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    • 64. 发明授权
    • 검사 장치 및 방법, 리소그래피 장치, 리소그래피 처리 셀 및 디바이스 제조 방법
    • 检查装置和方法,一种光刻设备,一种制造平版印刷处理单元和装置的方法
    • KR101830850B1
    • 2018-02-21
    • KR1020167002988
    • 2014-06-13
    • 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
    • 퀸타닐라,리차드
    • G03F7/20G01N21/956
    • G03F7/70625G01N21/95623G01N2201/061G01N2201/08G01N2201/12G03F7/70633
    • 본발명은웨이퍼의격자와같은기판(W)의타겟(30)의특성을결정한다. 검사장치는높은개구수대물렌즈(L3)의퓨필평면에 2 이상의조명빔들(716, 716', 716'', 716''')을갖는조명소스(702, 710)를갖는다. 기판및 타겟은기판의평면에대하여상이한입사각으로부터대물렌즈를통해조명된다. 4 개의조명빔들의경우, 쿼드웨지광학디바이스(QW)가기판으로부터산란된방사선의회절차수들을별개로전향하기위해사용되며, 2 이상의조명빔들로부터회절차수들을분리시킨다. 예를들어, 4 개의회절차수들이 4 개의입사방향에대해분리된다. 다중모드섬유(MF)의캡처후, 파장의함수로서별개로전향된 0차회절차수들의세기를측정하기위해분광계들(S1 내지 S4)이사용된다. 이후, 이는타겟의특성을결정하는데 사용될수 있다.
    • 本发明确定在基板(W),目标(30)的特性,例如在晶片的一个网格。 DA值具有在物镜(L3)的光瞳平面中的至少两个照明光束的高数值孔径(716,716“ 716' ”,716' ‘’)的照明源具有(702,710)。 所述基板和所述目标通过物镜从入射的不同的角度相对于该基板的平面照明。 在四个照明束的情况下,四楔形光学器件(QW)用于转发数从顶板国会过程分开的散射辐射的,所述衍射级的从两个或两个以上的照明光束的分离。 例如,四名的程序是分开的四个入射方向。 所述多模光纤(MF)的捕获之后,它对于光谱仪来测量的零数的强度后过程前进分别作为波长(S1至S4)导演的功能。 然后,它可以用于确定目标的特征。
    • 66. 发明公开
    • 분광 측정 장치 및 분광 측정 방법
    • 光谱测量装置和光谱测量方法
    • KR1020170088330A
    • 2017-08-01
    • KR1020177007635
    • 2015-11-19
    • 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤
    • 스즈키겐고이구치가즈야
    • G01N21/25G01N21/64
    • G01N21/645G01J3/4406G01N21/636G01N2021/6417G01N2021/6469G01N2021/6471G01N2021/6484G01N2201/065G01N2201/08
    • 분광측정장치(1)는광원(10), 적분기(20), 분광검출기(40) 및해석부(50)를구비한다. 적분기(20)는측정대상물이배치되는내부공간(21)과, 광을내부공간(21)에입력하는광 입력부(22)와, 내부공간(21)으로부터광을출력하는광 출력부(23)와, 측정대상물을장착하는시료장착부(24)와, 필터부를장착하는필터장착부(25)를갖는다. 필터부는여기광에대한감쇠율이업 컨버전광에대한감쇠율보다큰 투과스펙트럼을가지며, 광출력부(23)로부터출력되는광을감쇠시킨다. 해석부(50)는분광검출기(40)에의해취득된분광스펙트럼데이터및 투과스펙트럼데이터에기초하여측정대상물의발광효율을해석한다. 이에따라, 업컨버전광 발생효율을용이하게측정할수 있는분광측정장치및 분광측정방법이실현된다.
    • 分光测定装置1具备光源10,积分器20,分光检测器40以及分析部50。 积分器20具有:配置有测定对象物的内部空间21;用于向内部空间21输入光的光输入部22;用于从内部空间21输出光的光输出部23; 用于安装测量对象的样本安装部24以及用于安装过滤部的过滤器安装部25。 滤波器部具有透过光谱,该透过光谱对激发光的衰减率比对上变换光的衰减率大,并且使从光输出部23输出的光衰减。 分析单元50基于由光谱检测器40获取的光谱数据和透射光谱数据来分析测量对象的发光效率。 因此,实现了能够容易地测量上转换光生成的效率的分光测量装置和分光测量方法。