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31. 发明公开

KR1019970017964A 반도체 제조 장치 无效
公开(公告)号：KR1019970017964A
公开(公告)日：1997-04-30
申请号：KR1019950032895
申请日：1995-09-29
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 윤여철 , 이창원 , 박영호 , 김병준
IPC分类号： H01L21/08
摘要： 콘택홀을 매립하기 위한 알루미늄 증착 장치에 대해 기재되어 있다. 이는, 밀폐된 공간내에서 소정물질을 반도체기판에 증착하거나, 상기 물질이 증착된 반도체기판을 고온으로 가열하는 반도체 제조장치에 있어서, 공간내의 체적을 감소시키거나 불순물을 제거하기 위하여 상기 밀폐된 공간의 소정 위치에 배치된 물질을 구비하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 고온에서도 크라이오 펌프의 펌핑 유효체적을 줄이고, Ti의 O
2 반응성을 이용하여 고진공을 유지할 수 있으며, O
2 를 제거하여 Al의 콘택홀 매몰 특성을 향상시킬 수 있다.

32. 发明授权

KR1019930008140B1 포토레지스트 폐액 자동처리장치 失效
标题翻译：用于处理光催化剂废物的装置
公开(公告)号：KR1019930008140B1
公开(公告)日：1993-08-26
申请号：KR1019900021686
申请日：1990-12-24
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 윤명식 , 박영호 , 유재문 , 한승교
IPC分类号： G03F7/26
摘要： The system comprises a coater (12), level-sensor (4) that senses waste fluid accumulation amount, main-tank (8) including the waste photoresist fluid tank and the waste fluid pipe cleaning solution tank, pump (3) operating by the sensor (4) for main tank (8) and pipe-cleaned solution tank, ball-valve (1) and air (-) operated valve (2) controlling the pump. Waste photoresist fluid in the process-line (a) is discharged into main-tank (8) placed underground via path-B and pipe-cleaned solution in tank (13) is injected from the underground line (6) to the process-line (a) through path-A.
摘要翻译：该系统包括感测废液积聚量的涂布机（12），液位传感器（4），包括废光致抗蚀剂流体箱和废液管清洗溶液箱的主罐（8），由泵用于主油箱（8）的传感器（4）和管道清洁溶液罐，球阀（1）和控制泵的空气（ - ）操作阀（2）。过程管线（a）中的废光致抗蚀剂流体通过路径B被排放到主槽（8）中，并且在罐（13）中的管道清洁溶液从地下管线（6）注入到处理线（a）通过路径A。

33. 发明授权

KR100674902B1 클리닝부를 구비한 코팅장치 失效
标题翻译：一种涂布设备，包括清洁单元
公开(公告)号：KR100674902B1
公开(公告)日：2007-01-26
申请号：KR1020000082063
申请日：2000-12-26
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박영호
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 본 발명은 드레인 라인을 클리닝 할 수 있는 코팅장치에 관하여 개시한다. 본 발명에 따른 코팅장치는 스핀부, 외부컵 및 내부컵을 갖는 컵부, 상기 컵부의 끝단에 형성된 드레인라인 및 희석재를 공급하는 희석재 디스펜서, 일단은 상기 희석재 디스펜서에 연결되고 다른 일단은 상기 드레인라인 입구에 위치한 클리닝라인 및 상기 클리닝라인중에 설치되어 희석재의 개/폐를 조절하는 솔레노이드 밸브를 구비한다. 본 발명에 따르면, 드레인 라인에 달라 붙은 코팅물질을 제거할 수 있고. 이로 인하여 미세한 코팅물질 가루가 웨이퍼에 낙성되는 것을 막을 수 있어 공정안정화에 기여할 수 있다.
클리닝라인, 코팅장치. 드레인라인

34. 发明公开

KR1020060090092A 에어의 흐름을 개선시킬 수 있는 에어 샤워를 구비한반도체 장비 无效
标题翻译：具有改善空气流量的空气淋浴器的半导体装置
公开(公告)号：KR1020060090092A
公开(公告)日：2006-08-10
申请号：KR1020050011305
申请日：2005-02-07
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이길진 , 원유근 , 박영호
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/02
CPC分类号： G03F7/70858 , G03F7/70908
摘要： 본 발명은 에어 샤워를 구비한 반도체 장비에 관한 것으로, 웨이퍼를 장착하는 웨이퍼 스테이지; 상기 웨이퍼 스테이지의 상부에 배치된 렌즈; 및 상기 렌즈의 주위에 배치되어 상기 웨이퍼 스테이지로 에어를 제공하는, 그리고 상기 에어의 흐름 방향을 변경킬 수 있도록 동작 가능한 에어 샤워를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하면, 에어 샤워를 통해 나오는 에어의 방향을 가변할 수 있도록 함으로써 웨이퍼 스테이지 주위의 에어 흐름을 균일하게 유지할 수 있게 된다. 따라서, 에어 흐름의 와류에 따른 정렬 불량 문제가 해소되어 포토 장비의 공정 퍼포먼스(performance)의 차이가 발생되지 아니하고 더 나아가서는 생산량 내지는 수율이 향상되는 효과가 있다.

35. 发明公开

KR1020060089949A 레티클 로딩장치 및 로딩방법 失效
标题翻译：装载装置及其装载方法
公开(公告)号：KR1020060089949A
公开(公告)日：2006-08-10
申请号：KR1020050010226
申请日：2005-02-03
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 원유근 , 박영호 , 이길진
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70741 , G03F7/70783 , G03F7/70733
摘要： 레티클이 평탄하게 안착되었는 지를 확인하고, 평탄하게 놓이지 않은 경우에 평탄하게 보정해주는 레티클 로딩장치 및 로딩방법에 대해 개시한다. 그 장치 및 방법은 레티클의 평탄화 정도를 감지하는 제1 센서 및 레티클을 평탄하게 지지하기 위한 다수개의 제1 레티클 지지부를 포함하며, 제1 레티클 지지부는 레티클의 적어도 양측 하부에 위치하며, 제1 센서에 의해 감지된 레티클이 평탄화된 정도에 따라 레티클을 상하로 이동시키도록 독립적으로 움직이는 복수개의 실린더 바(bar)로 이루어진다.
레티클, 평탄화, 실린더 바, 레티클 지지부

36. 发明授权

KR100598095B1 노광 장치 失效
标题翻译：光刻设备
公开(公告)号：KR100598095B1
公开(公告)日：2006-07-07
申请号：KR1020030046798
申请日：2003-07-10
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 원유근 , 김영희 , 박영호
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/701 , G03F7/70191
摘要： 본 발명은 복수개의 투과율 조정 필터가 있는 제 1 리볼버(revolver)와 복수개의 투과율 분포 필터가 있는 제 2 리볼버 그리고 상기 제 1 리볼버(revolver), 제 2 리볼버(revolver)를 독립적으로 회전시킬 수 있는 구동장치를 포함하는 노광장치에 관한 것이다.
본 발명은 복수개의 투과율 조정 필터가 있는 리볼버나 투과율 분포 필터가 있는 리볼버를 회전시켜 원하는 투과율 및 투과율 분포를 얻을 수 있기 때문에 조명계의 변경이나 조명 조건의 변경에 따른 다양한 광의 강도(Intensity) 변화를 보정할 수 장점이 있다.
투과율, 필터, 투과율 조정 필터, 투과율 분포 필터

37. 发明授权

KR100558176B1 웨이퍼의 주변부 노광 장치 失效
标题翻译：辐射边缘的曝光装置
公开(公告)号：KR100558176B1
公开(公告)日：2006-03-10
申请号：KR1020030085579
申请日：2003-11-28
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 임종길 , 박영호 , 오경환 , 신동화
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 회전척에 배치된 웨이퍼는 이송부에 의하여 수평방향으로 이동된다. 웨이퍼의 제2 주변부는 제2 광원으로부터 발생되는 제2 광을 점차적으로 많이 간섭한다. 웨이퍼에 의하여 간섭되는 제2 광은 검출부에 검출된다. 검출부는 검출된 제2 광을 전기적 신호를 변환하여 제어부에 제공한다. 제어부는 전기적 신호를 이용하여 웨이퍼의 위치를 계산한다. 제어부는 계산된 위치 데이터와 기 설정된 위치 데이터를 실시간으로 비교하여 이송부를 제어함으로써 웨이퍼의 위치를 보정한다. 이후, 제1 광원로부터 웨이퍼의 제1 주변부로 제1 광이 조사된다. 제어부는 회전되는 웨이퍼에 대해서도 실시간으로 위치를 계산한다. 제어부는 계산된 웨이퍼의 위치 데이터 따라 이송부를 제어하여 웨이퍼의 위치를 보정한다. 웨이퍼에 의한 제2 광의 간섭을 계산하여 웨이퍼 위치를 산출하고, 이에 따라 웨이퍼의 위치를 보정함으로써 웨이퍼 주변부를 균일한 폭으로 노광할 수 있다.

38. 发明授权

KR100517547B1 포토레지스트 도포 장비 및 이 장비를 사용한포토레지스트 도포 방법 失效
标题翻译：使用设备形成照相机的方法
公开(公告)号：KR100517547B1
公开(公告)日：2005-09-28
申请号：KR1020010036931
申请日：2001-06-27
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김성일 , 박성현 , 송재관 , 차동호 , 이윤근 , 박영호 , 안경석 , 오영수
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/3021 , H01L21/312 , H01L21/6715
摘要： 본 발명은 포토레지스트 등의 막 두께가 불균일하게 나타나는 단점을 개선할 수 있는 도포 방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명의 포토 레지스트 도포 방법은 다음과 같은 순서로 진행된다. 솔벤트를 웨이퍼 상에 분사하는 단계, 그리고 상기 웨이퍼 상에 포로 레지스트를 분사하는 단계, 그리고 일정한 속도로 웨이퍼를 회전시키는 단계를 구비한다. 본 발명의 바람직한 실시예에 의하면, 포토 레지스트를 분사하기 전에 웨이퍼 표면상에 솔벤트를 분사하였으므로, 표면 장력 및 레지스트의 점성을 낮추어서 웨이퍼상에 유기 용제인 포토 레지스트가 상기 웨이퍼 표면상에 골고루 도포된다.

39. 发明公开

KR1020050006832A 노광 장치 失效
标题翻译：曝光装置，用于校正照明系统变化或照明条件引起的各种亮度的强度变化
公开(公告)号：KR1020050006832A
公开(公告)日：2005-01-17
申请号：KR1020030046798
申请日：2003-07-10
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 원유근 , 김영희 , 박영호
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/701 , G03F7/70191
摘要： PURPOSE: An exposure apparatus is provided to correct an intensity variation of various light caused by a variation of an illumination system or an illumination condition by rotating a revolver with a plurality of transmissivity control filters or a transmissivity distribution filter to obtain a desired distribution of transmissivity. CONSTITUTION: In the light path of the light irradiated from a light source(201), a plurality of mutually different transmissivity control filters(206) can be positioned in a direction crossing the light path by the first revolver(207). A plurality of mutually different transmissivity distribution filters(208) can be positioned in a direction crossing the light path by the second revolver(209) that is adjacent to the first revolver and is located in the same center axis as the first revolver.
摘要翻译：目的：提供一种曝光装置，用于通过旋转具有多个透射率控制滤光器或透射率分布滤光器的左轮手枪来校正由照明系统的变化或照明条件引起的各种光的强度变化，以获得期望的透射率分布。构成：在从光源（201）照射的光的光路中，多个相互不同的透射率控制滤光器（206）可以通过第一左轮手枪（207）在与光路交叉的方向上定位。多个相互不同的透射率分布滤光器（208）可以通过与第一旋转枪相邻的第二旋转器（209）在与光路相交的方向上定位，并且位于与第一旋转器相同的中心轴线上。

40. 发明公开

KR1020020094504A 웨이퍼 에지 노광 장치 无效
标题翻译：曝光边缘的装置
公开(公告)号：KR1020020094504A
公开(公告)日：2002-12-18
申请号：KR1020010032768
申请日：2001-06-12
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김선규 , 박영호 , 이영우 , 오경환 , 임승준 , 임종길 , 김진선 , 정일영 , 박종국 , 신언명 , 임건식
IPC分类号： H01L21/027
摘要： PURPOSE: An apparatus for exposing a wafer edge is provided to improve a line-width by enhancing a focus of an optical source using multiple slit mask. CONSTITUTION: The wafer edge exposing apparatus comprises a lamp(10) as an optical source, a multiple slit mask(20), and a lens assembly(30). The multiple slit mask(20) is filtered the optical source irradiated from the lamp(10) and outputted multiple slit optical source to the lens assembly(30). The lens assembly(30) having a plurality of lens(32,34,36) is focalized the filtered slit power source, and irradiated each focalized power source into a wafer(40).
摘要翻译：目的：提供用于暴露晶片边缘的装置，以通过使用多个狭缝掩模增强光源的焦点来改善线宽。构成：晶片边缘曝光装置包括作为光源的灯（10），多重狭缝掩模（20）和透镜组件（30）。多个狭缝掩模（20）对从灯（10）照射的光源进行过滤，并将多个狭缝光源输出到透镜组件（30）。具有多个透镜（32,34,36）的透镜组件（30）将过滤的狭缝电源聚焦，并将每个聚焦电源照射到晶片（40）中。

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