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1. 发明授权

KR101359826B1 진공성막장치 및 진공성막방법 有权
标题翻译：真空膜形成装置和真空膜成型方法
公开(公告)号：KR101359826B1
公开(公告)日：2014-02-07
申请号：KR1020097000288
申请日：2007-07-18
申请人： 신메이와 인더스트리즈,리미티드
发明人： 마루야마,준페이 , 고이즈미,야스히로
IPC分类号： C23C14/14 , C22C5/06 , C23C14/32 , G11B7/26
CPC分类号： C23C14/14 , C22C5/06 , C23C14/32 , G11B7/266 , G11B11/10582
摘要： 본 발명의 진공성막장치(100)는, 내부를 감압 가능한 진공조(20)와, 진공조(20) 내에서, 기판(11)을 지지하는 기판홀더(12)와, 기판홀더(12)에 바이어스전압을 인가하는 바이어스전원(V1)과, 진공조 내에서, 은(Ag)에 비스무트(Bi)를 첨가한 반사막용 재료를 배치하는 재료홀더(15)와, 재료홀더(15)로부터 기판을 향하여 재료를 방출시킴과 아울러 재료의 방출를 방출할 때 상기 재료를 이온화하는 재료방출수단을 구비하며, 이온화된 재료의 운동에너지를 바이어스전압에 의하여 증가시키도록 하여 기판(11)에 재료로 이루어지는 반사막이 퇴적되고, 반사막의 반사율은 바이어스전압 및 비스무트(Bi)의 첨가량에 의거하여 조정되는 장치이다.
진공성막장치, 진공조, 기판홀더, 바이어스전원, 재료홀더, 재료방출수단, 은(Ag), 비스무트(Bi), 반사막, 반사율

2. 发明授权

KR101131313B1 성막장치 有权
公开(公告)号：KR101131313B1
公开(公告)日：2012-04-04
申请号：KR1020067020955
申请日：2005-03-10
申请人： 신메이와 인더스트리즈,리미티드 , 가부시키가이샤 미쓰바
发明人： 요네야마,노부오 , 나카야마,타카시 , 타키가와,시로 , 우메자와,타카오 , 이시자와,모토스케 , 타카노,히로시
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C23C14/34 , H01J37/32458 , H01J37/3435
摘要： A film forming apparatus which can perform a film forming process to a base material while the base material is being mounted on a die for a molding process. The film forming apparatus is provided with a cylinder-shaped frame body (1h) having one end closed with a bottom part and the other end opened, a target (1a) arranged on an inner plane of the bottom part, and a port (3b) formed to penetrate a wall part of the frame body (1h).

3. 发明授权

KR100831527B1 진공성막장치 失效
标题翻译：真空成膜装置
公开(公告)号：KR100831527B1
公开(公告)日：2008-05-22
申请号：KR1020020014047
申请日：2002-03-15
申请人： 신메이와 인더스트리즈,리미티드
发明人： 오카모토코이치 , 후쿠다요시미츠
IPC分类号： H01L21/20
CPC分类号： C23C14/547 , C23C14/30 , C23C14/505 , C23C14/541
摘要： 내부 공간의 진공분위기를 유지하기 위한 성막용 진공챔버와, 성막을 보조하기 위하여 진공챔버 내에서 이용되는 보조기구를 구비한 진공성막장치에 있어서, 보조기구는 진공챔버에 설치되는 개구부를 통하여 진공챔버의 내외에 걸쳐 설치되며, 진공챔버 밖에 설치되는 정지구조체에 고정됨과 함께, 진공챔버 내의 진공분위기를 유지할 수 있는 재질로 형성되어 탄력성을 가지는 접속부재에 의하여 진공챔버에 부착되어 있는 것을 특징으로 하는 진공성막장치.

막, 진공, 성형, 성막, 챔버, 기판

4. 发明公开

KR1020070114170A 진동 용기, 진동 용기 공급기 및 진공 증착 장치 失效
标题翻译：振动桶，振动送丝器和真空沉积装置
公开(公告)号：KR1020070114170A
公开(公告)日：2007-11-29
申请号：KR1020077021393
申请日：2006-02-14
申请人： 신메이와 인더스트리즈,리미티드
发明人： 오가와,켄이치 , 오카다,모토이 , 야마카와,켄지 , 타케우치,키요시
IPC分类号： B65G47/14 , C23C14/24
CPC分类号： B65G47/1421 , B65G27/02 , B65G27/32 , C23C14/24 , C23C14/243
摘要： A vibrating bowl capable of accurately counting the quantity of carried objects, a vibrating bowl feeder, and a vacuum deposition apparatus. The vibrating bowl (10) comprises a recessed part (10a) capable of accumulating the aggregate of the carried objects (15), a carrying passage (20) capable of carrying the carried objects by exciting the carried objects (15) inside the recessed part (10a), and a step part (26) for discharging the carried objects (15) to the outside of the recessed part (10a) along a diagonally downward direction approximately perpendicular to the carrying direction of the carried objects (15) present near the end of the carrying passage (20).
摘要翻译：能够精确计数携带物体的振动碗，振动碗式给料机和真空蒸镀装置。振动碗（10）包括能够聚集被携带物体（15）的聚集体的凹部（10a），能够通过在凹部内激发被携带物体（15）而承载被携带物体的承载通道（20）（10a），以及台阶部（26），用于沿着大致垂直于存在于所述凹部（10a）附近的所携带物体（15）的传送方向的斜下方的方向将所携带物体（15）排出到所述凹部（20）的端部。

5. 发明公开

KR1020020024790A 아크 증발기, 아크 증발기 구동방법 및 이온도금 장치 失效
标题翻译： ARC蒸发器，驱动ARC蒸发器的方法和离子镀膜设备
公开(公告)号：KR1020020024790A
公开(公告)日：2002-04-01
申请号：KR1020010058939
申请日：2001-09-24
申请人： 신메이와 인더스트리즈,리미티드 , 시티즌 도케이 가부시키가이샤
发明人： 타키가와,시로우 , 노세,코우이치 , 코이주미,야수히로 , 호리,타카노부 , 미야,유키오
IPC分类号： C23C16/503
CPC分类号： C23C16/515 , C23C14/325 , C23C14/545 , C23C16/517
摘要： PURPOSE: An arc evaporator, a method for driving the arc evaporator, and an ion plating apparatus are provided that are capable of preventing a surface of a thin film from being roughened when forming the thin film using a low melting point material as a cathode material. CONSTITUTION: An arc evaporator comprises an anode; an evaporation source electrode(2) as a cathode; and a current control unit(3) for supplying an AC square wave arcing current across the anode and the evaporation source electrode(2). In a method for driving an arc evaporator which has an anode, an evaporation source electrode as a cathode, and a current control unit for supplying an AC square wave arcing current across the anode and the evaporation source electrode, the method comprises controlling: at least one of a frequency of the arcing current, a ratio of a positive value period to a negative value period in a cycle, and a ratio of an absolute value of a positive value to an absolute value of a negative value in the cycle. The ion plating apparatus comprises a vacuum chamber(5); a substrate holder(6) provided in the vacuum chamber(5) for holding a substrate(7); and an arc evaporator(1) that uses an AC square wave arcing current to evaporate a cathode material in the vacuum chamber.
摘要翻译：目的：提供一种电弧蒸发器，用于驱动电弧蒸发器的方法和离子镀装置，其能够防止当使用低熔点材料作为阴极材料形成薄膜时薄膜的表面变粗糙。构成：电弧蒸发器包括阳极; 作为阴极的蒸发源电极（2）以及用于在阳极和蒸发源电极（2）上提供AC方波电弧电流的电流控制单元（3）。在用于驱动具有阳极的电弧蒸发器，作为阴极的蒸发源电极和用于在阳极和蒸发源电极上提供AC方波电弧电流的电流控制单元的方法中，所述方法包括以下步骤：至少控制电弧电流的频率中的一个，循环中的正值周期与负值周期的比率，以及周期中正值的绝对值与负值的绝对值的比。离子镀装置包括真空室（5）; 设置在所述真空室（5）中用于保持基板（7）的基板保持器（6）; 以及使用AC方波电弧电流来蒸发真空室中的阴极材料的电弧蒸发器（1）。

6. 发明公开

KR1020140113703A 천자침, 그의 제조 방법 및 그의 제조 장치 有权
标题翻译：针刺针及其制造方法和装置
公开(公告)号：KR1020140113703A
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：KR1020147021297
申请日：2013-02-14
申请人： 신메이와 인더스트리즈,리미티드
发明人： 우에무라켄스케 , 렘네브지.알렉세이 , 샬노브브이.콘스탄틴
IPC分类号： B21G1/08 , C23F4/00 , A61M5/32
CPC分类号： A61M5/3286 , A61B5/150282 , A61B5/150396 , A61B5/150427 , A61B2017/06071 , A61M2207/00 , B21G1/08 , B21G1/12 , C23C8/06 , C23C14/0042 , C23C14/5826 , C23F4/00 , Y10T29/49885
摘要： 주사통 등의 사용시 통증이 적은 천자침의 제조 방법을 제공한다. 하나의 모서리에 기계 가공시켜 얻어진 연삭면을 지닌 파이프 형상의 금속제 기재를 주요 가스 및 반응 가스를 주성분으로하는 혼합 가스로 충전된 분위기 하에서 발생시킨 플라즈마에 의해 처리하는 공정을 포함하는 천자침의 제조 방법을 제공한다.

7. 发明授权

KR100998635B1 마그네트론 스퍼터링용 자석 구조체 및 캐소드전극 유닛과마그네트론 스퍼터링 장치 有权
标题翻译：磁控溅射和阴极电极单元和磁控溅射设备的磁结构
公开(公告)号：KR100998635B1
公开(公告)日：2010-12-07
申请号：KR1020087008163
申请日：2006-08-23
申请人： 신메이와 인더스트리즈,리미티드
发明人： 콘도,타카히코 , 호리,타카노부 , 이와사키,야스쿠니 , 요네야마,노부오
IPC分类号： C23C14/35 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/35 , H01J37/3405 , H01J37/3452
摘要： 복수의 자석 간 자기상호작용에 의한 4방향 자계에 기초하여, 타깃 표면에 터널 형상 플라즈마 구속 누설자계를 밸런스 좋게 형성하는 때의 자석설계 수고경감을 도모한 자석 구조체 등을 제공한다. 자석 구조체(110)는, 타깃 표면(20A)에 도달하는 제1 자력선을 형성하고 타깃(20)의 후면측에 자기모멘트의 방향을 다르게 하여 배치된 내, 외부자석(10),(13)과, 제1 자력선에 의한 자속밀도의 폭방향 성분을 상쇄하는 제2 자력선을 만들고 내, 외부자석(10),(13)과의 사이의 타깃(20)의 후면측에 자기모멘트의 방향을 다르게 하여 배치된 중간자석(11),(12)과, 중간자석(11),(12)의 일측 단면에서 나온 제2 자력선이 중간자석(11),(12)의 타측 단면으로 들어가도록 제2 자력선을 안내하기 위하여 타깃(20)의 후면측에 배치된 자성부재(24)를 구비하고, 자성부재(24)는 내부자석(10) 또는 외부자석(13)과의 사이에서 타깃(20)의 두께방향의 도중까지 도달하는 자력선을 형성하여 이루어진다.
타깃, 자석 구조체, 내부자석, 외부자석, 중간자석, 자성부재

8. 发明授权

KR100998634B1 마그네트론 스퍼터링 장치용 자석 구조체 및 캐소드전극유닛과 마그네트론 스퍼터링 장치 失效
标题翻译：磁控溅射系统的磁体结构，阴极电极单元和磁控溅射系统
公开(公告)号：KR100998634B1
公开(公告)日：2010-12-07
申请号：KR1020087008372
申请日：2006-11-02
申请人： 신메이와 인더스트리즈,리미티드
发明人： 콘도,타카히코 , 호리,타카노부 , 이와사키,야스쿠니 , 요네야마,노부오
IPC分类号： C23C14/35 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/3407 , H01J37/3405 , H01J37/3461
摘要： 간단한 구동기구에 의해 타깃 표면 상의 자력선 분포를 바꾸어 타깃의 넓은 침식(wide erosion)화를 도모하도록 한 자석 구조체 등을 제공한다. 자석 구조체(110)는, 타깃(20)의 표면(20A)에 도달하는 주자력선을 형성하도록 타깃(20)의 뒷면(20b) 측에 배치된 주자석(10, 13)과, 주자력선에 의한 자속밀도 분포를 바꾸는 보정자력선을 형성하도록 타깃(20)의 뒷면(20B) 측에 배치된 보정자석(11)과, 타깃(20)의 뒷면(20B) 측에 배치된 보정자력선의 자로(21A, 21B, 24)와, 자로(21A, 21B, 24)의 내부를 관통하는 보정자력선의 강도를 변경 가능한 자계보정수단(12, 14)을 구비하여 구성된다.
타깃, 넓은 침식, 자석 구조체, 주자석, 보정자석, 자계보정수단

9. 发明公开

KR1020080042182A 마그네트론 스퍼터링 장치용 자석 구조체 및 캐소드전극유닛과 마그네트론 스퍼터링 장치 失效
标题翻译：磁控溅射系统的磁体结构，阴极电极单元和磁控溅射系统
公开(公告)号：KR1020080042182A
公开(公告)日：2008-05-14
申请号：KR1020087008372
申请日：2006-11-02
申请人： 신메이와 인더스트리즈,리미티드
发明人： 콘도,타카히코 , 호리,타카노부 , 이와사키,야스쿠니 , 요네야마,노부오
IPC分类号： C23C14/35 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/3407 , H01J37/3405 , H01J37/3461
摘要： A magnet structure arranged to achieve wide erosion of a target by varying distribution of the line of magnetic force on the surface of the target by a simple drive mechanism. A magnet structure (110) comprises main magnets (10, 13) arranged on a rear surface (20B) side of a target (20) to form main line of magnetic force reaching a target front surface (20A), a correction magnet (11) arranged on the rear surface (20B) side of the target (20) to form correction line of magnetic force for varying distribution of flux density by the main line of magnetic force, magnetic paths (21A, 21B, 24) of correction line of magnetic force arranged on the rear surface (20B) side of the target (20), and magnetic field correction means (12, 14) which can alter the intensity of correction line of magnetic force penetrating the interior of the magnetic paths (21A, 21B, 24).
摘要翻译：一种磁体结构，其通过简单的驱动机构改变目标表面上的磁力线的分布，从而实现目标的广泛的侵蚀。磁体结构（110）包括设置在目标（20）的后表面（20B）侧的主磁体（10,13），以形成到达目标前表面（20A）的磁力线，校正磁体（11））配置在目标（20）的背面（20B）侧，形成用于通过磁力线的磁通密度分布变化的磁力校正线，修正线的修正线的磁路（21A，21B，24）布置在目标（20）的后表面（20B）侧的磁力和磁场校正装置（12,14），其可以改变穿过磁路（21A，21B）内部的磁力校正线的强度，24）。

10. 发明公开

KR1020080038271A 진공처리용 챔버 无效
标题翻译：真空处理室
公开(公告)号：KR1020080038271A
公开(公告)日：2008-05-06
申请号：KR1020077019717
申请日：2006-07-21
申请人： 신메이와 인더스트리즈,리미티드
发明人： 이와사키,야스쿠니 , 후쿠다,오시미츠 , 미야자키,오사무
IPC分类号： C23C14/56 , C23C16/44
CPC分类号： C23C14/564 , B01J3/006
摘要： A chamber for vacuum treatment enabling the simplification of the arrangement structure of a flow passage for cooling. The chamber for vacuum treatment comprises a plurality of wall members (1, 2, 3, 4, 11, 12, 13). Parts of the surfaces of the wall members (1, 2, 3, 4, 11, 12, 13) form bonded surfaces, and the plurality of wall members (1, 2, 3, 4, 11, 12, 13) are bonded to each other through bonding parts (10) formed by bonding airtight the bonded surfaces to each other to form a chamber body (100). At least parts of the bonding parts (10) are the bonding parts (10) with built-in spaces in which clearances (30, 31) extending along the bonded surfaces are formed in the bonded surfaces, and the peripheries of the bonded surfaces are bonded airtight to each other by welding.
摘要翻译：用于真空处理的室，能够简化用于冷却的流动通道的布置结构。用于真空处理的室包括多个壁构件（1,2,3,4,11,12,13）。壁构件（1，2，3，4，11，12，13）的表面的一部分形成接合表面，并且多个壁构件（1,2,3,4,11,12,13）被接合通过将粘合表面彼此密封形成的接合部分（10）彼此形成，以形成室主体（100）。接合部（10）的至少一部分是具有内置空间的接合部（10），其中，在接合面上形成有沿接合面延伸的间隙（30,31），接合面的周边通过焊接彼此密封。

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