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    • 25. 发明公开
    • 실리카계 절연층 형성용 조성물, 실리카계 절연층 및 실리카계 절연층의 제조방법
    • 用于形成二氧化硅基绝缘层的组合物,基于二氧化硅的绝缘层和用于制造基于二氧化硅的绝缘层的方法
    • KR1020150017972A
    • 2015-02-23
    • KR1020130094277
    • 2013-08-08
    • 제일모직주식회사
    • 박은수곽택수나융희송현지이한송홍승희
    • H01B3/46H01B17/62C08L83/00
    • H01B19/02C08G77/54C09D183/14H01B3/18H01B3/46H01B19/04C01B33/00C08L83/00H01B17/62
    • The present invention provides an insulating layer having low permittivity and excellent mechanical properties. Provided are: an organosilane condensation polymer including a compound represented by chemical formula 1 and a compound represented by chemical formula 2; and a composition for forming silica based insulating layer including a solvent, wherein chemical formula 1 is (R^1)_3SiXSi(R^1)_3 and chemical formula 2 is (R^2)_n(Si)(OR^3)_4-n. In chemical formula 1 and 2, R^1 to R^3,X and n are defined as follows. R^1 is hydrogen, a hydroxy group, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkoxy group, a halogen-containing group, a silicon-containing group, or a combination thereof. R^2 is hydrogen, a hydroxy group, a substituted or unsubstituted C1 to C30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, a vinyl Group, or a combination thereof. R^3 is hydrogen, substituted or unsubstituted C1 to C30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, a vinyl group, or a combination thereof. X is a linking group containing a porogen. n is an integer from 0 to 3.
    • 本发明提供一种具有低介电常数和优异机械性能的绝缘层。 提供:包含由化学式1表示的化合物和由化学式2表示的化合物的有机硅烷缩聚物; 以及用于形成包含溶剂的二氧化硅基绝缘层的组合物,其中化学式1是(R 1)3 SiXSi(R 1)3和化学式2是(R 2)n(Si)(OR 3))4 -n。 在化学式1和2中,R 1至R 9,X和n定义如下。 R 1是氢,羟基,取代或未取代的C 1 -C 20烷氧基,含卤素基团,含硅基团或其组合。 R 2是氢,羟基,取代或未取代的C 1至C 30烷基,取代或未取代的C 6至C 20芳基,乙烯基或其组合。 取代或未取代的C1〜C30烷基,取代或未取代的C6〜C20芳基,乙烯基,或它们的组合。 X是含有致孔剂的连接基团。 n为0〜3的整数。
    • 30. 发明授权
    • 알루미늄 도체를 위한 피복 조성물 및 이를 이용하여 제조된 전선 및 케이블
    • 用于铝导体的涂层组合物以及由其制成的电线和电缆
    • KR101385986B1
    • 2014-04-16
    • KR1020120074756
    • 2012-07-09
    • 주식회사 경신홀딩스
    • 박성근서재철오형래권양진
    • H01B3/30H01B17/62H01B11/00
    • 본 발명은 (A)기초 수지, (B)커플링제, (C)난연제, (D)안정화제 및 (F)금속 불활성제를 포함하고, 상기 (A)기초 수지는 (A1)폴리프로필렌계 수지와 (A2)폴리올레핀계 엘라스토머의 혼합물이고, 상기 (A2)폴리올레핀계 엘라스토머는 폴리프로필렌계를 베이스로 하는 폴리올레핀계 엘라스토머와, SEBS(스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌) 엘라스토머의 혼합물이고, 상기 (A)와 (B)의 합 (A)+(B)에 있어서, (A1)은 20-30중량%, (A2)는 50-60중량%, (B)는 20-30중량%로 포함되며, 상기 (F)금속 불활성제는 상기 (A)와 (B)의 합 (A)+(B) 100중량부에 대하여, 3-6중량부를 포함하는 알루미늄 도체 피복 조성물, 및 이를 이용하여 제조된 전선 및 케이블에 관한 것이다.
    • 本发明涉及含有(A)基础树脂,(B)偶联剂,(C)阻燃剂,(D)稳定剂和(F)金属钝化剂的树脂组合物, 其中聚烯烃弹性体(A2)是聚丙烯类聚烯烃弹性体和SEBS(苯乙烯 - 乙烯 - 丁烯 - 苯乙烯)的混合物, (A)和(B)中,(A1)的含量为20-30重量%,(A2)的含量为50-60重量%,(B)的含量为20-30重量% 金属钝化剂(F)是一种铝导体涂料组合物,基于100重量份的组分(A)和(B)的组分(A)和(B)的总重量, 还有一根电缆。