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41. 发明公开

KR1020160098379A 충돌 보호 기능을 구비하는 실리콘 웨이퍼 엣지 보호장치 审中-实审
标题翻译：具有冲击保护功能的硅波形边缘保护装置
公开(公告)号：KR1020160098379A
公开(公告)日：2016-08-18
申请号：KR1020167018798
申请日：2014-12-26
申请人： 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드
发明人： 후앙,징리 , 주,웨빈
IPC分类号： H01L21/687 , H01L21/67
CPC分类号： F16D7/048 , H01L21/67288 , H01L21/67742 , H01L21/67766 , H01L21/68707 , H01L21/68735 , H01L21/68742 , H01L21/68792 , H01L21/67178 , H01L21/68764 , H01L21/68785
摘要： 실리콘웨이퍼엣지보호장치에있어서, 서보모터(1)를구비하는전기제어모듈, 수직운동기구(3) 및보호기구(2)를포함한다. 보호기구(2)는, 서보모터(1)의모터축에고정연결되며복수개의제1 연결부재를구비하는커플링(202)과, 수직운동기구(3)에고정연결되며복수개의제2 연결부재를구비하는드라이브슬리브(203)을포함한다. 복수개의제1 및제2 연결부재사이는활동가능한방식으로서로연결되어, 서보모터(1)의모터축이출력하는토크가한정값을초과하지않을경우, 복수개의제1 및제2 연결부재는서로맞물리고, 서보모터(1)의모터축이출력하는토크가한정값을초과할경우, 복수개의제1 연결부재와복수개의제2 연결부재의연결이차단됨으로써서보모터(1)의회전운동이수직운동기구(3)로전달되는것을방지한다.

42. 发明公开

KR1020160093539A 첩합 디바이스의 제조 장치 审中-实审
标题翻译：制造粘结器件的方法
公开(公告)号：KR1020160093539A
公开(公告)日：2016-08-08
申请号：KR1020157018877
申请日：2013-12-04
申请人： 신에츠 엔지니어링 가부시키가이샤
发明人： 오타니요시카즈
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/687 , H01L21/683
CPC分类号： H01L21/67092 , H01L21/67126 , H01L21/6835 , H01L21/68742
摘要： 본발명은, 변압실이나관통공과전달부재와의사이에씰부재를이용하지않고전달부재를무접촉으로또한무제한으로이동가능한씰 구조를제공한다. 변압실(1)로의워크반입시에는, 제어부(7)에서폐쇄부재(6)가개방동작하여변압실(1)의관통공(12)을개구시킴으로써, 전달부재(5)가이동가능하게되고, 제1 워크(W1) 또는제2 워크(W2) 중어느하나혹은양자모두를전달부재(5)로수취하며, 전달부재(5)로부터제1 지지부재(2) 또는제2 지지부재(3) 중어느하나혹은양자모두에전달한다. 그후에는, 제어부(7)에서변압실(1)의관통공(12)으로부터전달부재(5)를빼낸후, 폐쇄부재(6)가폐쇄동작하여관통공(12)을기밀형상으로폐쇄시킴으로써, 변압실(1)이고도의진공상태가될 때까지감압가능하게되어, 제1 워크(W1)와제2 워크(W2)가첩합된다.

43. 发明公开

KR1020160088961A 패턴 형성 방법 및 가열 장치 审中-实审
标题翻译：图案形成方法和加热装置
公开(公告)号：KR1020160088961A
公开(公告)日：2016-07-27
申请号：KR1020147027096
申请日：2013-11-25
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 무라마츠마코토 , 기타노다카히로 , 도미타다다토시 , 다노우치게이지
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/38 , H01L21/027 , H01L21/311 , H01L21/67 , H01L21/687 , B05C9/14
CPC分类号： H01L21/0271 , H01L21/02118 , H01L21/02337 , H01L21/31138 , H01L21/67109 , H01L21/67115 , H01L21/68742 , G03F7/004 , B05C9/14 , G03F7/38
摘要： 본발명은기판상에패턴을형성하는데있어서, 적어도 2개의중합체를포함하는블록공중합체의막을기판에형성하고, 당해블록공중합체의막을용제증기분위기하에서가열하여, 블록공중합체를상분리시키고, 상분리된블록공중합체의막 중하나의중합체를제거하도록했으므로, 블록공중합체의중합체유동화를촉진해서상분리를촉진시킬수 있다.

44. 发明公开

KR1020160088820A 반도체 웨이퍼 프로세싱 동안 에지 프로세스 제어를 위한 이동식 에지 커플링 링 审中-实审
标题翻译：半导体加工过程中边缘过程控制的可移动边缘耦合环
公开(公告)号：KR1020160088820A
公开(公告)日：2016-07-26
申请号：KR1020160004905
申请日：2016-01-14
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 얀하오꽌 , 오닐로버트그리피스 , 카사이스라파엘 , 맥케즈니존 , 패터슨알렉스
IPC分类号： H01L21/687 , H01L21/02 , H01L21/3065 , H01L21/683
CPC分类号： H01L21/68742 , H01J37/023 , H01J37/20 , H01J37/32623 , H01J37/32642 , H01J37/32715 , H01L21/67069 , H01L21/68735
摘要： 기판프로세싱시스템은프로세싱챔버및 프로세싱챔버내에배치된페데스탈을포함한다. 에지커플링링은페데스탈의방사상으로외측에지에인접하게배치된다. 제 1 액추에이터는로봇암으로하여금프로세싱챔버로부터에지커플링링을제거하게하도록에지커플링링과페데스탈사이에틈 (clearance) 을제공하기위해페데스탈에대해상승된위치로에지커플링링을선택적으로이동시키도록구성된다.
摘要翻译：一种基板处理系统，包括：处理室; 以及设置在处理室内的基座。边缘连接环布置成与基座的径向方向上的外边缘相邻。第一致动器选择性地将边缘联接环移动到上升到基座的位置，以在边缘联接环和基座之间提供间隙，从而允许机器人臂从处理室移除边缘联接环。

45. 发明公开

KR1020160078399A 기판 처리 장치 및 방법 审中-实审
标题翻译：基板处理装置和方法
公开(公告)号：KR1020160078399A
公开(公告)日：2016-07-04
申请号：KR1020167013662
申请日：2014-10-21
申请人： 캐논 아네르바 가부시키가이샤
发明人： 가지하라유지
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/687 , H01L21/324 , H01L43/12 , C23C14/58
CPC分类号： H01L21/67109 , C23C14/58 , F25B9/002 , F25B9/02 , F25B9/14 , H01L21/67115 , H01L21/68742 , H01L43/02 , H01L43/08 , H01L43/10 , H01L43/12 , H05B1/0227 , H05B1/0247 , H01L21/324
摘要： 본발명은, 보다클린한상태에서기판을반송가능한, 기판을냉각하기위한기판처리장치및 방법을제공한다. 본발명의일 실시형태에따른기판처리장치로서의기판냉각장치는, 챔버; 냉각을행하는냉각부; 챔버내에서기판을재치하기위한기판재치면을가지고있는동시에, 냉각부에의해냉각되는기판홀더; 및챔버내에서기판재치면의옆쪽을둘러싸는측벽부를갖고있는동시에, 냉각부에의해냉각되는실드를포하한다. 또한, 실드의내측의면의근방에는, 실드히터가설치되어있다.
摘要翻译：本发明提供一种用于冷却基板的基板处理装置和基板处理方法，其能够在更清洁的状态下输送基板。作为本发明的实施方式的基板处理装置的基板冷却装置具备：室; 执行冷却的冷却单元; 衬底保持器，其设置有用于将衬底安装在腔室内的衬底安装表面，并被冷却单元冷却; 以及屏蔽体，其设置有围绕室内的基板安装面的侧面的侧面部，并且被冷却单元冷却。此外，在屏蔽件内侧的表面附近设置有屏蔽加热器。

46. 发明公开

KR1020160063411A 기판을 클램핑하는 방법 및 클래프 준비 유닛 有权
标题翻译：夹紧基板和夹具准备单元的方法
公开(公告)号：KR1020160063411A
公开(公告)日：2016-06-03
申请号：KR1020167013179
申请日：2010-02-18
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 데종,헨드릭잔 , 비랜드,마르코잔-자코
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/683 , H01L21/687
CPC分类号： G03F7/707 , H01L21/6838 , H01L21/68707 , H01L21/68742 , H01L21/6875 , H01L21/68785 , Y10T29/49815 , Y10T29/49998 , Y10T29/53 , H01L21/0273 , H01L21/68735
摘要： 본발명은기판지지구조(23)의표면상에기판(22)을클램핑하는방법에관한것이다. 첫째, 액체는기판지지구조의표면상에도포된다. 표면은다수의접촉엘리먼트들을구비한다. 액체는접촉엘리먼트들이액체층에의해완전히커버되도록적용된다. 그다음기판이제공되고액체층위에배치된다. 마지막으로, 기판아래액체는기판이다수의접촉엘리먼트들상에자리하고기판및 기판지지구조의표면사이액체의모세관층에의해가해지는모세관클램핑힘에의해클램핑되도록제거된다.
摘要翻译：本发明涉及一种在衬底支撑结构的表面上夹持衬底的方法。首先，在衬底支撑结构的表面上施加液体。该表面设置有多个接触元件。施加液体使得接触元件完全被液体层覆盖。然后将衬底提供并放置在液体层上。最后，去除衬底下面的液体，使得衬底搁置在多个接触元件上，并且通过由衬底和衬底支撑结构的表面之间的液体的毛细管层施加的毛细管夹紧力夹紧。

47. 发明授权

KR101624193B1 기판을 클램핑하는 방법 및 클래프 준비 유닛 有权
公开(公告)号：KR101624193B1
公开(公告)日：2016-05-26
申请号：KR1020117022173
申请日：2010-02-18
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 데종,헨드릭잔 , 비랜드,마르코잔-자코
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/707 , H01L21/6838 , H01L21/68707 , H01L21/68742 , H01L21/6875 , H01L21/68785 , Y10T29/49815 , Y10T29/49998 , Y10T29/53
摘要： 본발명은기판지지구조(23)의표면상에기판(22)을클램핑하는방법에관한것이다. 첫째, 액체는기판지지구조의표면상에도포된다. 표면은다수의접촉엘리먼트들을구비한다. 액체는접촉엘리먼트들이액체층에의해완전히커버되도록적용된다. 그다음기판이제공되고액체층위에배치된다. 마지막으로, 기판아래액체는기판이다수의접촉엘리먼트들상에자리하고기판및 기판지지구조의표면사이액체의모세관층에의해가해지는모세관클램핑힘에의해클램핑되도록제거된다.

48. 发明公开

KR1020160054509A 유체 스트림을 통해 대상물을 스캐닝하기 위한 장치 및 방법 审中-实审
标题翻译：通过流体流扫描物体的装置和方法
公开(公告)号：KR1020160054509A
公开(公告)日：2016-05-16
申请号：KR1020167008151
申请日：2014-08-29
申请人： 티이엘 에프에스아이, 인코포레이티드
发明人： 골루치마크 , 짐머맨데이빗씨 , 라슨로버트이 , 핸즐릭에드워드데닌 , 톰스그레고리폴 , 래쓰맨크리스티나안
IPC分类号： H01L21/67 , B08B5/02 , B08B3/02 , B08B3/04 , H01L21/687 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/67051 , B08B3/02 , B08B3/022 , B08B3/024 , B08B3/04 , B08B5/02 , B08B15/023 , H01L21/02057 , H01L21/67023 , H01L21/6708 , H01L21/68742 , H01L21/68764 , H01L21/68792
摘要： 적어도하나의유체와표면의충돌을통해마이크로전자가공물의표면을처리하기위한장치와이 장치를작동시키는방법이설명되어있다. 구체적으로, 장치는처리챔버내에서적어도하나의유체에의해마이크로전자가공물을처리하기위한내부공간을획정하는처리챔버와, 처리챔버내에서가공물을지지하는가동형척을포함한다. 장치는가공물로딩위치와가공물이적어도하나의유체공급부에연결되는적어도하나의노즐을이용하여적어도하나의유체에의해처리되는적어도하나의프로세싱위치사이에서가동형척을병진시키도록구성되는가공물병진구동시스템과, 마이크로전자가공물을회전시키도록구성되는가공물회전구동시스템을더 포함한다.

49. 发明授权

KR101614969B1 열처리 방법 및 그 열처리 방법을 실행시키기 위한 프로그램을 기록한 기록 매체 및 열처리 장치 有权
标题翻译：记录记录方案的热处理方法，用于执行热处理方法和热处理装置
公开(公告)号：KR101614969B1
公开(公告)日：2016-04-22
申请号：KR1020110062301
申请日：2011-06-27
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 시게토미겐이치
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/38
CPC分类号： H01L21/67103 , H01L21/67109 , H01L21/67248 , H01L21/67253 , H01L21/68742 , H01L21/68764
摘要： [과제] 열판의강도를저하시키거나, 장치비용을증대시키지않고, 기판간의도포막특성의변동을방지하면서, 기판을처리하는처리시간을단축할수 있는열처리방법및 열처리장치를제공한다. [해결수단] 열판의설정온도를제1 온도(T1)로부터제2 온도(T2)로변경하고, 열판의온도가제2 온도(T2)에도달하기전에, 열판에의한기판군의최초기판의열처리를시작하여, 열처리를시작한후의열판의온도데이터를취득하고, 열판의온도가제2 온도(T2)에도달할때, 취득한열판의온도데이터에기초하여, 열판의설정온도를제2 온도(T2)로부터변경하고, 제2 온도(T2)로부터설정온도가변경된열판에의해최초기판을열처리하는제1 공정(S14∼S16)과, 최초기판의열처리후, 열판의설정온도를제2 온도(T2)로복귀시켜, 열판의온도가제2 온도(T2)로유지되고있는상태에서, 열판에의해기판군의다음기판을열처리하는제2 공정(S17)을갖는다.

50. 发明公开

KR1020160039768A 베이크 장치 审中-实审
标题翻译：包装设备
公开(公告)号：KR1020160039768A
公开(公告)日：2016-04-12
申请号：KR1020140132654
申请日：2014-10-01
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 이우송 , 박보람
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/027 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/67098 , H01L21/67772 , H01L21/68742
摘要： 본발명은베이크장치에관한것이다. 본발명의일 실시예에따른베이크장치에있어서, 내부에처리공간을가지며일측에기판이출입하는출입구를가지는하우징과상기출입구를개폐하는셔터와상기처리공간내에서기판을지지하는지지플레이트와기판을가열하는가열부와그리고상기하우징내에서상기출입구와인접하게배치되며상기셔터가개폐될 때외부기류가기판의상면과인접한위치에유입되는것을최소화하는블로킹플레이트를포함하는베이크장치에관한것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种烘烤装置。根据本发明的实施例，烘烤装置包括：壳体，其中具有处理空间，并且在其一侧具有门，其中衬底被输入/输出到门; 构造成打开/关闭门的快门; 支撑板，其构造成将所述基板支撑在所述处理空间中; 加热单元，其构造成加热所述基板; 以及阻挡板，布置成邻近所述壳体中的门，并且构造成当所述快门被打开/关闭时，将外部气流的输入最小化到与所述基板的上表面相邻的位置的输入。因此，烘烤装置可以提高烘烤过程中的效率。

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