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81. 发明公开

KR1020130077880A 플라즈마 가공 설비 有权
标题翻译：等离子处理设备
公开(公告)号：KR1020130077880A
公开(公告)日：2013-07-09
申请号：KR1020137010511
申请日：2010-12-22
申请人： 베이징 나우라 마이크로일렉트로닉스 이큅먼트 씨오., 엘티디.
发明人： 첸펭 , 자오멩신 , 웨이강 , 장리앙 , 양바이 , 우구일롱 , 딩페이준
IPC分类号： H01J37/34 , C23C14/35
CPC分类号： C23C14/358 , C23C14/564 , H01J37/32467 , H01J37/32651 , H01J37/32871 , H01J37/3411
摘要： 본 발명의 플라즈마 가공 설비는 챔버(20) 및 챔버(20) 상부의 타겟(25)을 포함하며, 타겟(25)의 표면이 챔버(20) 내의 처리 구역과 접촉되며, 챔버(20)는 중첩 설치된 절연 서브 챔버(21)와 제1 전도 서브 챔버(22)를 포함하며, 제1 전도 서브 챔버(22)는 절연 서브 챔버(21)의 하면에 구비되며, 절연 서브 챔버(21)는 절연재료로 이루어지며, 제1 전도 서브 챔버(22)는 금속재료로 이루어진다. 절연 서브 챔버(21)의 내부에는 패러데이 실드부재(10)가 구비되며, 패러데이 실드부재(10)는 금속재료로 이루어지거나 또는 전도 코팅층이 도금된 절연재료로 이루어지며, 패러데이 실드부재(10)는 적어도 하나의 슬릿을 구비하며, 절연 서브 챔버(21)의 외측에는 유도 코일(13)이 감겨진다. 본 플라즈마 가공 설비는 스퍼터링 과정에서 코일 표면에 파티클이 형성되어 웨이퍼에 오염을 초래하는 문제를 해결한다.
摘要翻译：本发明的等离子体处理设备包括室20和位于室20顶部的靶25，靶25的表面接触室20内的处理区，第一导电子室22设置在绝缘子室21的下表面上，并且绝缘子室21设置在绝缘子室21的下表面上，并且第一导电子室22由金属材料制成。法拉第屏蔽部件10由镀有导电涂层的金属材料或绝缘材料制成，并且法拉第屏蔽部件10由金属材料制成，感应线圈13缠绕在绝缘副室21的外侧。感应线圈13缠绕在狭缝上。该等离子体处理设备解决了在溅射过程中在线圈表面上形成颗粒的问题，从而导致晶片的污染。

82. 发明授权

KR101104571B1 유도 결합 플라즈마 장치 有权
标题翻译：电感耦合等离子体装置
公开(公告)号：KR101104571B1
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：KR1020117010679
申请日：2007-01-26
申请人： 베이징 나우라 마이크로일렉트로닉스 이큅먼트 씨오., 엘티디.
发明人： 송차오리 , 난지안회이
IPC分类号： H05H1/46 , H01L21/3065 , H05H1/24
CPC分类号： H01J37/3211 , H01F27/28 , H01F38/10 , H01F38/14 , H01J37/321 , H01J37/32119 , H01J37/32183 , H01J2237/3344
摘要： 유도 결합 코일 또는 이를 이용한 유도 결합 플라즈마 장치는 내부 코일과 외부 코일을 구비한다. 내부 코일과 외부 코일은 서로 독립되고 동축으로 배치된다. 내부 코일은 다수개의 동일한 구조를 가진 서로 함유한 독립된 내부 서브 코일을 포함하고, 다수개의 독립된 내부 서브 코일은 축에 대해 대칭으로 배치된다. 외부 코일은 다수개의 동일한 구조를 가진 서로 함유한 독립된 외부 서브 코일로 이루어지고, 다수개의 서로 독립한 외부 서브 코일은 축에 대해 독립적으로 배열된다. 유도 결합 코일은 유도 결합 플라즈마 장치의 반응 챔버에 위치하고 RF 파워와 연결된다. 이는 반응챔버 내 칩 상에 플라즈마 분포를 균일하게 하여 웨이퍼 표면에 화학 반응 속도차가 작게 하고 식각된 칩의 품질을 향상시킨다. 이는 반도체 칩 프로세스 장치와 다른 장치에 적용될 수 있다.
摘要翻译：本发明公开了一种电感耦合线圈和使用该线圈的电感耦合等离子体装置。电感耦合线圈包括内部线圈和外部线圈，它们彼此相对并且同轴布置，内部线圈包括具有嵌套在一起的相同构造的多个内部各自的分支，所述多个内部各自的分支对称地布置有相对于电感耦合线圈的轴线; 所述外部线圈包括具有嵌套在一起的相同配置的多个外部各自的分支，所述多个外部相应的分支相对于所述电感耦合线圈的轴对称地布置。电感耦合线圈位于感应耦合等离子体装置的反应室上，并连接到RF源。可以使等离子体均匀地分布在反应室中的晶片上，使晶片表面的化学反应速度差小，蚀刻后的晶片的品质提高。它们可以应用于半导体晶片制造装置中，并且也可以适用于其他装置。

83. 发明公开

KR1020090033877A 유도 결합 코일 및 그 유도 결합 플라즈마 장치 有权
标题翻译：电感耦合线圈及其电感耦合等离子体设备
公开(公告)号：KR1020090033877A
公开(公告)日：2009-04-06
申请号：KR1020097001534
申请日：2007-08-14
申请人： 베이징 나우라 마이크로일렉트로닉스 이큅먼트 씨오., 엘티디.
发明人： 송차오리 , 난지안회이
IPC分类号： H01F38/14 , H01F21/00 , H01H1/46 , H01L21/3065
CPC分类号： H05H1/46 , H01F17/02 , H01F21/04 , H01F38/14 , H01J37/321
摘要： An inductive coupling coil comprises a plenty of separate portions with the same structure. A plenty of separate portions are coaxial and are distributed symmetrically about an axes. An inductive coupling plasma apparatus which applies an inductive coupling coil comprises a reactive chamber, an dielectric window set on the reactive chamber, in which the inductive coupling coil is set on the dielectric window and is connected to an RF source via an RF adapter.
摘要翻译：电感耦合线圈包括大量具有相同结构的单独部分。大量分开的部分是同轴的，并且关于轴对称地分布。施加电感耦合线圈的电感耦合等离子体装置包括反应室，设置在反应室上的电介质窗，其中感应耦合线圈设置在电介质窗口上，并且经由RF适配器连接到RF源。

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