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1. 发明授权

KR102221266B1 웨이퍼 형상 물품들을 프로세싱하기 위한 방법 및 장치 有权
公开(公告)号：KR102221266B1
公开(公告)日：2021-03-02
申请号：KR1020150113445
申请日：2015-08-11
申请人： 램 리서치 아게
发明人： 오브위거라이너 , 글라이스너안드레아스 , 비른스베르거토마스 , 쿰니히프란츠 , 발다로알레산드로 , 피셔크리스티앙토마스 , 추무헝 , 딜위스라팔리챠드 , 라브도브스키나단 , 베리3세이반엘.
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/687
摘要： 웨이퍼형상물품들을프로세싱하기위한디바이스는기밀인클로저를제공하는폐쇄된프로세스챔버를포함한다. 회전척은폐쇄된프로세스챔버내에위치된다. 히터는, 웨이퍼형상물품과접촉하지않고회전척 상에홀딩된웨이퍼형상물품의일 측면만을가열하도록, 회전척에대하여위치된다. 히터는 390 nm 내지 550 nm의파장범위에서최대강도를갖는방사선을방출한다. 적어도하나의제 1 액체디스펜서는히터와마주보는측면과반대되는측면인웨이퍼형상물품의측면상에프로세스액을디스펜싱하도록회전척에대해위치된다.

2. 发明授权

KR102101536B1 웨이퍼 형상의 물품들을 프로세싱하기 위한 방법 및 장치 有权
公开(公告)号：KR102101536B1
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：KR1020170065174
申请日：2017-05-26
申请人： 램 리서치 아게
发明人： 무이데이비드 , 버니부치 , 골러알로이스 , 라브킨마이크
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/687

3. 发明授权

KR102055960B1 웨이퍼-형상 물체의 액체 처리를 위한 장치 및 방법 有权
公开(公告)号：KR102055960B1
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：KR1020147027399
申请日：2013-03-20
申请人： 램 리서치 아게
发明人： 간스테르미하엘 , 자고르츠필립 , 골러알로이스
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/306 , B08B3/10 , B08B3/14 , B05C5/02 , B05C21/00 , H01L21/30

4. 发明授权

KR101819246B1 개선된 초음파 클리닝 유체, 방법 및 장치 有权
公开(公告)号：KR101819246B1
公开(公告)日：2018-01-17
申请号：KR1020127017122
申请日：2010-12-07
申请人： 램 리서치 아게
发明人： 홀슈타인스프랑크루드비히 , 리퍼트알렉산더 , 비른스베르거토마스
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67 , B08B3/12
CPC分类号： B08B3/12 , H01L21/02057 , H01L21/67051
摘要： 분산된가스를포함하는클리닝유체는용해된가스를포함하는액체를버블머신에서압력감소의영향에두어, 공동현상을유도하는데 초음파에너지를이용하는것을회피한다. 클리닝유체는홀더및 초음파또는메가소닉에너지를물품에공급하기위한바이브레이터를포함하는디바이스를이용하여반도체웨이퍼들과같은물품들을클리닝하는데 이용될수 있다.

5. 发明公开

KR1020160024759A 웨이퍼 형상 물품들을 프로세싱하기 위한 방법 및 장치 审中-实审
标题翻译：用于处理波浪形文章的方法和装置
公开(公告)号：KR1020160024759A
公开(公告)日：2016-03-07
申请号：KR1020150113445
申请日：2015-08-11
申请人： 램 리서치 아게
发明人： 오브위거라이너 , 글라이스너안드레아스 , 비른스베르거토마스 , 쿰니히프란츠 , 발다로알레산드로 , 피셔크리스티앙토마스 , 추무헝 , 딜위스라팔리챠드 , 라브도브스키나단 , 베리3세이반엘.
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/324 , H01L21/02 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/6708 , H01L21/31133 , H01L21/31138 , H01L21/67115 , H01L21/68792
摘要： 웨이퍼형상물품들을프로세싱하기위한디바이스는기밀인클로저를제공하는폐쇄된프로세스챔버를포함한다. 회전척은폐쇄된프로세스챔버내에위치된다. 히터는, 웨이퍼형상물품과접촉하지않고회전척 상에홀딩된웨이퍼형상물품의일 측면만을가열하도록, 회전척에대하여위치된다. 히터는 390 nm 내지 550 nm의파장범위에서최대강도를갖는방사선을방출한다. 적어도하나의제 1 액체디스펜서는히터와마주보는측면과반대되는측면인웨이퍼형상물품의측면상에프로세스액을디스펜싱하도록회전척에대해위치된다.
摘要翻译：用于处理晶片形物品的装置包括提供气密外壳的封闭处理室。旋转卡盘位于封闭的处理室内。加热器相对于旋转卡盘定位，以便仅从一侧加热保持在旋转卡盘上的晶片状物品而不与晶片状物品接触。加热器发射在390-550nm的波长范围内具有最大强度的辐射。至少一个第一液体分配器相对于旋转卡盘定位，以便将处理溶液分配到晶片状制品的与面向加热器的晶片状制品的侧面相对的一侧。

6. 发明公开

KR1020160004046A 웨이퍼 형상 물체를 처리하기 위한 장치에서 사용되는 수거기 审中-实审
标题翻译：收集器用于处理波形形状的装置
公开(公告)号：KR1020160004046A
公开(公告)日：2016-01-12
申请号：KR1020140082385
申请日：2014-07-02
申请人： 램 리서치 아게
发明人： 슈바르젠바허라인홀드 , 친데레울리히
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/683
摘要： 스핀척과함께사용되는수거기어셈블리 (collector assembly) 는베이스컴포넌트 (base component), 상단컴포넌트및 상기베이스컴포넌트와상기상단컴포넌트간에끼워지도록 (fitted) 구성된제 1 중간컴포넌트를포함한다. 상기베이스컴포넌트, 상기상단컴포넌트, 및상기제 1 중간컴포넌트는프로세스인클로저 (process enclosure) 를형성하도록상호결합가능하게구성되며또한서로분리가능하게구성된다. 상기베이스컴포넌트및 상기제 1 중간컴포넌트각각은수거기벽 세그먼트들 (segments) 을포함하며, 상기베이스컴포넌트, 상기상단컴포넌트, 및상기제 1 중간컴포넌트가상호끼워진 (interfitted) 상태에서, 상기수거기벽 세그먼트들은함께상기수거기어셈블리의외측벽을구성한다.
摘要翻译：与旋转卡盘一起使用的收集器组件包括基部部件，上部部件和被配置为安装在基部部件和上部部件之间的第一中间部件。基部组件，上部组件和第一中间组件被配置为相互配合以形成过程外壳，并且被配置为彼此分离。底座部件和第一中间件分别包括收集器壁段，并且收集器壁段构成收集器组件的外壁，而基部部件，上部部件和第一中间部件相互配合。

7. 发明公开

KR1020150144292A 웨이퍼 형상 물품들의 액체 처리를 위한 방법 및 장치들 审中-实审
标题翻译：用于液体处理形状文章的方法和装置
公开(公告)号：KR1020150144292A
公开(公告)日：2015-12-24
申请号：KR1020150084529
申请日：2015-06-15
申请人： 램 리서치 아게
发明人： 카마르고프란시스코
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67051 , F16K23/00
摘要： 웨이퍼-형상물품의처리를위한장치에있어서, 웨이퍼-형상물품을홀딩하고회전시키기위한스핀척이제공된다. 액체디스펜서는액체디스펜서의토출노즐로부터프로세스액체가떨어지는것을방지하도록배치되는체크밸브를포함한다. 체크밸브의밸브시트는상기토출노즐의유출개구부로부터 20mm 내지 100mm의범위내의거리에배치된다.
摘要翻译：根据用于处理晶片状产品的设备，设置有用于保持和旋转晶片形产品的旋转卡盘。液体分配器包括设置成防止处理液体从液体分配器的排出喷嘴滴落的止回阀。止回阀的阀座设置在与排出喷嘴的出口开口20-100mm的距离处。

8. 发明公开

KR1020150079473A 웨이퍼―형상 물체의 표면을 처리하기 위한 장치 审中-实审
标题翻译：用于处理波浪形文章表面的装置
公开(公告)号：KR1020150079473A
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：KR1020140193983
申请日：2014-12-30
申请人： 램 리서치 아게
发明人： 글라이스너안드레아스
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/683
CPC分类号： C23F1/08 , H01J37/32467 , H01J37/32495 , H01J37/32715 , H01L21/67126 , H01L21/6719 , H01L21/68792
摘要： 웨이퍼-형상물체를프로세싱하기위한장치는폐쇄형프로세스챔버를포함하며, 폐쇄형프로세스챔버는가스-기밀인클로저 (enclosure) 를제공한다. 폐쇄형프로세스챔버내에위치하며그 상에웨이퍼형상물체를유지하도록구성된회전척 (rotary chuck) 이포함된다. 폐쇄형프로세스챔버의상부부분에고정된리드 (lid) 가포함되며, 리드는복합섬유-강화재료로형성된상부플레이트및 프로세스챔버내로대면하며화학적으로-내성을갖는플라스틱 (chemically-resistant plastic) 으로형성되는하부플레이트를포함한다.
摘要翻译：一种用于处理晶片状物品的设备包括一个封闭的处理室，它提供一个气密的外壳。旋转卡盘位于封闭的处理室内，旋转卡盘适于在其上保持晶片成形制品。盖被固定到封闭处理室的上部，盖包括由复合纤维增强材料形成的上板和面向进入处理室并由耐化学腐蚀塑料形成的下板。

9. 发明授权

KR101486430B1 디스크형 물품의 습윤 처리 장치 및 방법 有权
标题翻译：碟状物品湿法处理装置及方法
公开(公告)号：KR101486430B1
公开(公告)日：2015-01-26
申请号：KR1020097027079
申请日：2008-07-03
申请人： 램 리서치 아게
发明人： 퍼글마이클 , 슈바르츠푸르트너알렉산더 , 프랑크디터
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： H01L21/67051
摘要： 기술된 디스크형 물품의 습윤 처리 장치는:
- 상기 디스크형 물품을 지지 및 회전시키기 위한 스핀 척(spin chuck), 및
- 상기 디스크형 물품의 상기 제1 표면의 제1 주변 영역을 향해진 처리 액체를 분배하는 내측 가장자리 노즐을 구비하며,
여기서 상기 제1 표면은 상기 스핀 척을 향하고 상기 제1 주변 영역은 상기 디스크형 물품의 반경(ra)보다 더 작은 1cm 보다 더 큰, 내측 반경(ri)을 갖는 제1 표면의 영역에 있도록 한정되며, 여기서 상기 내측 가장자리 노즐은 (상기 스핀 척상에 배치될 때의) 상기 디스크형 물품과 상기 스핀 척 사이에서 고정된 방식으로 위치되며, 여기서 상기 내측 가장자리 노즐은 상기 디스크형 물품의 제1 표면에 대해 처리 액체를 공급하기 위해, 상기 스핀 척을 통해 중앙에서 관통하고 고정된 방식으로 배치되는, 중앙 파이프를 통해 공급된다.

10. 发明公开

KR1020150004772A 웨이퍼 형상 물체를 홀딩하기 위한 디바이스 审中-实审
标题翻译：用于保存形状文章的设备
公开(公告)号：KR1020150004772A
公开(公告)日：2015-01-13
申请号：KR1020140083363
申请日：2014-07-03
申请人： 램 리서치 아게
发明人： 글라이스너안드레아스 , 비른스베르거토마스
IPC分类号： H01L21/687
CPC分类号： H01L21/68728 , B08B3/04 , B08B11/02 , F16D27/09 , H01L21/67023 , H01L21/67069 , H01L21/68721
摘要： 웨이퍼 형상 물체를 홀딩 (holding) 하기 위한 디바이스는 웨이퍼 형상 물체를 환상 척 베이스 바디 (annular chuck base body) 에 고정시키기 위하여 복수의 이동가능한 접촉 요소들을 갖는 상기 환상 척 베이스 바디; 및 상기 복수의 이동가능한 접촉 요소들을 함께 (in unison) 제 1 위치와 제 2 위치 간에서 구동시키는 기어 메카니즘을 포함한다. 상기 환상 척 베이스 바디는 강한 무기 산들 (strong inorganic acids) 에 의한 침식 (attack) 에 내성을 갖는 재료로부터 형성된 하우징을 포함한다. 상기 환상 척 베이스 바디는 상기 하우징 내에 끼워지며 (fitted) 상기 하우징의 재료의 선형 열팽창 계수보다 실질적으로 작은 선형 열팽창 계수를 갖는 재료로부터 형성된 보강 링 (reinforcing ring) 을 포함한다.
摘要翻译：用于保持晶片状物体的装置包括具有多个可动接触元件的环形卡盘基体，使得晶片状物体固定在环形卡盘基体上; 以及在第一和第二位置之间一致地驱动多个可动接触元件的齿轮机构。环形卡盘基体包括由耐强的无机酸侵蚀的材料形成的壳体。环形卡盘基体包括装配到壳体中的加强环，并且由具有基本上小于壳体材料的线性热膨胀系数的线性热膨胀系数的材料形成。

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