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1. 发明授权

KR101440414B1 기판을 분리하고 이송하는 장치 및 방법 有权
标题翻译：用于分离和输送基材的装置和方法
公开(公告)号：KR101440414B1
公开(公告)日：2014-11-04
申请号：KR1020110086495
申请日：2011-08-29
申请人： 레나 게엠베하
发明人： 렌지그프리드 , 데찬트-바그너롤란드
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/07 , B28D5/00 , H01L31/04
CPC分类号： H01L21/67706 , B28D5/0082 , B65G59/068 , H01L21/67092 , H01L21/67718
摘要： 본 발명은 예를 들면 태양 웨이퍼 등의 디스크 형상 기판(3)의 분리, 전향 및 이송에 관한 것이다.
액체 내에서 기판 스택(5) 형태로 이송 방향으로 순차적으로 잇따라서 직립 배열된 디스크 형상 기판들(3)의 분리, 전향 및 이송 장치(1)는 적어도 2개의 이송 벨트들(11, 11")을 구비하고, 스택(5)의 한 전면(12)에서 스택(5)의 전면(12)과 평행하게 배열된 이송 스팬(10)을 구비한 수직형 벨트 컨베이어(9)를 포함하고, 벨트 컨베이어(9)는 스택(5) 개개의 최전방 기판(3)이 적어도 제1이송 벨트(11)에 흡입될 수 있도록 하는 진공 기구(16)를 구비하고, 수직형 벨트 컨베이어(9)의 적어도 2개의 이송 벨트(11, 11")는 인접 영역에서 서로 동일 평면상에 배열된다.

2. 发明授权

KR101404217B1 실리콘 표면 에칭 방법 有权
标题翻译：蚀刻硅表面的方法
公开(公告)号：KR101404217B1
公开(公告)日：2014-06-05
申请号：KR1020127003304
申请日：2010-06-02
申请人： 레나 게엠베하
发明人： 엘자오우하리,아흐메드,압델바르 , 슈베켄디엑,쥴겐
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： H01L21/30608 , C09K13/02 , H01L31/02363 , Y02E10/50
摘要： 본 발명은 실리콘 표면 에칭 방법에 관한 것으로서, 다음과 같은 단계들을 포함한다. 첫째, 50℃ 내지 95℃의 온도에서, 적어도 하나의 친수콜로이드를 함유하는 수성 알칼리성 친수콜로이드 에칭 용액을 준비한다. 둘째, 미리 결정된 시간 동안 친수콜로이드 에칭 용액에 실리콘 표면을 접촉시킨다. 마직막으로, 실리콘 표면으로부터 친수콜로이드 에칭 용액을 제거한다.

3. 实用新型

KR2020140001847U 평면 기판을 처리 하기 위한 장치 无效
标题翻译：用于处理平板基板的装置
公开(公告)号：KR2020140001847U
公开(公告)日：2014-03-31
申请号：KR2020130007756
申请日：2013-09-16
申请人： 레나 게엠베하
发明人： 모에케,옌스
IPC分类号： H01L21/306 , H01L21/302
CPC分类号： H01L31/18 , H01L31/02363 , B28D5/0082
摘要： 본 고안은 평면 기판의 처리 분야에 관한 것이다. 특히, 본 고안은 다양한 액체를 이용해서 실리콘 웨이퍼와 같은, 지지 수단에 고정된 평면 기판의 처리 및 지지 수단으로부터 상기 기판의 제거 준비에 관한 것이다.
본 고안에 따른 장치는 액체를 수용하기 위한 컨테이너(1), 지지 수단(3)과 컨테이너(1) 사이의 수직 간격을 변경하기 위한 수단(2) 및, 상기 평면 기판(4)의 처리 또는 상기 기판의 제거 준비에 적합한 적어도 2개의 액체를 동일한 컨테이너(1) 내로 별도로 공급하기 위한 수단을 포함하는 장치를 포함한다.

4. 外观设计

KR3007344130000S 有权
公开(公告)号：KR3007344130000S
公开(公告)日：2014-03-17
申请号：KR3020120046101
申请日：2012-09-25
申请人： 레나 게엠베하
设计人： 바라이스, 디르크 , 호이흐비츠, 엔리초

5. 实用新型

KR2020140000378U 평면 물품의 다중 레인 이송 장치 无效
标题翻译：用于平面文章的多用途运输装置
公开(公告)号：KR2020140000378U
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：KR2020120007825
申请日：2012-09-03
申请人： 레나 게엠베하
发明人： 프란츠케요르그 , 니스마티아스
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/07 , H01L31/18
CPC分类号： H01L21/67778 , B65G59/026 , H01L21/67736 , H01L21/67023 , H01L21/67706 , H01L21/67781 , H01L31/1876
摘要： 본 고안은 평면 물체의 이송 분야에 관한 것이다. 특히, 본 고안은 습식 화학 처리 라인에 실리콘 웨이퍼와 같은 평면 물품의 이송 분야에 관한 것이다.
본 고안은 서로 평행하게 배치된 다수의 레인에서 기판들(S)을 동시에 이송하기 위한 장치로서, 상기 기판들(S)의 공급을 위한 다중 레인의 공급 영역(1), 상기 기판(S)의 이송을 위한 다중 레인의 이송 영역(2), 및 상기 이송 영역(2)으로부터 공급된 기판들(S)의 인출을 위한 다중 레인의 인출 영역(3)을 포함하고, 상기 기판들(S)의, 레인을 따르는 이송을 위해, 상기 공급 영역(1)의 각각의 레인은 상하로 배치된 다수의 기판들(S)을 수용하기 위한 수직으로 이동 가능한 수용 장치(S1, S2, ...), 및 상기 기판들(S)의 디스태킹 수단을 포함하고, 상기 인출 영역(3)의 각각의 레인은 상하로 배치될 다수의 기판들(S)을 수용하기 위한 수직으로 이동 가능한 수용 장치(S1'; S2'; ...), 및 상기 기판들(S)의 스태킹 수단을 포함한다.

6. 实用新型

KR2020130003387U 기판의 건조 장치 审中-实审
标题翻译：干燥基板的装置
公开(公告)号：KR2020130003387U
公开(公告)日：2013-06-07
申请号：KR2020120011055
申请日：2012-11-29
申请人： 레나 게엠베하
发明人： 니스마티아스 , 프란츠케요르그
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/67757 , H01L21/67034 , H01L21/02046
摘要： 본 고안은 캐리어(6)의 하강 및 상승을 위한 운동 장치(3, 4)를 포함함으로써, 상기 캐리어(6) 상에 지지된 기판들이 처리액의 레벨 아래로 잠길 수 있고, 상기 처리액이 상기 기판들의 표면으로부터 실질적으로 완전히 배출되도록(flow), 실질적으로 수직 방향(V)으로 상기 처리액으로부터 상승될 수 있는, 기판의 건조 장치에 있어서, 상기 캐리어(6)가 상승시 상기 수직 방향(V)에 대해 미리 정해진 각(α, β)만큼 선회될 수 있도록 하는 선회 장치(5)가 제공되는 것을 특징으로 하는, 기판의 건조 장치에 관한 것이다. 건조의 효율을 높이기 위해 본 고안에 따라 상기 캐리어(6)가 상승시 수직 방향(V)에 대해 미리 정해진 각(α, β)만큼 선회된다.

7. 发明公开

KR1020130023144A 연속 시스템에서 액체 레벨 조절 방법 및 장치 无效
标题翻译：用于连续系统中液位调节的方法和装置
公开(公告)号：KR1020130023144A
公开(公告)日：2013-03-07
申请号：KR1020120092845
申请日：2012-08-24
申请人： 레나 게엠베하
发明人： 바이에르마르쿠스
IPC分类号： G05D7/00
CPC分类号： G05D9/12
摘要： PURPOSE: A liquid level control method and a control device in a continuous system are provided to withstand fault and have rigidity by controlling relative vertical intervals based on a set adjustment value. CONSTITUTION: An actual level value, corresponding to a current vertical interval, is compared to a set level value, corresponding to a desired vertical interval, by a control device. The control device generates a set adjustment value. The control device delivers the set adjustment value to the device for controlling a relative vertical interval. The actual level value is determined by the integral surface of a plane object in a processing container. [Reference numerals] (AA) Detecting an introduced substrate and determining the number of the substrates; (BB) Determining a adjustment set value; (CC) Delivering to a device(ex. pump) for controlling a relative vertical interval; (DD) Actual adjustment value(ex. pump flow amount); (EE) Determining offset(difference); (FF) Offset = 0?; (GG) No; (HH) Yes; (II) Flow variation for each substrate : pump characteristic curve
摘要翻译：目的：提供连续系统中的液面控制方法和控制装置，以通过基于设定的调整值控制相对垂直间隔来承受故障并具有刚度。构成：通过控制装置将对应于当前垂直间隔的实际电平值与对应于期望的垂直间隔的设定电平值进行比较。控制装置产生设定的调整值。控制装置将设定的调整值递送到用于控制相对垂直间隔的装置。实际水平值由处理容器中的平面物体的整体面决定。（附图标记）（AA）检测引入的基板并确定基板的数量; （BB）确定调整值; （CC）传送到设备（例如泵），用于控制相对垂直间隔; （DD）实际调整值（例如泵流量）; （EE）确定偏移（差）; （FF）Offset = 0？（GG）否（HH）是; （II）每个基板的流量变化：泵特性曲线

8. 发明授权

KR101133085B1 하나 이상의 기판상에 금속층들을 형성하기 위한 공정 반응기의 조립용 키트 및 이를 이용한 방법 失效
标题翻译：用于组装用于在一个或多个基材上形成金属层的工艺反应器的组件及其使用方法
公开(公告)号：KR101133085B1
公开(公告)日：2012-04-24
申请号：KR1020087023897
申请日：2007-12-10
申请人： 레나 게엠베하
发明人： 하베르만디르크 , 뮐러패트릭 , 하르트만스그루버에른스트
IPC分类号： C25D17/02 , C25D5/08 , C25D21/18
CPC分类号： C25D17/02 , C25D5/08 , C25D17/001 , C25D17/007 , C25D17/008 , C25D21/18
摘要： 본 발명은 하나 이상의 기판들상에 금속층을 형성하기 위한 공정 반응기의 조립용 키트에 관한 것으로서, 상기 층들은 상기 기판들 상의 유체 내에 존재하는 금속 이온들의 석출에 의해 생산되고, 상기 키트는 다음의 구성요소들: 두개의 단부들(4, 5)을 갖는 반응기 하우징(3)으로서, 상기 유체가 상기 반응기 하우징(3)의 내부를 일단부에서 타단부로 흐르는 반응기 하우징(3); 상기 반응기 하우징(3)의 출구(4)의 영역에 배열되는 상기 기판의 수용을 위한 장치(6); 상기 반응기 하우징(3)의 출구(4)의 영역에 있는 적어도 하나의 오버플로우(8)로서, 상기 오버플로우(8) 위로 상기 기판(2)의 방향으로 흐르는 상기 유체(F)가 상기 반응기 하우징(3)으로부터 빠져나갈 수 있는 적어도 하나의 오버플로우(8); 상기 오버플로우(8)위로 빠져나가는 상기 유체(F)의 수용을 위한 집수 탱크(10); 상기 반응기 하우징(3)으로 수집된 유체를 재순환시키는 위한 수단;및 적어도 하나의 애노드를 실질적으로 포함하고, 여기서, 상기 공정 반응기는, 넓은 균일한 균질 코팅을 얻기 위하여, 하나 이상의 다음의 구성 요소들: 상기 반응기 하우징(3) 내의 상기 유체(F)를 특정적으로 제어하기 위한 적어도 하나의 흐름 조절 장치(S); 상기 반응기 하우징(3) 내에 수립된 전기장을 특정적으로 제어하기 위한 적어도 하나의 장 조절 장치(E); 양의 또는 음의 포텐셜 둘 중 어느 하나를 취할 수 있고, 코팅될 상기 기판(2) 및 상기 반응기 하우징(3)의 반대쪽의 단부(5) 사이에 배열되는 적어도 하나의 보조 전극(H); 상기 반응기 하우징(3) 내에 수립되는 전기장을 정렬하기 위한 적어도 하나의 오리피스(B); 상기 반응기 하우징(3) 내의 상기 유체(F)의 유동을 정렬하기 위한 적어도 하나의 오리피스;및 상기 반응기 하우징(3)의 내부 직경(3i)을 감소시키기 위한 적어도 하나의 링 요소(R)을 더 포함한다.
전기도금, 기판, 금속층, 석출

9. 发明公开

KR1020120026487A 전기 화학적 표면 공정을 제어하기 위한 방법 및 장치 无效
标题翻译：用于控制电化学表面工艺的方法和装置
公开(公告)号：KR1020120026487A
公开(公告)日：2012-03-19
申请号：KR1020117026381
申请日：2010-05-18
申请人： 레나 게엠베하
发明人： 후벨,에곤
IPC分类号： C25D17/00 , C25D17/12 , C25D21/12 , C25F7/00
CPC分类号： C25D21/12 , C25D7/0621 , C25D7/0642 , C25D7/0657 , C25D7/0692
摘要： 본 발명은 우측 및 좌측 콘택(3', 3")을 이용하여 재료(1)의 대향 배치된 가장자리의 전기 접촉부를 포함하는 연속 장치 또는 침적 도포 장치에서 기판의 전기 화학적 처리에 관한 것이다. 선행기술에서는 이송 방향에 대해 가로방향으로 재료의 중앙 영역에서 최소치를 갖는 상이한 강도의 처리가 이루어진다. 재료를 완전히 일정하게 전기 도금하기 위해, 본 발명에 따라 이송 방향에 대해 가로 방향으로 개별 애노드(7', 7") 및 정류기(6', 6")를 포함하고 바람직하게 동일한 크기의 2개의 전해 전지들이 우측 및 좌측 부재들로서 배치된다. 우측 전지(8')에는 음극으로 좌측 콘택(3")을 통해 도금 전류가 공급되고, 좌측 전지(8")에는 상응하게 우측 콘택(3')을 통해 공급된다. 재료(1)의 처리는 각각의 측면에 시간적으로 교대로 작용하는 2개의 전해 전지들(8', 8")의 상이한 크기로 설정된 전류에 의해 2개의 측면의 정류기(6', 6")의 전류 강도의 제어 또는 조절에 의해서만 매우 정확하게, 즉 일정하게 조절될 수 있다.

10. 发明授权

KR101093677B1 평탄 기판의 표면 개질 방법 및 장치 失效
标题翻译：用于平面基板表面改性的方法和装置
公开(公告)号：KR101093677B1
公开(公告)日：2011-12-15
申请号：KR1020097018465
申请日：2008-05-20
申请人： 레나 게엠베하
发明人： 칼텐바흐콘라드 , 시엔레프랑크 , 발두스안드레아스 , 바르바르가싼
IPC分类号： B05C3/18 , B05C9/02
CPC分类号： C23C2/04 , C03C17/002 , C03C17/22 , C03C17/3678 , C03C2217/28 , C03C2218/36 , H01L31/18 , H01L31/1836 , Y02E10/50
摘要： 본 발명은 일반적으로 일-측면의 습식 화학 표면 개질과 특히 평탄 기판의 코팅에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 유리, 금속 또는 플라스틱으로부터 제조되는 박막 태양 전지 또는 모듈을 제조하는 동안에 기판을 예를 들면 카드뮴 황화물 또는 아연 황화물 등의 금속 화합물로 코팅하는 방법 및 장치에 관한 것이다.
습식, 화학, 표면, 개질, 코팅

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