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51. 发明公开

KR1020150032463A 스파이럴 도포 장치 无效
标题翻译：螺旋涂装
公开(公告)号：KR1020150032463A
公开(公告)日：2015-03-26
申请号：KR1020140112373
申请日：2014-08-27
申请人： 가부시끼가이샤 도시바
发明人： 기시도시유키 , 후치카미야스히코 , 오오시로겐이치
IPC分类号： H01L21/67 , G03F7/16 , B05B15/02 , B05C5/02 , G03F1/82
CPC分类号： B05B15/0266 , B05B15/55 , B05B15/555 , B05B15/557 , B05C5/0208 , G03F7/162 , H01L21/6715 , G03F1/82
摘要： 실시 형태에 의하면, 스테이지와, 노즐과, 이동 유닛과, 기체 공급부와, 세정액 공급부와, 노즐 세정부를 구비한 스파이럴 도포 장치가 제공된다. 스테이지는, 도포 대상물이 적재되는 적재면을 갖는다. 노즐은, 스테이지에 적재된 도포 대상물에 액을 토출한다. 이동 유닛은, 스테이지에 대하여 상대적으로 노즐을 이동시킨다. 기체 공급부는 기체를 공급한다. 세정액 공급부는 세정액을 공급한다. 노즐 세정부는, 기체 공급구와 세정액 공급구를 갖고, 기체 공급부로부터 공급된 기체를 기체 공급구로부터 노즐을 향하여 분사하고, 세정액 공급부로부터 공급된 세정액을 세정액 공급구로부터 노즐을 향하여 토출한다.
摘要翻译：根据实施方式，提供了一种螺旋涂布装置，其包括载物台，喷嘴，移动单元，气体供给部，清洗液部以及喷嘴清洗部。舞台具有用于安装涂覆物体的安装表面。喷嘴将溶液注入安装在载物台上的涂覆物体上。移动单元相对于舞台相对地移动喷嘴。供气部供给气体。清洁溶液供应部件提供清洁溶液。喷嘴清洗部具有供气孔和清洗液供给孔，将从气体供给部供给的气体喷射到喷嘴，将从清洗液供给部供给的清洗液喷射到喷嘴。

52. 发明公开

KR1020140115959A 노즐 세정 유닛 및 노즐 세정 방법 无效
标题翻译：喷嘴清洁单元和喷嘴清洁方法
公开(公告)号：KR1020140115959A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：KR1020140023455
申请日：2014-02-27
申请人： 가부시끼가이샤 도시바
发明人： 오오시로겐이치 , 사토츠요시 , 고바야시히로아키
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： B05B15/025 , B05B15/55 , B05B15/555 , B05C11/08 , H01L21/6715
摘要： A nozzle cleaning unit regarding an embodiment is equipped with a cleaning nozzle part having a first spraying hole which is open in a circular shape on an inner wall of a hole where a nozzle is inserted; a gas supply part supplying gas into the first spraying hole; and a pressure reducing part pressure-reducing the atmosphere in a hole where the nozzle is inserted opposite to the hole where the nozzle is inserted, placing the position, where the first spraying hole is formed, therebetween.
摘要翻译：关于实施例的喷嘴清洁单元配备有清洁喷嘴部分，其具有在插入喷嘴的孔的内壁上以圆形打开的第一喷射孔; 气体供给部，其向第一喷射孔供给气体; 以及减压部，减压喷嘴相对于喷嘴插入的孔相对的孔内的气氛，在其间形成有第一喷孔的位置。

53. 发明授权

KR101399561B1 진보된 리소그래피 프로세스를 위한 세정 노즐 有权
标题翻译：用于高级光刻工艺的清洁喷嘴
公开(公告)号：KR101399561B1
公开(公告)日：2014-05-27
申请号：KR1020120025579
申请日：2012-03-13
申请人： 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드
发明人： 양칭-하이 , 리상-셍
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/6715 , B05B15/50 , B05B15/555 , G03F7/30 , H01L21/67051
摘要： 반도체 디바이스를 제조하는 장치를 개시한다. 이 장치는 리소그래피 툴을 포함한다. 이 리소그래피 툴은, 웨이퍼에 현상제 용액을 분배하도록 된 제1 노즐; 제1 노즐에 세정액을 분배하도록 된 제2 노즐; 및 미리 정해진 프로그램에 따라 제2 노즐을 작동시키도록 된 제어기를 포함하는 것인 반도체 디바이스의 제조 장치. 또한, 반도체 디바이스를 제조하는 방법을 개시한다. 이 방법은, 제1 노즐을 이용하여 웨이퍼 상에 현상제 용액을 분배하는 것을 포함하는 현상 프로세스를 수행하는 것을 포함한다. 이 방법은 또한 제1 노즐과 제2 노즐이 선택적으로 작동되는 순서 및 지속 시간을 각각 규정하는 복수의 프로그램 레시피 중 하나에 따라 실행되는, 제2 노즐로 제1 노즐을 세정하는 것을 포함한다.

54. 发明公开

KR1020140012952A 분무기용 세척 기구 및 세척용 브러시 및 그의 세척 방법 审中-实审
标题翻译：清洁装置和清洁刷子和相应的清洁方法
公开(公告)号：KR1020140012952A
公开(公告)日：2014-02-04
申请号：KR1020137015392
申请日：2011-11-02
申请人： 듀르 시스템스 아게
发明人： 클라이너,마커스 , 바우만,미카엘 , 벅크,토마스 , 샤퍼,랄프 , 솜머,게오르그 , 우르스트,마틴 , 헤르,프랑크
IPC分类号： B05B15/02 , B08B1/04
CPC分类号： B08B1/002 , A46B13/001 , B05B15/52 , B05B15/555 , B08B1/04 , B08B3/02
摘要： 본 발명은 특별한 이형을 가지는 분무기(2)를 세척시키기 위한 세척 기구(1)에 관한 것으로, 상세하게는, 분무기(2)를 세척시키기 위한 적어도 하나의 세척용 브러시(5)를 포함하고, 세척용 브러시(5)는 특정된 브러시 외형을 가지는, 회전형 분무기(2)를 세척시키기 위한 세척 기구(1)에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 세척용 브러시(5)의 브러시 외형이 분무기(2)의 외형에 맞추어지게끔 되어져서, 세척용 브러시(5)가 분무기(2)에 안착되어진다. 번 발명은 또한 대응하는 세척용 브러시(5) 및 적절한 세척 방법에 관한 것이다.

55. 发明公开

KR1020130023040A 진보된 리소그래피 프로세스를 위한 세정 노즐 有权
标题翻译：用于高级光刻工艺的清洁喷嘴
公开(公告)号：KR1020130023040A
公开(公告)日：2013-03-07
申请号：KR1020120025579
申请日：2012-03-13
申请人： 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드
发明人： 양칭-하이 , 리상-셍
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/6715 , B05B15/50 , B05B15/555 , G03F7/30 , H01L21/67051 , H01L21/0273 , B05B17/04 , G03B27/32 , G03F7/40
摘要： PURPOSE: A cleaning nozzle for an advanced lithography process is provided to improve a lithography process by controlling a cleaning nozzle to distribute cleaning fluid at preset programmed time. CONSTITUTION: A development module(110) includes a GP nozzle(120), a cleaning nozzle(130), a controller(140), and an exhaust element(150). The GP nozzle(120) distributes developer solutions to a wafer and includes a tip to distribute the developer solutions. The cleaning nozzle cleans the tip of the GP nozzle using the cleaning solutions. The controller operates the cleaning nozzle according to a preset program. The exhaust element removes moisture from the developer module. [Reference numerals] (110) Development module; (120) GP nozzle; (130) Cleaning nozzle; (140) Controller; (150) Exhaust element
摘要翻译：目的：提供用于先进光刻工艺的清洁喷嘴，以通过控制清洁喷嘴以预设的编程时间分配清洁流体来改善光刻过程。构成：显影模块（110）包括GP喷嘴（120），清洁喷嘴（130），控制器（140）和排气元件（150）。 GP喷嘴（120）将显影剂溶液分配到晶片并且包括分配显影剂溶液的尖端。清洁喷嘴使用清洁溶液清洁GP喷嘴的尖端。控制器根据预设程序操作清洁喷嘴。排气元件从显影剂模块中除去水分。（附图标记）（110）开发模块; （120）GP喷嘴; （130）清洁喷嘴; （140）控制器; （150）排气元件

56. 发明授权

KR101163308B1 성막 장치 및 성막 방법 有权
标题翻译：电影制作系统和使用应用喷嘴的方法
公开(公告)号：KR101163308B1
公开(公告)日：2012-07-05
申请号：KR1020100053275
申请日：2010-06-07
申请人： 가부시끼가이샤 도시바 , 쥬가이로 고교 가부시키가이샤
发明人： 오오시로겐이찌 , 사또쯔요시 , 도꾸모또다까오 , 나쯔사다오 , 이와사끼소우이찌로우
IPC分类号： H01L21/027 , B05C11/08 , B05D1/40
CPC分类号： H01L21/6715 , B05B12/08 , B05B12/084 , B05B15/52 , B05B15/555 , B05B15/557 , B05C5/0216 , B05C5/0291 , B05C11/08 , B05D1/005 , B41J2/165 , B41J2/16579 , H01L21/67051
摘要： 본 발명의 과제는, 재료 이용 효율 및 가동률의 향상을 실현함과 함께, 도포 노즐의 오염에 기인하는 막 두께 균일성의 저하를 방지하는 것이다.
성막 장치(1)에 있어서, 도포 대상물 W가 적재되는 적재면(2a)을 갖는 스테이지(2)와, 스테이지(2)를 적재면(2a)을 따르는 회전 방향으로 회전시키는 회전 기구(3)와, 스테이지(2) 상의 도포 대상물 W에 재료를 토출하여 도포하는 도포 노즐(4)과, 스테이지(2)와 도포 노즐(4)을 회전 방향으로 교차하는 교차 방향으로 적재면(2a)을 따라 상대 이동시키는 이동 기구(5)와, 도포 대상물 W가 적재된 스테이지(2)를 회전 기구(3)에 의해 회전시키면서, 이동 기구(5)에 의해 스테이지(2)와 도포 노즐(4)을 교차 방향으로 적재면(2a)을 따라 상대 이동시켜, 도포 노즐(4)에 의해 스테이지(2) 상의 도포 대상물 W에 재료를 도포하는 제어를 행하는 제어부(10)와, 도포 노즐(4)을 세정하는 세정 장치(7)를 구비한다.

57. 发明授权

KR101139202B1 노즐 세정 장치, 노즐 세정 방법 및 노즐 세정 프로그램을기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체 有权
标题翻译：喷嘴清洁装置，喷嘴清洁方法和计算机可读记录介质记录喷嘴清洁程序
公开(公告)号：KR101139202B1
公开(公告)日：2012-04-26
申请号：KR1020070049646
申请日：2007-05-22
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 히라오다께시 , 후지모또아끼히로 , 소오마야스따까
IPC分类号： B05C5/00
CPC分类号： H01L21/67051 , B05B15/55 , B05B15/555 , B05B15/557
摘要： 기판에 처리액을 토출하는 노즐을 세정하는 노즐 세정 장치에 있어서, 기판 처리에 문제점이 생기지 않도록 노즐 선단부를 효율적으로 세정하고, 또한 장치 비용을 저감할 수 있는 노즐 세정 장치, 노즐 세정 방법 및 노즐 세정 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체를 제공하는 것이다.
노즐(30)을 수용하고 적어도 노즐(30) 선단부 주위의 내주면이 깔때기 형상으로 형성된 세정실(1)과, 세정실(1)의 깔때기 형상의 내주면에 따라서 주위 방향으로 세정액으로서의 용제(T)를 유입하는 세정액 공급 수단을 구비하고, 노즐(30)이 세정실(1) 내에 수용되었을 때, 세정액 공급 수단(21)이 세정실(1) 내에 용제(T)를 소정량 공급하고, 노즐(30)의 주위를 선회하는 용제(T)의 소용돌이가 형성된다.
노즐, 세정액 공급 수단, 용제, 세정실, 유로관, 폐액관

58. 发明公开

KR1020120035278A 유체분사장치 有权
标题翻译：喷洒流体的装置
公开(公告)号：KR1020120035278A
公开(公告)日：2012-04-16
申请号：KR1020100096664
申请日：2010-10-05
申请人： 주식회사 하나테크
发明人： 임재홍 , 김인수 , 이승훈 , 김종점 , 박혁
IPC分类号： B05B7/02 , B05B1/26 , B05B3/00
CPC分类号： B05B7/24 , B05B1/14 , B05B7/0416 , B05B13/0278 , B05B15/555 , B05B15/60
摘要： PURPOSE: An apparatus for injecting fluid is provided to control spraying distance, direction, and angle and increase domain of spraying fluid. CONSTITUTION: An apparatus for injecting fluid comprises a casing(1), a sliding casing(2), a pipe(3), and a nozzle(4). In casing, a fan(12) actuating wind pressure is installed in front. The sliding casing is combined with the casing in order to move and to be projected forward. The sliding casing transfers wind pressure to the front. The pipe is provided fluid and is installed in the sliding casing. The pipe is rotatable so that the spray direction can be changed. The pipe comprises a pipe part(31) and a link device(32). The pipe part is divided and installed along the circumference of the sliding casing.
摘要翻译：目的：提供一种注射流体的装置，以控制喷涂距离，方向和角度，增加喷涂液体的面积。构成：用于注射流体的装置包括壳体（1），滑动壳体（2），管道（3）和喷嘴（4）。在壳体中，前面安装有致动风压的风扇（12）。滑动套管与壳体结合以移动并向前突出。滑动套管将风压传递到前面。管道提供流体并安装在滑动套管中。该管可旋转，从而可以改变喷雾方向。该管道包括管道部分（31）和连接装置（32）。管部分沿着滑动套管的圆周分开安装。

59. 发明公开

KR1020110011695A 박층을 용액 코팅하는 장치 및 방법 无效
标题翻译：用于溶解涂层薄膜的装置和方法
公开(公告)号：KR1020110011695A
公开(公告)日：2011-02-08
申请号：KR1020107028514
申请日：2009-05-19
申请人： 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니
发明人： 랭,찰스,디. , 페어클로스,타미,재닌
IPC分类号： B05C5/00 , B05C11/10 , B05D1/26
CPC分类号： B05C5/0254 , B05B15/555 , B05D3/0493 , H01L51/0003 , H01L51/0004 , H01L51/56
摘要： 전자 소자의 기재 상에 층을 용액 코팅하기 위한 장치 및 방법. 진공 보조 장치와 함께 슬롯 다이 코팅기가 프라이밍, 코팅 및 세정 스테이션에서 사용되어 경쟁 기술에 비하여 성능 상 이점을 가진 박층을 생성한다.

60. 发明授权

KR100988659B1 비접촉식 스프레이 기구 세척 장비 有权
标题翻译：无接触式喷雾装置清洁装置
公开(公告)号：KR100988659B1
公开(公告)日：2010-10-18
申请号：KR1020057014799
申请日：2003-02-21
申请人： 재섭, 필립 , 도일, 제임스
发明人： 재섭,필립 , 도일,제임스
IPC分类号： B05B15/02
CPC分类号： B08B3/006 , B05B15/55 , B05B15/555 , B08B3/02
摘要： 본 발명은, 스프레이 기구(spray apparatus)를 사용하지 않을 때나, 스프레이 기구에 액체를 교체하고자 할 때, 스프레이 기구의 팁(tip), 공기 캡(air cap), 리테이너(retainer) 및 컵(cup)을 세척하고 건조시키기 위한 비접촉식 자동 세척 장비이며, 이는 환경기준을 만족하게끔, 세척 폐기물을 모아 회수하면서, 스프레이 기구에 정전 아크와 표면상에 스피트(spit)와 드립(drip)을 야기시키는, 스프레이 기구에 쌓여진 페인트를 제거하기 위한 장비다.
스프레이 기구, 세척 장비, 비접촉식, 건조 장비, 벨로시티 링, 용제회수 시스템, 분사 노즐

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