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1. 发明授权

KR102225528B1 터치 센서 및 이를 포함하는 화상 표시 장치 有权
公开(公告)号：KR102225528B1
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：KR1020190072050
申请日：2019-06-18
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 노성진 , 유한태 , 권도형 , 박상진 , 이준구
IPC分类号： G06F3/044 , G06F3/041 , H01B3/10 , H01B1/02
摘要： 본발명의실시예들에따른터치센서는기재층, 및기재층상에배열되며투명산화물전극층및 금속층의적층구조를포함하고소정의광학비율이 5이하인센싱전극들을포함한다. 센싱전극의광학비율설계를통해고투과, 저반사구조를구현할수 있다.

2. 发明授权

KR102225451B1 유전체 조성물 및 이를 포함하는 적층형 전자 부품 有权
公开(公告)号：KR102225451B1
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：KR1020190077574
申请日：2019-06-28
申请人： 삼성전기주식회사
发明人： 함태영 , 조지홍 , 백승인 , 권형순
IPC分类号： H01B3/10 , H01G4/12 , H01G4/30
摘要： 본발명의일 측면은 ABO3(A는 Ba, Sr 및 Ca 중적어도하나이고, B는 Ti, Zr 및 Hf 중적어도하나임)로표현되는페로브스카이트구조를가지는주성분및 제1 부성분을포함하며, 상기제1 부성분은상기주성분 100몰대비, 희토류원소: 0.1몰이상, Nb: 0.02몰이상및 Mg: 0.25몰이상 0.9몰이하를포함하고, 상기희토류원소와 Nb 함량의합은 1.5몰이하인유전체조성물을제공하기위함이다. 본발명의다른일 측면은상기유전체조성물을포함하는적층형전자부품을제공하기위함이다.

3. 发明公开

KR20200135913A 유전체 자기 조성물 및 이를 포함하는 적층 세라믹 커패시터 审中-公开
公开(公告)号：KR20200135913A
公开(公告)日：2020-12-04
申请号：KR20200158891
申请日：2020-11-24
申请人： SAMSUNG ELECTRO MECH
发明人： LEE SEUNG HO , NAM CHAN HEE , LEE JOO HEE , YOON SEOK HYUN
IPC分类号： H01B3/12 , C01G23/00 , H01B3/10 , H01G4/10 , H01G4/30
摘要： 본발명은제1 주성분과제2 주성분을포함하는모재분말과부성분을포함하고, 상기제1 주성분은 (KyNa1-y)(Nb1-zTaz)O3 이고, 상기제2 주성분은 BaTiO3이며, 상기모재분말이 (1-x) (KyNa1-y)(Nb1-zTaz)O3 - x BaTiO3 일때, 상기 x는 0.05 ≤ x ≤ 0.4이며, 상기 y는 0 ≤ y ≤ 0.7이고, 상기 z는 0 ≤ z ≤ 0.7인유전체자기조성물에관한것이다.

4. 发明授权

KR102184931B1 낮은 유전손실을 갖는 유전체의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 유전체 有权
公开(公告)号：KR102184931B1
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：KR20190030486
申请日：2019-03-18
IPC分类号： H01B3/10 , C04B35/468
摘要： 본발명은온도에의한유전특성의변동이좁고, 주파수에따른유전특성이불변하여, 낮은유전손실을갖는저유전손실의주파수불변의유전체를제조할수 있는유전체의제조방법및 이에따라제조되는유전체에관한것이다.

5. 发明授权

KR102097969B1 유전체 조성물, 유전체 소자, 전자 부품 및 적층 전자 부품 有权
公开(公告)号：KR102097969B1
公开(公告)日：2020-04-07
申请号：KR1020187004427
申请日：2016-06-16
申请人： 티디케이 일렉트로닉스 아게
发明人： 타우치,고우시 , 히로세,마사카즈 , 이무라,토모야 , 테라다,토모히로
IPC分类号： H01G4/12 , H01G4/30 , C04B35/475 , C04B35/638 , C01G29/00 , H01B3/10 , H01B3/12

7. 发明授权

KR101939607B1 정전 유도를 기초로 하는 센서, 발전기, 감지 방법 및 발전 방법 有权
公开(公告)号：KR101939607B1
公开(公告)日：2019-01-17
申请号：KR1020167032262
申请日：2015-04-17
申请人： 베이징 인스티튜트 오브 나노에너지 앤드 나노시스템즈
发明人： 왕중린 , 주광
IPC分类号： G01D5/14 , H02N1/04 , H01B3/30 , H01B3/44 , H01B3/02 , H01B3/10 , H01B1/02

8. 发明授权

KR101914449B1 창호용 기능성 건축 자재 有权
公开(公告)号：KR101914449B1
公开(公告)日：2018-11-05
申请号：KR1020160107245
申请日：2016-08-23
申请人： (주)엘지하우시스
发明人： 권대훈 , 전윤기 , 박성진 , 유현우 , 최영우
IPC分类号： E06B3/54 , C03C17/36 , H01B3/10
CPC分类号： C03C17/36 , E06B3/54 , H01B3/10
摘要： 투명유리기판및 상기투명유리기판의일면에형성된저방사코팅을포함하고, 상기저방사코팅은, 하부광흡수층, 광흡수금속층및 저방사층을포함하고, 상기하부광흡수층은질화크롬을포함하고, 가시광투과색의색차측정기를이용하여측정한색지수 a*값이 -5 내지 5이고, 색지수 b* 값이 -5 내지 5이고, 상기투명유리기판의저방사코팅이형성되지않은다른일면의반사색의색차측정기를이용하여측정한색지수 a*값이 -5 내지 5이고, 색지수 b* 값이 -5 내지 5이고, 가시광투과율이 20% 내지 60%이고, 상기투명유리기판의저방사코팅이형성되지않은다른일면에서의가시광반사율이 1% 내지 15%인무광회색의창호용기능성건축자재를제공한다.

9. 发明公开

KR1020180092448A 산화물 반도체 박막의 제조방법 有权
公开(公告)号：KR1020180092448A
公开(公告)日：2018-08-20
申请号：KR1020170018125
申请日：2017-02-09
申请人： 성균관대학교산학협력단
发明人： 조형균 , 안철현 , 김예균 , 강원준 , 김영훈
IPC分类号： H01L21/02 , H01B3/10 , H01L21/324
摘要： 산화물반도체를형성하는단계; 상기산화물반도체가형성된기판을진공분위기하에서저온처리하는단계; 상기진공분위기상태에수분을주입하는단계;를포함하고, 상기진공분위기하에서저온처리하는단계및 상기수분을주입하는단계를반복적으로수행하는것을포함하는, 산화물반도체박막의제조방법에관한것이다.

10. 发明公开

KR20180023114A 창호용 기능성 건축 자재 有权
标题翻译：功能性建筑材料，包括WINDOWS的低发散性涂层
公开(公告)号：KR20180023114A
公开(公告)日：2018-03-07
申请号：KR20160107245
申请日：2016-08-23
申请人： (주)엘지하우시스
发明人： 권대훈 , 전윤기 , 박성진 , 유현우 , 최영우
IPC分类号： E06B3/54 , C03C17/36 , H01B3/10
CPC分类号： C03C17/36 , E06B3/54 , H01B3/10
摘要： 투명유리기판및 상기투명유리기판의일면에형성된저방사코팅을포함하고, 상기저방사코팅은, 하부광흡수층, 광흡수금속층및 저방사층을포함하고, 상기하부광흡수층은질화크롬을포함하고, 가시광투과색의색차측정기를이용하여측정한색지수 a*값이 -5 내지 5이고, 색지수 b* 값이 -5 내지 5이고, 상기투명유리기판의저방사코팅이형성되지않은다른일면의반사색의색차측정기를이용하여측정한색지수 a*값이 -5 내지 5이고, 색지수 b* 값이 -5 내지 5이고, 가시광투과율이 20% 내지 60%이고, 상기투명유리기판의저방사코팅이형성되지않은다른일면에서의가시광반사율이 1% 내지 15%인무광회색의창호용기능성건축자재를제공한다.
摘要翻译：提供一种用于窗户的无光泽灰色功能建筑材料，包括：透明玻璃基板; 以及在所述透明玻璃基板的一个表面上形成的低发射率涂层，其中所述低发射率涂层包括下光吸收层，光吸收金属层和低发射率层，所述下光吸收层包含氮化铬并且具有-5至5的颜色指数a *值和-5至5的颜色指数b *值，其是通过用于可见光透射颜色的比色计测量的，透明玻璃的另一表面其上未涂覆低辐射率涂层的基材具有通过用于反射颜色的比色计测量的-5至5的颜色指数a *值，-5至5的颜色指数b *，以及具有20-60％的可见光透射率，并且未涂覆低辐射率涂层的透明玻璃基板的另一个表面的可见反射率为1-15％。

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