环境中也可以广泛使用。

6. 发明公开

KR1020170075899A 양면 패턴의 제조 방법 및 그에 의해 제조된 양면 패턴 审中-实审
标题翻译：使用该双面图案和转印带的制造方法，
公开(公告)号：KR1020170075899A
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：KR1020150185323
申请日：2015-12-23
申请人： (재)한국나노기술원
发明人： 박형호 , 황선용 , 정상현 , 박경호 , 박원규
IPC分类号： B05D7/24 , B05D7/04 , B05D1/26 , B05D3/00 , B05C5/02
摘要： 본발명은양면패턴의제조방법및 그에의해제조된양면패턴에관한것으로서, 고분자기판상에미세구조체패턴이형성된제1스탬프를위치시켜열간성형하여상기고분자기판에상기제1스탬프의미세구조체패턴과역상인제1패턴을각인시키는제1단계와, 상기제1패턴이각인된고분자기판에서상기제1스탬프를분리하여, 상기고분자기판상에제1패턴을성형하는제2단계와, 상기제1패턴이형성된고분자기판상에유동성재료를도포하여, 상기제1패턴과역상인하측패턴을상기유동성재료하측면에형성하는제3단계와, 상기도포된유동성재료상에미세구조체패턴이형성된제2스탬프를위치시켜가압하고, 경화공정을수행하여상기유동성재료상측면에상기제2스탬프의미세구조체패턴과역상인상측패턴을각인시키는제4단계및 상기타측패턴이각인된유동성재료에서상기제2스탬프를분리하여, 상기고분자기판상에유동성재료로이루어진양면패턴을성형하는제5단계를포함하여이루어지는것을특징으로하는양면패턴의제조방법및 이에의해제조된양면패턴을그 기술적요지로한다. 이에의해본 발명은간단한공정에의해양면패턴을동시에성형할수 있으며, 이후이종의기판또는박막에용이하게전사할수 있어다양한분야에의활용이가능한효과가있다.
摘要翻译：本发明涉及的制造方法，因此通过将第一压模通过热形成具有微结构图案到所述第一压模与聚合物基体的聚合物基体的微结构图案由双面图案制造的双面模式，和通过将第一印模与其上印有第一图案的聚合物基材分离而在聚合物基材上形成第一图案的第二步骤和在聚合物基材上形成第一图案的第二步骤，在释放聚合物基底上施加流体材料以在流体材料的下侧上形成反相降低图案的第三步骤，在施加的流体材料上形成微结构图案的第二步骤，第四步骤，通过在第二印模的侧面上进行固化处理，在流体材料的相对侧上用第二印模的微结构图案浸渍第二印模，第五步，在聚合物基片上分离并形成由流体材料制成的双面图案。本发明还提供了一种制造双面图案的方法和由此制造的双面图案。本发明可以通过简单的工艺同时形成双面图案，并且可以容易地转移到不同类型的衬底或薄膜上，从而可以应用于各种领域。

7. 发明公开

KR1020170020600A 대면적 적층 구조 전극의 형성 방법 无效
标题翻译：用于形成大面积堆叠结构电极的方法
公开(公告)号：KR1020170020600A
公开(公告)日：2017-02-23
申请号：KR1020150113923
申请日：2015-08-12
申请人： (재)한국나노기술원
发明人： 황선용 , 신기수
IPC分类号： H01B13/00 , B32B15/01 , H01M4/00 , H01G4/005
摘要： 본발명은대면적적층구조전극의형성방법에관한것으로서, 서로상이한이온화경향을갖는제1 금속및 제2 금속을이용하여적층구조를형성하는단계, 및상기적층구조를전원의일단에연결하고, 바람직하게는상기제1 금속및 제2 금속보다이온화경향이낮은제3 물질을상기전원의타단에연결하는단계를포함하되, 상기적층구조및 상기제3 물질은전해질수용액에담겨진것을특징으로한다. 본발명에따르면짧은공정시간을가지며, 대량생산이가능한대면적적층구조전극의형성방법을제공한다.

8. 发明授权

KR101419530B1 태양 전지의 그리드 전극을 전해 도금으로 형성하는 방법 有权
标题翻译： Sollar电池电极电镀方法
公开(公告)号：KR101419530B1
公开(公告)日：2014-07-15
申请号：KR1020120156760
申请日：2012-12-28
申请人： (재)한국나노기술원
发明人： 황선용 , 신현범 , 강호관 , 고철기
IPC分类号： C25D7/00 , H01L31/042 , C25D21/02 , C25D5/48
CPC分类号： Y02E10/50
摘要： 본 발명은 태양 전지의 자가 생성 전류를 이용하여, 태양 전지의 전극을 전해 도금으로 형성하는 방법에 있어서, 에너지를 전달했을 때, 정공-전자쌍이 생성되는 태양 전지 기판을 도금 용액에 담그는 제1단계와, 상기 태양 전지가 전력을 생성하기 위해 필요한 에너지 전달 조건을 변경하여 에너지를 전달하는 제2단계 및 상기 태양 전지의 자가 생성 전력으로 상기 태양 전지 기판 상의 전극 영역에 상기 태양 전지의 전극 형성을 위한 도금을 진행하는 제3단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 태양 전지의 전극을 전해 도금으로 형성하는 방법을 기술적 요지로 한다. 이에 의해 태양 전지의 발전 전류를 이용하여 특정 영역에 선택적으로 전해 도금이 가능한 공정이기 때문에, seed-metal이 필요없으므로, 공정 시간 및 비용을 절감시키며, 공정의 단순화에 따른 태양 전지의 특성을 향상시키고, 태양 전지가 전류를 생성하기 위한 광원 전달 조건을 다양하게 변경하여, 그리드 전극의 도금 속도, 밀도, 구조 등 특성을 조절할 수 있어, 사용하고자 하는 태양 전지의 특성에 적합한 고품질의 전극을 형성할 수 있는 이점이 있다.

9. 发明授权

KR101419523B1 나노패턴을 가지는 금속 필름의 제조방법 有权
标题翻译：具有纳米图案的金属膜的制造方法
公开(公告)号：KR101419523B1
公开(公告)日：2014-07-14
申请号：KR1020120155896
申请日：2012-12-28
申请人： (재)한국나노기술원
发明人： 김창환 , 황선용 , 정상현 , 신현범 , 강호관 , 고철기
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 본 발명은 나노패턴을 가지는 금속 필름을 제조하는 방법에 관한 것으로서, 나노패턴을 가지는 금속 필름을 제조하는 방법에 있어서, 기판 상층에 희생층을 형성하는 제1단계와, 상기 희생층 상층에 도금을 위한 시드층을 형성하는 제2단계와, 전기 도금을 통하여 상기 시드층 상에 금속 필름을 형성하는 제3단계와, 상기 금속 필름 상층에 감광성 수지층을 형성한 후 노광 패터닝 및 현상 공정을 거쳐 상기 금속 필름 상층에 감광성 수지로 이루어진 나노패턴을 형성하는 제4단계 및 상기 희생층을 제거하여 상기 기판으로부터 나노패턴이 형성된 금속 필름을 분리시키는 제5단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노패턴을 가지는 금속 필름의 제조방법을 기술적 요지로 한다. 이에 의해 본 발명은 공정의 단순화로 공정 비용 및 공정 시간을 절감시키면서 100nm 이하의 미세한 나노패턴을 균일하게 형성시킬 수 있으며, 간단하게 나노패턴을 가지는 금속 필름을 제조할 수 있는 이점이 있다.

10. 发明公开

KR1020140081202A 나노임프린트 리소그래피와 도금 공정을 이용한 나노패턴이 형성된 금속 필름 제조방법 无效
标题翻译：使用纳米压印和镀层的纳米图案薄膜的制造方法
公开(公告)号：KR1020140081202A
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：KR1020120150720
申请日：2012-12-21
申请人： (재)한국나노기술원
发明人： 박형호 , 황선용 , 윤홍민 , 신현범 , 성호근 , 강호관 , 고철기
IPC分类号： G03F7/26 , G03F7/11
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y30/00 , G03F7/11 , G03F7/2002 , H01L21/0274 , H01L21/288
摘要： The present invention relates to a method for manufacturing a nano-patterned metal film. In terms of a method for manufacturing a nano-patterned metal film, the method for manufacturing a nano-patterned metal film using a nano-imprint lithography and a plating process comprises: a first step where a resin layer is formed on the upper layer of a substrate; a second step where nano-pattern is formed on the resin layer by an imprinting and a hardening process after locating a stamp for imprinting on the resin layer; a third step where a seed layer is vapour-deposited on the nano-patterned resin layer; a fourth step where a metal layer is formed on the seed layer by a plating process; and a fifth step where a nano-patterned metal film is produced by separating the seed and metal layers from the substrate after removing the resin layer. Hence, the present invention uses a nano-imprint lithography and a plating process which reduces cost and time for processing by simplifying the processes. Also, a nano-patterned metal film can simply be produced.
摘要翻译：本发明涉及一种纳米图案化金属膜的制造方法。关于纳米图案化金属膜的制造方法，使用纳米压印光刻法和电镀法制造纳米图案化金属膜的方法包括：第一步骤，在上层形成树脂层底物; 第二步，其中在定影用于压印的印模在树脂层上之后通过压印和硬化处理在树脂层上形成纳米图案; 第三步骤，将种子层气相沉积在纳米图案化树脂层上; 第四步骤，通过电镀工艺在种子层上形成金属层; 以及第五步骤，其中通过在除去树脂层之后从晶片和金属层中分离晶种和金属层来制造纳米图案化的金属膜。因此，本发明使用纳米压印光刻和电镀工艺，其通过简化工艺来降低处理的成本和时间。此外，可以简单地制造纳米图案化金属膜。

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