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    • 41. 发明公开
    • 테그용 패턴 구조물 및 이를 형성하기 위한 방법
    • TEG(试验单元组)的图案结构及其形成方法
    • KR1020080040280A
    • 2008-05-08
    • KR1020060108002
    • 2006-11-02
    • 삼성전자주식회사
    • 이혁준박영렬방필웅
    • G06K19/077G06K19/07
    • G06K19/077G06K19/0722
    • A pattern structure for a TEG(Test Element Group) and a forming method thereof are provided to check short generated between first and second metallic patterns easily/quickly by injecting electronic beam into one side of third metallic patterns. First metallic patterns(112) have a bar shape extended to one direction, are separated with each other in an extended direction, and are in a ground state. Second metallic patterns(114) surround the first metallic patterns. Third metallic patterns(116) are extended from the second metallic patterns in parallel by electrically connecting to the second metallic patterns. The length of the first metallic patterns is 5-10 micrometers, and the first metallic patterns are electrically connected to ground voltage through contacts.
    • 提供TEG(测试元件组)的图形结构及其形成方法,通过将电子束注入第三金属图案的一侧来容易地/快速地检查在第一和第二金属图案之间产生的短路。 第一金属图案(112)具有向一个方向延伸的棒状,在延伸方向上彼此分离,并处于基态。 第二金属图案(114)围绕第一金属图案。 通过电连接到第二金属图案,第三金属图案(116)从第二金属图案平行延伸。 第一金属图案的长度为5-10微米,并且第一金属图案通过触点电连接到接地电压。