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1. 发明授权

KR101681753B1 메타-열경화 임프린팅과 포토리소그래피 공정에 의한 금속 산화물 복합 구조체 제조방법 有权
标题翻译： - 使用元热压印和光刻法制备金属氧化物复合结构的方法
公开(公告)号：KR101681753B1
公开(公告)日：2016-12-02
申请号：KR1020150001430
申请日：2015-01-06
申请人： (재)한국나노기술원
发明人： 박형호 , 김서연 , 허은진 , 신현범 , 성호근 , 강호관 , 박경호 , 박원규
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/004
摘要： 본발명은금속산화물복합구조체의제조방법에관한것으로서, 기판또는박막의상부에감광성금속-유기물전구체층을형성하는단계와, 상기감광성금속-유기물전구체층을제1패턴이형성된임프린트용스탬프로가압하되, 상기감광성금속-유기물전구체층이완전경화되는온도보다낮고임계경화되는온도보다높은온도로열경화를수행하는메타-열경화임프린팅단계와, 상기임프린트용스탬프를상기감광성금속-유기물전구체층으로부터제거하는단계와, 상기패턴된감광성금속-유기물전구체층상단에제2패턴이형성된포토마스크를위치시킨후, 완전경화도즈이상으로자외선또는열을조사하여금속산화박막패턴층을형성하는완전경화포토리소그래피단계와, 상기경화가완료된금속산화박막패턴층을현상(Developing)하여, 상기제1패턴과제2패턴이복합적으로구현된금속산화물복합구조체를형성하는단계를포함하여이루어지는것을특징으로하는메타-열경화임프린팅과포토리소그래피공정에의한금속산화물복합구조체제조방법을기술적요지로한다. 이에의해이종(異種)의패턴이복합적으로구현된금속산화물구조체의제공이용이하며, 완전경화가되지않을정도의온도에서임프린팅공정이진행되고, 그후 포토리소그래피공정에의해완전경화를수행하여, 식각공정이생략된중간경화공정을추가함으로써, 식각공정의횟수를줄일수 있어공정의단순화및 비용을절감시키는이점이있다.
摘要翻译：金属氧化物复合结构及其制备方法技术领域本发明涉及金属氧化物复合结构体及其制备方法，更具体地说，涉及通过间热固化压印和光刻工艺制备金属氧化物复合结构体的方法和由其制备的金属氧化物复合结构体。根据本发明，该方法包括：在晶片或薄膜的顶部形成光敏金属 - 有机材料前体层的步骤; 一种间热固化压印步骤，其中在低于将使光敏金属 - 有机材料前体层完全固化并高于将使其敏化固化的温度的温度下进行热固化，以及具有第一图案的压印印模用于向感光金属 - 有机材料前体层施加压力; 从感光金属 - 有机材料前体层去除印记印模的步骤; 完全固化光刻步骤，其中将具有第二图案的光掩模放置在上述图案化的感光金属 - 有机材料前体层上，然后以足够高的剂量进行UV辐射或加热以诱导完全固化，以产生金属氧化物薄膜图案层; 将上述固化的金属氧化物薄膜图案层显影以产生具有第一和第二图案的金属氧化物复合结构的步骤。根据本发明，可以容易地制备具有两种不同图案的金属氧化物结构，并且通过在不引起完全固化的温度下进行压印加工，随后进行完全固化，可以简化和减少工艺和成本通过光刻工艺，并且通过执行除了蚀刻工艺之外的中间固化工艺以减少蚀刻工艺的数量。

2. 发明授权

KR101775982B1 은 나노와이어를 이용한 나노 패턴 메탈 메쉬 구현 공정 방법 및 이를 이용한 하이브리드 메탈 메쉬 有权
公开(公告)号：KR101775982B1
公开(公告)日：2017-09-08
申请号：KR1020150182202
申请日：2015-12-18
申请人： (재)한국나노기술원
发明人： 임웅선 , 성호근 , 신현범 , 허은진 , 김신근
IPC分类号： H01B13/00 , H01B5/12 , H01B5/14
摘要： 본발명은은 나노와이어를이용한나노패턴메탈메쉬구현공정방법및 이를이용한하이브리드메탈메쉬에관한것으로서, 상기방법은, 기판상에은 나노와이어를분산하고, 제1 임프린트레진을이용하여상기은 나노와이어의패턴을본 뜨는패턴형성단계; 상기제1 임프린트레진에형성된상기패턴을제2 임프린트레진으로찍어내상기패턴을포함한메탈몰드를형성하는단계; 및제3 임프린트레진을포함한투명기판상에, 상기메탈몰드의상기패턴을찍어패턴을형성하고, 스퀴징(Squeezing) 및열 경화(Thermal Curing) 공정을거쳐메탈메쉬를형성하는단계를포함한다.

3. 发明公开

KR1020150073645A 비대칭형 금속 또는 금속산화물 나노구조체의 형성방법 有权
标题翻译：金属和金属氧化物的非对称纳米结构的制造方法
公开(公告)号：KR1020150073645A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：KR1020130161605
申请日：2013-12-23
申请人： (재)한국나노기술원
发明人： 박형호 , 허은진 , 김신근 , 이근우 , 신현범 , 성호근 , 박경호 , 강호관 , 김희중
IPC分类号： B82B3/00 , B29C67/00
CPC分类号： B82B3/0095 , B29C67/00
摘要： 본발명은비대칭형나노구조체의형성방법에관한것으로서, 기판또는박막상에임프린트층을형성하는제1단계와, 상기임프린트층상에가변형임프린트용스탬프를위치시켜, 상기가변형임프린트용스탬프의패턴을변형시키기위한압력또는방향으로가변형임프린트용스탬프를가압하고, 경화공정을수행하여비대칭패턴층을형성하는제2단계와, 상기비대칭패턴층의잔류막을제거하여기판또는박막의일부영역을노출시키는제3단계와, 상기노출된기판또는박막영역및 비대칭패턴층상에금속또는금속산화물을증착하는제4단계와, 상기비대칭패턴층을제거하여기판또는박막상에금속또는금속산화물패턴을형성하는제5단계를포함하여구성되는것을특징으로하는비대칭형금속또는금속산화물나노구조체의형성방법을기술적요지로한다. 이에의해간단한공정에의해대면적의비대칭형금속또는금속산화물나노구조체를얻을수 있으며, 상기가변형임프린트용스탬프의압력또는방향에따라패턴의비대칭성정도를조절할수 있어다양한분야에활용할수 있는이점이있다.
摘要翻译：本发明涉及不对称金属或金属氧化物纳米结构体的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：在基板或薄膜上形成压印层的第一工序; 用于在压印层上定位可变压印印模的第二步骤，以适于转换可变印记印模图案的压力和方向按压可变印记印模，并在其上进行固化处理以形成不对称图案层; 用于去除所述不对称图案层的残留膜以暴露所述衬底或所述薄膜的一部分的第三步骤; 第四步，用于在基板或薄膜的暴露部分上去除金属或金属氧化物; 以及用于去除所述不对称图案层以在所述基板或所述薄膜上形成金属或金属氧化物图案的第五步骤。因此，可以制造大面积不对称金属或金属氧化物纳米结构。此外，可以根据可变印记印模的压力或方向来调整图案的不对称程度，由此本发明可以用于各种领域。

4. 发明授权

KR101508185B1 3차원 금속 산화물 구조체 및 그 제조방법 有权
标题翻译：三维金属氧化物结构及其制备方法
公开(公告)号：KR101508185B1
公开(公告)日：2015-04-07
申请号：KR1020130137855
申请日：2013-11-13
申请人： (재)한국나노기술원
发明人： 김서연 , 박형호 , 허은진 , 장민철 , 강세민 , 신현범 , 강호관
IPC分类号： G03F7/00 , B29C59/02
CPC分类号： G03F7/0037 , G03F7/0002 , G03F7/0035 , G03F7/0045
摘要： 본발명에따르면기판또는박막의상부에감광성금속-유기물전구체층을형성하는감광층형성단계; 상기감광성금속-유기물전구체층을 1차광을사용하여포토리소그래피하며, 상기 1차광은완전경화도즈(Dose) 보다낮고임계도즈보다높은강도로조사하는메타-포토리소그래피단계; 상기감광성금속-유기물전구체층에패턴이형성된임프린트용스탬프로가압하여패턴을형성하는임프린팅단계; 상기감광성금속-유기물전구체층에완전경화도즈이상으로 2차광또는열을조사하여금속산화박막패턴층을형성하는포토리소그래피완료단계; 상기임프린트용스탬프를상기금속산화박막패턴층으로부터제거하고현상(Developing)하는단계를포함하는것을특징으로하는 3차원금속산화물구조체제조방법을제공한다. 이를통해일회의현상공정을통해두 가지패턴을함께새길수 있고, 임프린팅단계에서압력의집중이일어나지않아서공정을단순화하고패턴을정밀하게새길수 있다.
摘要翻译：根据本发明，提供了一种三维金属氧化物结构体的制造方法。该方法包括在基板或薄膜的上侧形成感光金属 - 有机材料前体层的感光层形成步骤; 使用以强度低于完全固化剂量并高于阈值剂量发射的第一光进行感光金属 - 有机材料前体层上的光刻的元光刻步骤; 通过用感光金属 - 有机材料前体层压印印模来形成图案的压印步骤; 通过用强度为全固化剂量或更高的第二光照射感光金属 - 有机材料前体层或通过向感光金属 - 有机材料前体层提供热量来形成金属氧化物薄膜图案层的光刻精加工步骤; 以及从感光金属氧化物薄膜图案层去除印模的印模并显影感光金属氧化物薄膜图案层的显影步骤。通过本发明的方法，可以通过一个显影步骤将两个图案印刷在一起，并且在印刷步骤期间压力不集中在一个区域上。因此，可以简化处理，并且可以精确地印刷图案。

5. 发明授权

KR101673971B1 메타-광경화 임프린팅 공정과 완전경화 포토리소그래피 공정에 의한 금속 산화물 복합 구조체 제조방법 有权
标题翻译： - 使用meta-UV印迹和光刻法制备金属氧化物复合结构的方法
公开(公告)号：KR101673971B1
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：KR1020150001431
申请日：2015-01-06
申请人： (재)한국나노기술원
发明人： 박형호 , 김서연 , 허은진 , 신현범 , 성호근 , 강호관 , 박경호 , 박원규
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/004
摘要： 본발명은금속산화물복합구조체제조방법에관한것으로서, 기판또는박막의상부에감광성금속-유기물전구체층을형성하는단계와, 상기감광성금속-유기물전구체층을제1패턴이형성된임프린트용스탬프로가압하되, 상기감광성금속-유기물전구체층이완전경화되는도즈보다낮고임계경화되는도즈보다높은도즈로광경화를수행하는메타-광경화임프린팅단계와, 상기임프린트용스탬프를상기감광성금속-유기물전구체층으로부터제거하는단계와, 상기패턴된감광성금속-유기물전구체층상단에제2패턴이형성된포토마스크를위치시킨후, 완전경화도즈이상으로자외선또는열을조사하여금속산화박막패턴층을형성하는완전경화포토리소그래피단계와, 상기경화가완료된금속산화박막패턴층을현상(Developing)하여, 상기제1패턴과제2패턴이복합적으로구현된금속산화물복합구조체를형성하는단계를포함하여이루어지는것을특징으로하는메타-광경화임프린팅공정과완전경화포토리소그래피공정에의한금속산화물복합구조체제조방법을기술적요지로한다. 이에의해이종(異種)의패턴이복합적으로구현된금속산화물구조체의제공이용이하며, 완전경화가되지않을정도의도즈에서임프린팅공정이진행되고, 그후 포토리소그래피공정에의해완전경화를수행하여, 식각공정이생략된중간경화공정을추가함으로써, 식각공정의횟수를줄일수 있어공정의단순화및 비용을절감시키는이점이있다.

6. 发明公开

KR1020150046912A 고출력 적색 발광다이오드의 제작방법 有权
标题翻译：大功率红色发光二极管的制造方法
公开(公告)号：KR1020150046912A
公开(公告)日：2015-05-04
申请号：KR1020130126493
申请日：2013-10-23
申请人： (재)한국나노기술원
发明人： 박형호 , 이근우 , 최재혁 , 허은진 , 김창환 , 문아영 , 김신근 , 성호근 , 신찬수 , 강호관 , 김희중
IPC分类号： H01L33/22 , H01L33/20
CPC分类号： H01L33/0079 , H01L21/308 , H01L33/22 , H01L2933/0016
摘要： 본발명은고출력적색발광다이오드의제작방법에관한것으로서, 나노스케일로표면요철을형성하여광추출효율을증대시키는적색발광다이오드의제조방법에있어서, 박막상층에유전체마스크층을형성하는단계와, 상기유전체마스크층상층에고분자층을형성하는단계와, 상기고분자층상층에자외선경화레진층또는감광성금속유기물전구체층을형성하는단계와, 패턴이형성된나노임프린트용스탬프를준비하는단계와, 상기자외선경화레진층또는감광성금속유기물전구체층을상기나노임프린트용스탬프로가압하고, 빛조사또는가열방법중 어느하나또는혼용한방법으로상기자외선경화레진층또는감광성금속유기물전구체층을경화하여레진패턴층또는금속산화박막패턴층을형성하는단계와, 상기나노임프린트용스탬프를상기레진패턴층또는금속산화박막패턴층으로부터제거하는단계와, 상기레진패턴층또는금속산화박막패턴층, 고분자층및 유전체마스크층을건식식각마스크로이용하여상기박막을건식식각하는단계와, 잔류된유전체마스크층을제거하는단계및 상기제거된유전체마스크층영역일부에리프트오프공정에의해전극패턴을형성하는단계를포함하여이루어진것을특징으로하는고출력적색발광다이오드의제조방법을기술적요지로한다. 이에의해, 적색발광다이오드의제조시나노임프린트공정과건식식각을이용하여박막의표면에대면적의균일한표면요철을형성하여나노러프닝(nano-roughening)을유도하여광추출효율이향상된적색발광다이오드를제공하는이점이있다.
摘要翻译：本发明涉及一种制造高功率红色发光二极管的方法，包括：在薄膜的上层上形成介电掩模层的步骤; 在介电掩模的上层形成聚合物层的步骤; 在聚合物层的上层形成紫外线固化性树脂层或感光性金属有机前体层的工序; 通过用光照射固化紫外线固化树脂层或感光金属 - 有机前体层来形成树脂图案层或金属氧化物薄膜图案层的步骤，加热方法或光辐射和加热方法的混合方法; 从树脂图案层或金属氧化物薄膜图案层去除纳米压印印模的步骤; 通过使用树脂图案层或金属氧化物薄膜图案层，聚合物层和介电掩模层作为干蚀刻掩模来干蚀刻薄膜的步骤; 去除残留电介质掩模层的步骤; 以及通过剥离处理在去除的电介质掩模层区域的一部分上形成电极图案的步骤。本发明在制造红色发光二极管时，使用纳米压印加工和干法蚀刻在薄膜表面上形成大的均匀的表面凹凸，并引起纳米粗糙化，从而提供具有提高的光提取效率的发光二极管。

7. 发明授权

KR101477038B1 정렬된 금속산화물 나노구조체에 금속나노입자가 결합된 하이브리드 나노구조체의 제조방법 및 그에 의한 하이브리드 나노구조체 有权
标题翻译：金属纳米颗粒与对称金属氧化物纳米结构和混合纳米结构的混合纳米结构的制备方法
公开(公告)号：KR101477038B1
公开(公告)日：2014-12-29
申请号：KR1020130159283
申请日：2013-12-19
申请人： (재)한국나노기술원
发明人： 박형호 , 허은진 , 김신근 , 신현범 , 성호근 , 박경호 , 강호관 , 김희중
IPC分类号： B82B3/00 , B82B1/00
CPC分类号： B82B3/0095 , B82Y40/00
摘要： The present invention relates to hybrid nanostructures in which metal nanoparticles are combined on metal oxide nanostructures and, more specifically, to a manufacturing method for hybrid nanostructures in which metal nanoparticles are combined on aligned metal oxide nanostructures comprising: a first step of forming a metal-organic precursor layer on a substrate or a thin film; a second step of forming a metal oxide seed layer by an imprinting and hardening process by locating a stamp for imprinting on the metal-organic precursor layer; a third step of forming a metal oxide seed pattern layer by exposing a part of the substrate or thin film by removing a residual layer of the metal oxide seed layer; a fourth step of removing a solvent by performing heat treatment on the metal oxide seed pattern layer; a fifth step of forming aligned metal oxide nanostructures on the metal oxide seed pattern layer in which the solvent is removed by using a hydrothermal synthesis method; and a sixth step of forming hybrid nanostructures by combining metal nanoparticles on the aligned metal oxide nanostructures by using photodecomposition reaction, and to hybrid nanostructures manufactured thereby. The present invention is economical since hybrid nanostructures with metal nanoparticles on metal oxide nanostructures are easily manufactured by using a simple process requiring low production costs such as an imprinting process, a hydrothermal synthesis method, photodecomposition reaction and the like.
摘要翻译：本发明涉及其中金属纳米颗粒结合在金属氧化物纳米结构上的混合纳米结构，更具体地说，涉及将金属纳米颗粒结合在对准的金属氧化物纳米结构上的混合纳米结构的制造方法，其包括：第一步骤，有机前体层在基材或薄膜上; 通过定位用于印刷在金属 - 有机前体层上的印模的印刷和硬化工艺来形成金属氧化物种子层的第二步骤; 通过去除所述金属氧化物种子层的残留层而暴露所述基板或薄膜的一部分来形成金属氧化物种子图案层的第三步骤; 通过对所述金属氧化物种子图案层进行热处理来除去溶剂的第四步骤; 在通过水热合成法除去溶剂的金属氧化物种子图案层上形成排列的金属氧化物纳米结构的第五步骤; 以及通过使用光分解反应在排列的金属氧化物纳米结构上结合金属纳米颗粒以及由其制造的混合纳米结构来形成混合纳米结构的第六步骤。本发明是经济的，因为使用金属纳米颗粒在金属氧化物纳米结构上的杂化纳米结构很容易通过使用需要低生产成本的简单工艺（诸如压印法，水热合成法，光分解反应等）来制造。

8. 发明授权

KR101663629B1 가변형 임프린트용 스탬프를 이용한 비대칭형 금속 또는 금속산화물 나노구조체 有权
标题翻译：金属或金属氧化物不对称纳米结构使用可变形压印
公开(公告)号：KR101663629B1
公开(公告)日：2016-10-10
申请号：KR1020150163446
申请日：2015-11-20
申请人： (재)한국나노기술원
发明人： 박형호 , 허은진 , 김신근 , 이근우 , 신현범 , 성호근 , 박경호 , 강호관 , 김희중
IPC分类号： B82B1/00 , B82Y40/00 , H01L21/027 , H01L21/02 , H01L29/06
摘要： 본발명은비대칭형나노구조체의형성방법에관한것으로서, 기판또는박막상에형성되며, 패턴의형태가변형이가능한가변형임프린트용스탬프를이용하여형성되는비대칭형금속또는금속산화물나노구조체를포함하여이루어지며, 상기비대칭형금속또는금속산화물나노구조체는, 기판또는박막상에임프린트층을형성하는제1단계와, 상기임프린트층상에플렉시블한재질의가변형임프린트용스탬프를위치시켜, 상기가변형임프린트용스탬프의패턴이휘어짐변형이유발되는압력또는방향으로가변형임프린트용스탬프를가압하고, 경화공정을수행하여비대칭패턴층을형성하는제2단계와, 상기비대칭패턴층의잔류막을제거하여기판또는박막의일부영역을노출시키는제3단계와, 상기노출된기판또는박막영역및 비대칭패턴층상에금속또는금속산화물을증착하는제4단계와, 상기비대칭패턴층을제거하여기판또는박막상에금속또는금속산화물패턴을형성하는제5단계;를포함하여구성되고, 상기제1단계의임프린트층의두께는, 상기가변형임프린트용스탬프로상기임프린트층을가압시임프린트층이상기가변형임프린트용스탬프패턴사이로충진이완전히되지않도록상기가변형임프린트용스탬프패턴의두께보다상대적으로더 얇게형성되고, 상기제2단계는, 상기가변형임프린트용스탬프의패턴을변형시키기위해 1.1bar~50bar의압력으로가변형임프린트용스탬프를가압시키고, 선택적으로, 상기가변형임프린트용스탬프의패턴을변형시키기위해상기임프린트층과가변형임프린트용스탬프의계면에평행한방향으로가변형임프린트용스탬프를가압시키는것에의해제조되는것을특징으로하는가변형임프린트용스탬프를이용한비대칭형금속또는금속산화물나노구조체를기술적요지로한다. 이에의해간단한공정에의해대면적의비대칭형금속또는금속산화물나노구조체를얻을수 있으며, 상기가변형임프린트용스탬프의압력또는방향에따라패턴의비대칭성정도를조절할수 있어다양한분야에활용할수 있는이점이있다.

9. 发明公开

KR1020160084965A 메타-열경화 임프린팅과 포토리소그래피 공정에 의한 금속 산화물 복합 구조체 제조방법 有权
标题翻译：金属氧化物复合结构使用金属热浸镀和光刻胶和金属氧化物复合结构
公开(公告)号：KR1020160084965A
公开(公告)日：2016-07-15
申请号：KR1020150001430
申请日：2015-01-06
申请人： (재)한국나노기술원
发明人： 박형호 , 김서연 , 허은진 , 신현범 , 성호근 , 강호관 , 박경호 , 박원규
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0002 , G03F7/0035 , G03F7/0047
摘要： 본발명은금속산화물복합구조체및 그제조방법에관한것으로서, 기판또는박막의상부에감광성금속-유기물전구체층을형성하는단계와, 상기감광성금속-유기물전구체층을제1패턴이형성된임프린트용스탬프로가압하되, 상기감광성금속-유기물전구체층이완전경화되는온도보다낮고임계경화되는온도보다높은온도로열경화를수행하는메타-열경화임프린팅단계와, 상기임프린트용스탬프를상기감광성금속-유기물전구체층으로부터제거하는단계와, 상기패턴된감광성금속-유기물전구체층상단에제2패턴이형성된포토마스크를위치시킨후, 완전경화도즈이상으로자외선또는열을조사하여금속산화박막패턴층을형성하는완전경화포토리소그래피단계와, 상기경화가완료된금속산화박막패턴층을현상(Developing)하여, 상기제1패턴과제2패턴이복합적으로구현된금속산화물복합구조체를형성하는단계를포함하여이루어지는것을특징으로하는메타-열경화임프린팅과포토리소그래피공정에의한금속산화물복합구조체제조방법및 그에의해제조된금속산화물복합구조체를기술적요지로한다. 이에의해이종(異種)의패턴이복합적으로구현된금속산화물구조체의제공이용이하며, 완전경화가되지않을정도의온도에서임프린팅공정이진행되고, 그후 포토리소그래피공정에의해완전경화를수행하여, 식각공정이생략된중간경화공정을추가함으로써, 식각공정의횟수를줄일수 있어공정의단순화및 비용을절감시키는이점이있다.
摘要翻译：金属氧化物复合结构及其制备方法技术领域本发明涉及金属氧化物复合结构体及其制备方法，更具体地说，涉及通过间热固化压印和光刻工艺制备金属氧化物复合结构体的方法和由其制备的金属氧化物复合结构体。根据本发明，该方法包括：在晶片或薄膜的顶部形成光敏金属 - 有机材料前体层的步骤; 一种间热固化压印步骤，其中在低于将使光敏金属 - 有机材料前体层完全固化并高于将使其敏化固化的温度的温度下进行热固化，以及具有第一图案的压印印模用于向感光金属 - 有机材料前体层施加压力; 从感光金属 - 有机材料前体层去除印记印模的步骤; 完全固化光刻步骤，其中将具有第二图案的光掩模放置在上述图案化的感光金属 - 有机材料前体层上，然后以足够高的剂量进行UV辐射或加热以诱导完全固化，以产生金属氧化物薄膜图案层; 将上述固化的金属氧化物薄膜图案层显影以产生具有第一和第二图案的金属氧化物复合结构的步骤。根据本发明，可以容易地制备具有两种不同图案的金属氧化物结构，并且通过在不引起完全固化的温度下进行压印加工，随后进行完全固化，可以简化和减少工艺和成本通过光刻工艺，并且通过执行除了蚀刻工艺之外的中间固化工艺以减少蚀刻工艺的数量。

10. 发明公开

KR1020150141915A 가변형 임프린트용 스탬프를 이용한 비대칭형 금속 또는 금속산화물 나노구조체 有权
标题翻译：金属或金属氧化物非对称纳米结构使用可变形形状印花
公开(公告)号：KR1020150141915A
公开(公告)日：2015-12-21
申请号：KR1020150163446
申请日：2015-11-20
申请人： (재)한국나노기술원
发明人： 박형호 , 허은진 , 김신근 , 이근우 , 신현범 , 성호근 , 박경호 , 강호관 , 김희중
IPC分类号： B82B1/00 , B82Y40/00 , H01L21/027 , H01L21/02 , H01L29/06
摘要： 본발명은비대칭형나노구조체의형성방법에관한것으로서, 기판또는박막상에형성되며, 패턴의형태가변형이가능한가변형임프린트용스탬프를이용하여형성되는비대칭형금속또는금속산화물나노구조체를포함하여이루어지며, 상기비대칭형금속또는금속산화물나노구조체는, 기판또는박막상에임프린트층을형성하는제1단계와, 상기임프린트층상에플렉시블한재질의가변형임프린트용스탬프를위치시켜, 상기가변형임프린트용스탬프의패턴이휘어짐변형이유발되는압력또는방향으로가변형임프린트용스탬프를가압하고, 경화공정을수행하여비대칭패턴층을형성하는제2단계와, 상기비대칭패턴층의잔류막을제거하여기판또는박막의일부영역을노출시키는제3단계와, 상기노출된기판또는박막영역및 비대칭패턴층상에금속또는금속산화물을증착하는제4단계와, 상기비대칭패턴층을제거하여기판또는박막상에금속또는금속산화물패턴을형성하는제5단계;를포함하여구성되고, 상기제1단계의임프린트층의두께는, 상기가변형임프린트용스탬프로상기임프린트층을가압시임프린트층이상기가변형임프린트용스탬프패턴사이로충진이완전히되지않도록상기가변형임프린트용스탬프패턴의두께보다상대적으로더 얇게형성되고, 상기제2단계는, 상기가변형임프린트용스탬프의패턴을변형시키기위해 1.1bar~50bar의압력으로가변형임프린트용스탬프를가압시키고, 선택적으로, 상기가변형임프린트용스탬프의패턴을변형시키기위해상기임프린트층과가변형임프린트용스탬프의계면에평행한방향으로가변형임프린트용스탬프를가압시키는것에의해제조되는것을특징으로하는가변형임프린트용스탬프를이용한비대칭형금속또는금속산화물나노구조체를기술적요지로한다. 이에의해간단한공정에의해대면적의비대칭형금속또는금속산화물나노구조체를얻을수 있으며, 상기가변형임프린트용스탬프의압력또는방향에따라패턴의비대칭성정도를조절할수 있어다양한분야에활용할수 있는이점이있다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于形成不对称纳米结构的方法，该方法包括形成在基底或薄膜上的不对称金属或金属氧化物纳米结构，并通过使用具有可变形状的图案的可变印记印模形成。用于形成不对称金属或金属氧化物纳米结构的方法包括在基板或薄膜上形成压印层的第一步骤; 将柔性材料的可变形压印印模放置在压印层上的第二步骤，以可变形压印印模的图案的压力或扭曲方向按压可变形压印印模，并进行固化过程形成不对称图案层; 第三步，通过去除不对称图案层的剩余膜来曝光基板或薄膜的一部分区域; 在衬底或薄膜和不对称图案层的暴露区域上沉积金属或金属氧化物的第四步骤; 以及通过去除不对称图案层在基板或薄膜上形成金属或金属氧化物图案的第五步骤。

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