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41. 发明公开

KR1020140017617A 무기 재료로부터 다공성 그래뉼의 제조방법 및 이의 용도 审中-实审
标题翻译：从无机材料生产多孔颗粒的方法及其用途
公开(公告)号：KR1020140017617A
公开(公告)日：2014-02-11
申请号：KR1020137027457
申请日：2012-03-14
申请人： 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지
发明人： 뉴만,크리스챤 , 베케르,외르크 , 호프만,아힘
IPC分类号： C04B38/00 , C04B35/626
CPC分类号： H01M4/1393 , C03B19/06 , C03B19/14 , C04B14/022 , C04B14/06 , C04B18/023 , C04B20/008 , C04B38/0022 , C04B38/045 , C23C16/01 , C23C16/402 , C23C16/453 , H01M10/052 , Y02E60/122 , Y02P70/54
摘要： 빌드-업 그래뉼화법 및 압축 그래뉼화법은 다공성 무기 재료로부터 그래뉼의 제조에 일반적으로 알려져 있다. 더욱 현저한 계층적 공극 구조를 갖는 다공성 그래뉼을 비용-효율적으로 그리고 또한 재현성 있게 제조하기 위해, 본 발명은 (a) 공급원료 플로우를, 열분해 또는 가수분해에 의해 상기 공급원료가 재료 입자로 전환되는, 반응 구역에 공급하는 단계, (b) 상기 재료 입자를 디포지션 표면(1a)에 수트 층(5)을 형성하도록 디포지트하는 단계, (c) 상기 수트 층(5)을 다공성 수트 플레이트(5a)로 열 강화하는 단계, 및 (d) 상기 수트 플레이트(5a)를 다공성 그래뉼(13)로 세분하는 단계를 포함하는 방법에 관한 것이다.

42. 发明授权

KR101252229B1 석영유리의 광소자, 광소자의 제조방법 및 그 용도 有权
标题翻译：石英玻璃的光学部件，光学部件的制造方法及其用途
公开(公告)号：KR101252229B1
公开(公告)日：2013-04-05
申请号：KR1020050027527
申请日：2005-04-01
申请人： 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 , 신에쯔 세끼에이 가부시키가이샤
发明人： 귄보도 , 토마스스테판 , 카이젤스테펜
IPC分类号： C03B8/04 , C03B20/00
CPC分类号： C03C3/06 , C03B19/1453 , C03B19/1469 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03C4/0071 , C03C4/0085 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2203/44 , C03C2203/52 , C03C2203/54 , G02B1/00 , G03F7/70341 , G03F7/70958 , G03F7/70966
摘要： 필수적으로 산소 결함이 없는 유리구조를 가지며, 수소 함량이 0.1 X 10
16 분자/cm
3 내지 5.0 X 10
16 분자/cm
3 , SiH기의 함량이 5 X 10
16 분자/cm
3 미만인, 190 내지 250nm 파장의 자외선을 전파하는 석영유리의 광소자로부터 직선 편광된 UV 레이저 방사선에 사용하기 적합한 소자가 제공되며, 본 발명에 따른 소자는 하이드록시기 함량이 10 내지 250wt ppm이며, 가상온도가 약 1000℃ 이상이다.
석영유리, 광소자, 하이드록시 함량, 수소함량, 가상온도, 자외선

43. 发明公开

KR1020130006654A 광섬유를 제조하기 위한 방법 및 관형 반제품 有权
标题翻译：用于生产光纤的方法和管状半成品
公开(公告)号：KR1020130006654A
公开(公告)日：2013-01-17
申请号：KR1020127026442
申请日：2011-03-10
申请人： 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지
发明人： 사트만,랄프 , 비드라,얀 , 휘너르만,미하일
IPC分类号： C03B37/012 , C03B37/027 , C03C13/04 , G02B6/036 , C03B37/018
CPC分类号： C03B37/02754 , C03B37/01211 , C03B37/01228 , C03B37/01242 , C03B37/018 , C03B37/027 , C03B2201/075 , C03B2201/12 , C03B2201/20 , C03B2201/30 , C03B2201/31 , C03B2203/22 , C03B2203/23 , C03B2205/30 , C03C13/045 , C03C2201/12 , G02B6/03633 , G02B6/0365 , Y10T428/2935 , Y02P40/57
摘要： 코어 존, 상기 코어 존을 둘러싸는 내부 자켓 존, 및 상기 내부 자켓 존을 둘러싸는 링 존을 포함하는 섬유가 얻어지는 것에 기초하여, 석영 유리 블랭크 또는 석영 유리 요소의 동축 그룹을 연신함으로써 광섬유를 제조하기 위한 방법이 공지되어 있다. 이로부터 기인하여, 본 발명에 따른, 코어와 자켓 사이의 고품질의 경계 및 낮은 굽힘 감도를 특징으로 하는 광섬유의 비용 효율적인 제조를 위한 방법, 관형 반제품 및 동축 요소의 그룹을 제공하기 위하여, 링 존의 실리카 유리는 적어도 6000 wt.ppm의 평균 플루오린 함유량을 갖는 실리카 유리로 제조된 링 존 관의 형태로 제공되고, 상기 관은 내부 관 표면 및 외부 관 표면을 가지며, 상기 링 존 관의 벽을 통해 적어도 1 ㎛ 내지 10 ㎛ 이하의 층 두께를 갖는 내부 플루오린 공핍층을 갖는 방사상의 플루오린 농도 프로파일이 조절되고, 상기 플루오린 함유량은 내부 관 표면을 향해 감소하며, 1 ㎛의 두께를 갖는 표면에 근접한 영역에서 3000 wt.ppm 이하이다.

44. 发明授权

KR101113777B1 반사체 레이어를 가지는 구성 요소 및 그 제조 방법 有权
标题翻译：包含反射层的组件及其制作方法
公开(公告)号：KR101113777B1
公开(公告)日：2012-02-27
申请号：KR1020077006657
申请日：2005-08-23
申请人： 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지
发明人： 마울알민 , 헐버트톨스튼 , 베버유르겐 , 리나우스벤 , 훅스스테판 , 슈라이버안드레아스 , 셀르너라인하드
IPC分类号： C03C17/02 , B82B3/00 , B82Y40/00
CPC分类号： C03C17/25 , C03C17/004 , C03C17/005 , C03C17/007 , C03C17/02 , C03C2217/213 , C03C2217/45 , C03C2217/475 , C03C2217/478 , C03C2218/112 , C03C2218/113 , F21V7/22 , G02B5/0242 , G02B5/0268 , G02B5/0284 , H01K1/325 , H01K1/34 , H05B3/009 , H05B2203/032 , Y02B20/125
摘要： 종래에 알려진 반사체 레이어를 포함하는 구성 요소에 있어서, 기본적인 실리카 글래스 구조재의 표면은 반사체 레이어로 적어도 일부 코팅된다. 상기 구성 요소를 기본으로 하며, 특히 램프나 반사체에 사용되며, 그리고 효과적인, 화학적 및 열적 저항성이 우수한 그리고 경제적인 반사체 레이어를 가지는 구성 요소를 만들기 위하여, 적어도 부분적으로 불투명한 실리카 글래스로 구성되고 산란 반사체로서 작용하는 SiO
2 코팅이 제공된다. 그러한 구성 요소를 제조하는 독창적인 방법은 SiO
2 입자들을 함유하는 슬러리가 제조되고 슬러리의 레이어를 형성하기 위하여 기본적인 구조재의 표면에 가해져서, 그 결과 슬러리의 레이어가 건조되고 이후 SiO
2 코팅을 형성하기 위하여 얇게 덮인다.
석영 글래스, 반사체 레이어, 반사 계수, 유리화

45. 发明公开

KR1020070102700A 반도체 제조용 석영유리 부재의 제조방법 및 그 방법에의해 제조된 부재 有权
标题翻译：用于制造半导体制造中使用的QUARTZ玻璃组件的方法和由该方法生产的组分
公开(公告)号：KR1020070102700A
公开(公告)日：2007-10-19
申请号：KR1020077017871
申请日：2006-01-18
申请人： 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지
发明人： 웨버주에겐 , 컬스트율리히
IPC分类号： C03C15/00 , C03C19/00
CPC分类号： C03C15/00 , C03C19/00 , C03C2204/08 , Y10T428/24355
摘要： Quartz glass components for use in semiconductor manufacture are produced by mechanically machining the surface of a quartz glass blank so as to produce an initial average surface roughness Ra,0. The thus machined component surface is then cleaned in an etching solution. The invention relates to the optimisation of particle formation on such components, during the first intended use already. It is proposed to produce an initial average surface roughness Ra,0 of at least 0.2 Vm by mechanical machining, and to adjust etching intensity and duration so that an actual etching depth of at least 10 Vm is achieved. A quartz glass component produced by this process for use in semiconductor manufacture is characterised in that it comprises, before its first intended use, a surface produced by mechanical machining and etching having an etched structure with an average surface roughness Ra, 1 ranging from 0.6 Vm to 8 Vm, and in that a weight loss of less than 0.4 Vg/(mm2 x min) which is substantially constant in time is achieved when etching the component with a 10 % solution of hydrofluoric acid.
摘要翻译：用于半导体制造的石英玻璃组件通过机械加工石英玻璃坯料的表面来产生初始平均表面粗糙度Ra，0。然后将这样加工的部件表面在蚀刻溶液中清洁。本发明涉及在首次使用期间对这些组分上的颗粒形成的优化。提出通过机械加工产生至少0.2Vm的初始平均表面粗糙度Ra，0，并且调整蚀刻强度和持续时间，使得实现至少10Vm的实际蚀刻深度。通过该方法制造的用于半导体制造的石英玻璃组件的特征在于，其在其首次使用之前包括通过机械加工和蚀刻制造的表面，其具有平均表面粗糙度Ra，范围为0.6Vm的蚀刻结构并且当用10％氢氟酸溶液蚀刻该组分时，实现了时间基本上恒定的小于0.4Vg /（mm 2 x min）的重量损失。

46. 发明授权

KR100731835B1 실리콘 단결정 인상에 사용되는 석영유리 도가니 제조방법및 그 방법으로 제조된 석영유리 도가니 有权
标题翻译：生产石英玻璃坩埚的方法，用于拉制所述方法生产的硅单晶和石英玻璃坩埚
公开(公告)号：KR100731835B1
公开(公告)日：2007-06-25
申请号：KR1020057015829
申请日：2004-02-20
申请人： 신에쯔 세끼에이 가부시키가이샤 , 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지
发明人： 오하마야수오 , 마쯔이히로시
IPC分类号： C30B15/10
CPC分类号： C03B19/095 , C03B2201/04 , C30B15/10
摘要： 본 발명은, 기포가 없는 투명한 내층과 기포를 함유하는 불투명한 베이스 몸체 또는 외층을 포함하는 적어도 2층 구조를 가지며, 적어도 상기 베이스 몸체는 0.0005~0.0065[kg/kg(건조가스)]의 수분혼합비를 갖는 가스 내에서 유지된 실리카 분말에 의해 형성됨을 특징으로 하는 실리콘 단결정 인상용 석영유리 도가니 제조방법과, 상기 제조방법으로 제조된 석영유리 도가니에 관한 것이다. 상기 얻어진 도가니는 50ppm 이하의 평균 OH 기 농도를 가지며 실리콘 단결정 인상중에 발생하는 진동을 억제할 수 있다. 또한 상기 얻어진 도가니는 상기 실리콘 단결정 인상시 도가니의 변형에 따른 어려움에 빠지지 않는다.
석영유리 도가니, 내층, 외층, 수분혼합비, OH 기 농도

47. 发明公开

KR1020070054706A 부품 접합용 결합제, 그 결합제를 이용하는 고규산 함량을갖는 재료로 제조된 부품 접합방법, 및 그 방법에 따라얻어진 부품 접합 有权
标题翻译：用于接合部件的接合剂，使用接合剂使用具有高含量的硅酸的材料的接合部件的方法，以及根据该方法获得的部件的接合
公开(公告)号：KR1020070054706A
公开(公告)日：2007-05-29
申请号：KR1020077007109
申请日：2005-08-24
申请人： 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지
发明人： 마울알민 , 헐버트톨스튼 , 베버유르겐 , 베르덱커왈트라우드 , 게르하르트롤프
IPC分类号： C03C27/00 , C03C27/06
CPC分类号： C03C27/10
摘要： 물질-대-물질 접합에 의한 고규소 함량을 갖는 재료로 제조된 구성요소의 접합 방법에서, SiO
2 -함유 접합 매스는 일반적으로 고규소 함량을 갖는 재료의 화학 조성을 가지며, 구성요소의 연결표면 사이에 형성된다. 이러한 방법에 기초하여 열적 안정한 조립체의 비용-효율적인 제조를 위하여, 본 발명은 다음의 공정에 따라 제조되는 SiO
2 -함유 접합 매스의 형성을 제안한다.
(a) 비결정질 SiO
2 입자를 포함하는 수성 슬러리를 준비하는 단계;
(b) 서로에 대한 위치에 고정된 연결표면 사이에서 슬러리 매스(mass)를 형성하는 단계;
(c) 상기 슬러리 매스를 건조하는 단계; 및
(d) 가열에 의해 상기 슬러리 매스를 고형화하는 것과 함께 SiO
2 -함유 접합 매스(bonding mass)를 형성하는 단계
본 발명의 방법에 따라 제조된 구성요소 조립체는 높은 온도 안정성과 내열피로성을 가지며 오염에 민감한 용도로 이용될 수 있다. 이 조립체는 500㎛ 까지 의 입자크기를 갖는 비결정질의, 소결된 또는 유리화된 SiO
2 입자로 제조된 SiO
2 -함유 접합 매스를 제공함을 특징으로 하며, 여기서 1~50㎛의 입자 크기를 갖는 비결정질 SiO
2 입자가 가장 큰 용적 분율을 차지한다.
결합제, SiO2-함유 접합 매스, 구성요소 조립체, 소결, 유리화, 도핑제

48. 发明公开

KR1020060043158A 광 소자를 제조하는 방법 有权
标题翻译：生产光学元件的方法
公开(公告)号：KR1020060043158A
公开(公告)日：2006-05-15
申请号：KR1020050015154
申请日：2005-02-23
申请人： 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 , 신에쯔 세끼에이 가부시키가이샤
发明人： 퀸보도 , 우에빙브루노 , 라도세비크이고르
IPC分类号： C03C4/00
CPC分类号： C03B32/00 , C03B19/1453 , C03B19/1469 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03C3/06 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C4/0085
摘要： The production of an optical component for transmitting ultraviolet light with a wavelength of up to 250 nm, comprises forming a cylindrical quartz glass blank with an average OH content in excess of 50 weight ppm. The glass is subjected to primary and secondary heat treatment stages. The second heat treatment comprises warming the glass to 350-800[deg]C for more than 1 hour. The glass average OH content deviates by no more than 20 weight ppm when moving away from the cylinder axis.
摘要翻译：制造用于透射波长高达250nm的紫外光的光学部件包括形成平均OH含量超过50重量ppm的圆柱形石英玻璃坯料。玻璃经受一次和二次热处理阶段。第二次热处理包括将玻璃加热至350-800℃超过1小时。玻璃平均OH含量在离开气缸轴线时偏离不超过20重量ppm。

49. 发明授权

KR100507604B1 반도체제조에사용되는석영유리성분 有权
标题翻译：用于半导体制造的石英玻璃部件
公开(公告)号：KR100507604B1
公开(公告)日：2005-12-06
申请号：KR1019980010587
申请日：1998-03-26
申请人： 신에쯔 세끼에이 가부시키가이샤 , 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지
发明人： 헬만디트마르 , 베커예르그 , 레브룬게라르
IPC分类号： C03C3/04
摘要： 제 1상부레벨과 제 2하부레벨사이에서 신장하는 불규칙한 융기된 구조요소로 형성된 거친 표면을 갖는 반도체제조에 사용되는 석영유리성분이 제공된다.
상기 표면의 평균거칠기 높이 R
a 는 0.1-10㎛범위이고, 제 1레벨에 대한 구조요소(1)의 돌기 평균은 30-180㎛이다.
본 발명의 석영유리성분 CVD층에 대하여 보다 개선된 결합력을 나타낸다.

50. 发明公开

KR1020030047753A 광학 부재용 석영 유리 블랭크, 그 제조 방법 및 이용 방법 无效
标题翻译：用于光学部件的QUARTZ玻璃棉，制造程序及其用途
公开(公告)号：KR1020030047753A
公开(公告)日：2003-06-18
申请号：KR1020020076625
申请日：2002-12-04
申请人： 신에쯔 세끼에이 가부시키가이샤 , 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지
发明人： 큔보도 , 위빙브르노 , 트로머마르틴 , 오크스슈테판 , 피셔게로 , 홀스트울라
IPC分类号： C03C4/00
CPC分类号： C03B19/1469 , C03B19/1415 , C03B19/1453 , C03B2201/07 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03C3/06 , C03C4/0071 , C03C4/0085 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2203/40 , C03C2203/52 , C03C2203/54 , Y02P40/57
摘要： PURPOSE: A quartz glass blank for an optical component for transmission of ultraviolet radiation of a wavelength of 250 nm or shorter, a use of the quartz glass blank in microlithography in combination with ultraviolet radiation of a wavelength of 250 nm or shorter, and a procedure for manufacture of the quartz glass blank are provided. CONSTITUTION: In a quartz glass blank for an optical component for transmission of ultraviolet radiation with a wavelength of 250 nm or shorter, the quartz glass blank is characterized by a glass structure that is essentially free of oxygen defect sites, an H2-content in the range of 0.1x10¬16 molecules/cm¬3 to 4.0x10¬16 molecules/cm¬3, an OH-content in the range of 125 wt-ppm to 450 wt-ppm, an SiH group-content of less than 5x10¬16 molecules/cm¬3, a refractive index inhomogeneity, Δn, of less than 2 ppm, and a stress birefringence of less than 2 nm/cm. The procedure for the manufacture of a quartz glass blank comprises the manufacture of a first and a second quartz glass by flame hydrolysis of a Si-containing compound, wherein the first and second quartz glass differ in their OH-contents, characterized in that a mixed quartz glass with a mean OH-content in the range of 125 wt-ppm to 450 wt-ppm is generated by mixing the first quartz glass and the second quartz glass. The use of a quartz glass blank for the manufacture of a component for use in microlithography in combination with ultraviolet radiation of a wavelength of 250 nm or shorter is characterized in that a quartz glass with an OH-content is selected for use with ultraviolet radiation of a given pulse energy density, ε, of at least 0.005 mJ/cm¬2, the OH-content complying with the following dimensioning rule: C(oh)£wt-ppm|=1,7x10¬3xε¬0.4±50.
摘要翻译：目的：用于传输波长为250nm或更短波长的紫外线辐射的光学部件的石英玻璃坯料，微波平版印刷中的石英玻璃毛坯与波长为250nm或更短的紫外线辐射的组合以及程序提供石英玻璃坯料的制造。构成：在用于透射波长为250nm或更短的紫外线辐射的光学部件的石英玻璃坯料中，石英玻璃坯料的特征在于基本上不含氧缺陷部位的玻璃结构，范围为0.1×10 16分子/ cm 3至4.0×10 16分子/ cm 3，OH含量为125重量ppm至450重量ppm，SiH基含量小于5×101- 16分子/ cm 3，折射率不均匀性Δn小于2ppm，应力双折射小于2nm / cm。制造石英玻璃坯料的方法包括通过含Si化合物的火焰水解制造第一和第二石英玻璃，其中第一和第二石英玻璃的OH含量不同，其特征在于混合通过混合第一石英玻璃和第二石英玻璃产生平均OH含量在125重量ppm至450重量ppm范围内的石英玻璃。使用石英玻璃坯料制造用于微光刻的组件与波长为250nm或更短的紫外线辐射的组合的特征在于，选择具有OH-含量的石英玻璃用于紫外线辐射给定的脉冲能量密度ε至少为0.005mJ / cm 2，符合以下尺寸规则的OH-含量：C（oh）£wt-ppm | = 1,7×10-3×ε-0.4±50。

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