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1. 发明授权

KR102124940B1 유도 결합 플라즈마 처리 장치 및 그 제어방법 有权
公开(公告)号：KR102124940B1
公开(公告)日：2020-06-22
申请号：KR1020130059296
申请日：2013-05-24
申请人： 인베니아 주식회사
发明人： 임정환
IPC分类号： H01J37/32 , H05H1/46

2. 发明授权

KR102071509B1 안테나 유닛 및 이를 포함하는 플라즈마 처리장치 有权
公开(公告)号：KR102071509B1
公开(公告)日：2020-01-30
申请号：KR1020180064729
申请日：2018-06-05
申请人： 인베니아 주식회사
发明人： 김주만 , 김영학 , 박경호 , 신성덕
IPC分类号： H01J37/32 , H01Q1/26

3. 发明授权

KR101991488B1 기판용 멀티 얼라인 조립체 및 이를 갖는 기판용 멀티 얼라인 장치 有权
公开(公告)号：KR101991488B1
公开(公告)日：2019-06-20
申请号：KR1020170145614
申请日：2017-11-02
申请人： 인베니아 주식회사
发明人： 이창근 , 김미숙
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/67

4. 发明授权

KR101979223B1 플라즈마 처리장치 有权
公开(公告)号：KR101979223B1
公开(公告)日：2019-05-17
申请号：KR1020170178432
申请日：2017-12-22
申请人： 인베니아 주식회사
发明人： 김영학 , 안민형
IPC分类号： H01J37/32 , H03H7/38

5. 发明授权

KR101895884B1 플라즈마 발생용 안테나 및 이를 사용하는 플라즈마 처리 장치 有权
公开(公告)号：KR101895884B1
公开(公告)日：2018-09-07
申请号：KR1020160128536
申请日：2016-10-05
申请人： 인베니아 주식회사
发明人： 박우종 , 최정수
IPC分类号： H01J37/32 , H01Q1/26 , H05H1/46
摘要： 본발명의실시예에따른플라즈마발생용안테나구조체는고주파전력을인가받아처리실내에플라즈마생성을유도하는플라즈마발생용안테나구조체이며, 적어도하나의코너부를형성하도록굴곡형성된안테나선을포함하며, 상기안테나선은상기코너부를형성하는부분이다른부분에비해외측에위치하도록형성된다.

6. 发明授权

KR101866212B1 플라즈마 처리 장치 有权
公开(公告)号：KR101866212B1
公开(公告)日：2018-06-12
申请号：KR1020160152590
申请日：2016-11-16
申请人： 인베니아 주식회사
发明人： 최정수 , 박우종
IPC分类号： H01J37/32 , H01Q1/26
摘要： 본발명의실시예에따른플라즈마처리장치는, 피처리기판을수용하는처리실, 상기처리실내에수용되는상기피처리기판과마주하도록배치되는안테나구조체및 상기안테나구조체와상기처리실사이에구비되는윈도우를포함하고, 상기안테나구조체는, 안테나선이상기윈도우의상면과마주하는서로다른 2개의가상평면사이에서나선상으로형성되는안테나부를포함하고, 상기안테나부는상기서로다른 2개의가상평면사이의거리가상기서로다른 2개의가상평면중 상기윈도우와인접한평면과상기윈도우의하면사이의거리의 2배이상이되도록형성된다.

7. 发明授权

KR101866210B1 플라즈마 발생용 안테나 구조체 有权
公开(公告)号：KR101866210B1
公开(公告)日：2018-06-11
申请号：KR1020160146787
申请日：2016-11-04
申请人： 인베니아 주식회사
发明人： 최정수 , 정석철
IPC分类号： H01J37/32 , H01Q1/26 , H05H1/46
摘要： 본발명의실시예에따른플라즈마발생용안테나구조체는, 제1 평면상에위치하며중앙부가절곡되어일단부는제1 방향과평행하고타단부는제2 방향과평행하게형성되는제1 코너안테나선, 상기제1 코너안테나선의일단부로부터제2 평면을향해연장형성되는제2 코너안테나선, 상기제2 코너안테나선으로부터연장되어상기제2 평면상에위치하며중앙부가절곡되어일단부는상기제1 방향과평행하고타단부는상기제2 방향과평행하게형성되는제3 코너안테나선, 상기제3 코너안테나선의타단부로부터상기제1 평면을향해연장형성되는제4 코너안테나선및 상기제4 코너안테나선으로부터연장되어상기제1 코너안테나선과이격된상태로상기제1 평면상에위치하며중앙부가절곡되어일단부는상기제1 방향과평행하고타단부는상기제2 방향과평행하게형성되는제5 코너안테나선을포함하는코너안테나부를포함한다.

8. 发明授权

KR101848907B1 플라즈마 처리 장치 有权
公开(公告)号：KR101848907B1
公开(公告)日：2018-05-15
申请号：KR1020160127816
申请日：2016-10-04
申请人： 인베니아 주식회사
发明人： 박우종 , 최정수
IPC分类号： H01J37/32 , H01Q1/26 , H05H1/46
摘要： 본발명의실시예에따른플라즈마처리장치는, 피처리기판을수용하는처리실, 상기처리실내에수용되는상기피처리기판과마주하도록배치되는안테나구조체, 상기안테나구조체와상기처리실사이에구비되는윈도우및 상기윈도우를지지하는프레임구조체를포함하고, 상기안테나구조체는, 제1 외측변부, 상기제1 외측변부와단차를형성하며상기제1 외측변부보다내측에위치하는제1 내측변부및 상기제1 외측변부와상기제1 내측변부를연결하는제1 변부연결부를포함하는제1 안테나선을포함하고, 상기제1 변부연결부는상기프레임구조체의상부에위치한다.

9. 发明公开

KR1020170142692A 기판 처리 장치 및 기판 처리 장치의 인터락 방법 审中-实审
标题翻译：基板处理装置及基板处理装置的联锁方法
公开(公告)号：KR1020170142692A
公开(公告)日：2017-12-28
申请号：KR1020160076591
申请日：2016-06-20
申请人： 인베니아 주식회사
发明人： 최형민 , 김상욱
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/67 , H01L21/66 , H01L21/54 , H01L21/683 , H01L21/311
摘要： 본발명의일 양태는기판처리장치를개시하고있다. 상기장치는기판이처리되는챔버, 상기챔버로가스를공급하는가스공급부, 상기챔버로공급되는가스의양을측정하는측정부, 상기측정되는가스의양을기반으로각 기판에대한공정에서의가스변화트렌드를분석하는트렌드분석부, 이전기판에대한공정에서의가스변화트렌드와현재기판에대한공정에서의가스변화트렌드를비교하는비교부및 상기비교결과에따라경보(alert) 신호를생성하는신호생성부를포함한다.
摘要翻译：本发明的一个方面公开了一种基板处理设备。该装置包括用于测量气体的量，其中所述衬底是一处理室，气体供应到所述腔室供应气体，供给到作为腔室中的测量单元，所述基于所述量为每个衬底工艺eseoui气体变化测量气体包括用于产生根据所述比较单元和比较所述气体变化趋势eseoui过程进行趋势分析单元的比较结果信号的警报（警告）的生成信号，气体变化趋势和电流衬底eseoui过程针对先前衬底分析趋势的。

10. 发明公开

KR1020170123573A 플라즈마 발생용 안테나 구조체 审中-实审
标题翻译：用于产生等离子体的天线结构
公开(公告)号：KR1020170123573A
公开(公告)日：2017-11-08
申请号：KR1020160182817
申请日：2016-12-29
申请人： 인베니아 주식회사
发明人： 박우종 , 최정수
IPC分类号： H01J37/32 , H01Q1/26 , H05H1/46
摘要： 본발명의일 실시예에따른플라즈마발생용안테나구조체는, 고주파전력을인가받아처리실내에플라즈마생성을유도하는플라즈마발생용안테나구조체이며, 적어도하나의코너부를형성하도록굴곡형성된안테나선을포함하며, 상기코너부는상기코너부의양측과연결되는변부와둔각을형성하도록절곡형성된다.
摘要翻译：根据本发明的等离子体生成天线结构的一个实施方案中，等离子体产生天线结构用于接收是在处理室中产生的高频功率诱导等离子体，其包括一个卷绕形成天线线至少以形成单个角落，拐角部分弯曲成与连接到拐角部分两侧的侧部形成钝角。

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