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热词
    • 41. 发明公开
    • 박막 증착 장치 및 박막 증착 방법
    • 沉积薄膜的方法及其沉积方法
    • KR1020080036913A
    • 2008-04-29
    • KR1020070057996
    • 2007-06-13
    • 삼성전자주식회사
    • 이혁재조정훈조세휘양윤식임용규
    • C23C16/455C23C16/00
    • An apparatus and a method for depositing a thin film are provide to obtain a thin film having a uniform thickness by preventing impurities from being formed in a nozzle tube that supplies processing gas. An apparatus for depositing a thin film comprises a chamber(10) having an internal space defined by a substrate holder(40) and an inner wall of the chamber, and a nozzle tube(30). The nozzle tube includes a first end portion(31) fixed to the inner wall of the chamber, a second end portion(32) extending toward the internal space of the chamber, a fluid path(33) extending through the first end portion to the second end portion of the nozzle tube, and at least one slit(34) formed in the second end portion of the nozzle tube to open the fluid path. The nozzle tube includes a long nozzle tube and a short nozzle tube shorter.
    • 提供一种用于沉积薄膜的设备和方法,以通过防止在提供处理气体的喷嘴管中形成杂质来获得具有均匀厚度的薄膜。 一种用于沉积薄膜的设备包括具有由衬底保持器(40)和室的内壁限定的内部空间的腔室(10)和喷嘴管(30)。 所述喷嘴管包括固定到所述室的内壁的第一端部(31),朝向所述室的内部空间延伸的第二端部(32),流过所述第一端部的流体路径(33) 所述喷嘴管的第二端部和形成在所述喷嘴管的所述第二端部中的至少一个狭缝(34),以打开所述流体路径。 喷嘴管包括较长的喷嘴管和较短的喷嘴管。
    • 42. 发明授权
    • 웨이퍼 얼라인 장치 및 방법
    • 对准晶片的装置和方法
    • KR100772843B1
    • 2007-11-02
    • KR1020060013557
    • 2006-02-13
    • 삼성전자주식회사
    • 이혁재김상호박휴림배도인서기원우창우
    • H01L21/02
    • H01L21/681G06T7/33G06T7/74G06T2207/30148Y10S414/136
    • 본 발명은 웨이퍼 얼라인 장치 및 방법에 관한 것으로서, 본 발명은 로드락 챔버(2)로부터 트랜스퍼 챔버(1)로 이송되는 웨이퍼(W)의 이미지를 트리거 신호의 발생 신호에 의해서 촬영하여 디지털 신호로 변환하고, 디지털 신호로 변환된 이미지 신호와 이미 저장된 마스터 이미지와의 비교 연산에 의해서 웨이퍼(W)의 센터링 얼라인 보정값을 산출하며, 웨이퍼(W)의 센터링 얼라인 보정값에 따라 프로세스 챔버(3)에 공급되는 웨이퍼(W)의 센터링 얼라인이 이송 로봇(10)에 의해서 위치가 보정되면서 직접 프로세스 챔버(3)에 정확히 센터링 얼라인되어 웨이퍼가 로딩되도록 하여 공정 시간이 대폭적으로 단축되도록 한다.

      웨이퍼, 센터링 얼라인, 촬영, 이미지 비교
    • 本发明的实施例提供一种晶片对准装置和一种晶圆对准方法。 在一个实施例中,晶片对准装置包括成像单元,其适于将从负载锁定室传送的晶片的图像转移到传送室,并适于将图像转换成数字信号,以及信号处理单元, 通过将数字信号与存储在信号处理单元中的主图像进行比较来获得晶片的中心对准校正值。 晶片对准装置还包括机器人控制器,其适于从信号处理单元接收中心对准校正值,并且适于根据中心对准校正值来控制传送机器人,以将晶片提供给处理室,使得处理室的中心 晶片基本对齐。
    • 44. 发明公开
    • 반도체 기판 정렬 장치
    • 用于对准半导体基板的装置
    • KR1020070059261A
    • 2007-06-12
    • KR1020050117916
    • 2005-12-06
    • 삼성전자주식회사
    • 서기원배도인안영수이혁재우창우
    • H01L21/673
    • H01L21/681H01L21/6838
    • An apparatus for aligning a semiconductor substrate is provided to align a semiconductor substrate while avoiding generation of contaminants by gripping the semiconductor substrate by vacuum absorption. A rotational driving part(110) absorbs the back surface of semiconductor substrates received in a cassette(102) substantially vertically, rotating the semiconductor substrate in the cassette. A light source part irradiates light toward the edges of the semiconductor substrates rotating in the cassette in a direction substantially parallel with the disposed direction of the semiconductor substrates, disposed at one side of the cassette. A sensor part receives the light emitted from the light source part to inspect the align state of the semiconductor substrates, disposed at the other side of the cassette. Based upon the light receiving signal supplied from the sensor part, a control part controls the operation of the rotational driving part. The rotational driving part includes a holder(112) for absorbing the semiconductor substrates by vacuum force, a motor(116) for supplying rotative force to the holder, and a driving axis(114) which connects the holder to the motor to transfer rotative force to the holder.
    • 提供了一种用于对准半导体衬底的装置以对准半导体衬底,同时通过真空吸收来夹持半导体衬底而避免产生污染物。 旋转驱动部(110)基本上垂直地吸收容纳在盒(102)中的半导体基板的背面,使半导体基板旋转到盒中。 光源部分沿着与半导体衬底的设置方向基本平行的方向朝向在盒中转动的半导体衬底的边缘照射光,该方向设置在盒的一侧。 传感器部分接收从光源部分发射的光,以检查设置在盒的另一侧的半导体衬底的对准状态。 基于从传感器部提供的光接收信号,控制部控制旋转驱动部的动作。 旋转驱动部包括用于通过真空力吸收半导体衬底的保持器(112),用于向保持器提供转动力的电动机(116)和将保持器连接到电动机以传递转动力的驱动轴(114) 给持有人
    • 45. 发明授权
    • 웨이퍼이송장치 및 그 이송방법
    • 晶圆转移装置及其转移方法
    • KR100709563B1
    • 2007-04-20
    • KR1020050103328
    • 2005-10-31
    • 삼성전자주식회사
    • 한규희박노정이혁재박휴림우창우박영민
    • H01L21/68
    • 본 발명은, 복수의 웨이퍼를 수납한 웨이퍼카세트로부터 인출된 상기 웨이퍼를 소정의 공정을 진행하는 공정챔버로 이송하는 웨이퍼이송장치 및 그 이송방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 웨이퍼이송장치는, 상기 웨이퍼카세트에 수용된 상기 웨이퍼를 지지하여 상기 공정챔버로 이송하는 아암을 갖는 웨이퍼이송부와; 상기 웨이퍼를 지지하여 인출하는 아암의 소정 영역을 감지가능하게 마련된 센서와, 상기 센서의 검출신호에 기초하여 상기 아암에 지지된 상기 웨이퍼를 촬상 가능하게 마련된 카메라를 갖는 감지부와; 상기 감지부의 검출신호에 기초하여 산출된 검출위치와 목표위치가 상이한 경우에 상기 웨이퍼의 목표위치를 상기 웨이퍼의 검출위치로 보정하여 상기 웨이퍼가 상기 공정챔버로 이송되도록 상기 웨이퍼이송부를 제어하는 제어부를 갖는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 웨이퍼의 센터링시간이 비교적 적게 소요될 수 있는 웨이퍼이송장치 및 그 이송방법이 제공된다.
    • 本发明涉及一种晶片从晶片盒壳体中的晶片传递设备中的多个晶片和用于传送到处理腔室进步的预定处理的转移方法拉出,根据本发明的晶片传送装置中,所述 晶片传送单元,其具有用于支撑容纳在晶片盒中的晶片并将晶片传送到处理室的臂; 和,并提供给使能支持所述晶片传感器起飞的臂的预定区域的检测,并且检测基于该传感器的检测信号具有照相机提供以使图像拾取支撑在臂部分的晶片; 基于该感测单元的检测信号所检测到的位置和计算出的目标位置通过所述晶片的所述检测到的位置校正在不同情况下,晶片的目标位置的控制部分,用于控制weyipeoyi发送该晶片将被转移到处理室 并且其特征在于它了。 由此,提供了晶片传送装置及其传送方法,其可以采取相对较小的晶片对中时间。
    • 47. 发明授权
    • 오디오 재생 속도 제어 장치 및 그 방법
    • 这是一个有趣的游戏
    • KR100677612B1
    • 2007-02-02
    • KR1020050082003
    • 2005-09-03
    • 삼성전자주식회사
    • 김정민이혁재
    • G11B20/10
    • An audio reproduction speed control device and a method thereof are provided to control reproduction speed of an audio through decimation and interpolation in a frequency domain according to fast reproduction speed and slow reproduction speed modes, thus a complex operation is not necessary, consequently the amount of calculation is reduced. An FFT(Fast Fourier Transform) unit(210) performs an FFT process for audio data of N inputted samples, and converts the audio data into audio sample values of a frequency domain. A decimation unit(220) decimates the converted audio sample values from the frequency domain in case of a fast reproduction speed mode. An interpolation unit interpolates the converted audio sample values in the frequency domain in case of a slow reproduction speed mode. An IFFT(Inverse FFT) unit(230) performs an IFFT process for the decimated or interpolated audio sample values, and restores the IFFT-performed audio sample values to audio signals of a time domain.
    • 提供了一种音频再现速度控制装置及其方法,用于根据快速再现速度和慢速再现速度模式通过频域中的抽取和插值来控制音频的再现速度,因此不需要复杂的操作,因此, 计算减少。 FFT(快速傅立叶变换)单元(210)对N个输入采样的音频数据执行FFT处理,并将该音频数据转换为频域的音频采样值。 抽取单元(220)在快速再现速度模式的情况下从频域抽取转换的音频样本值。 内插单元在慢再现速度模式的情况下在频域内插转换的音频样本值。 IFFT(逆FFT)单元(230)对抽取或内插的音频样本值执行IFFT处理,并将IFFT执行的音频样本值恢复到时域的音频信号。
    • 48. 发明公开
    • 반도체 제조설비
    • 制造半导体器件的设备
    • KR1020070014546A
    • 2007-02-01
    • KR1020050069290
    • 2005-07-29
    • 삼성전자주식회사
    • 이혁재우창우박진준배도인서기원
    • H01L21/68H01L21/02
    • Semiconductor manufacturing equipment is provided to maximize the yield by improving reproducibility of a wafer teaching process without failure using a camera and a control unit. Semiconductor manufacturing equipment includes a plurality of loadlock chambers(110) for storing a cassette with wafers, a plurality of process chambers(130) with a wafer chuck, a transfer chamber for connecting selectively the process chambers with the loadlock chambers, a wafer transfer robot(152) for transferring the wafer between the loadlock chamber and the process chamber at a center portion of the transfer chamber, a camera, and a control unit. The camera is installed over the chuck in order to detect the wafer. The control unit is used for outputting a control signal capable of controlling a wafer teaching process of the wafer transfer robot according to the position of the wafer checked by the camera.
    • 提供半导体制造设备以通过使用相机和控制单元提高晶片教学过程的再现性而无故障地最大化产量。 半导体制造设备包括用于存储具有晶片的盒的多个负载锁定室(110),具有晶片卡盘的多个处理室(130),用于将处理室与负载锁定室选择性连接的传送室,晶片传送机器人 (152),用于在传送室的中心部分处的载荷锁定室和处理室之间传送晶片,相机和控制单元。 将相机安装在卡盘上以检测晶片。 控制单元用于根据由照相机检查的晶片的位置输出能够控制晶片传送机器人的晶片教学过程的控制信号。