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21. 发明公开

KR1020160043962A 금속제 연마 패드 및 그 제조 방법 审中-实审
标题翻译：金属抛光垫及其生产方法
公开(公告)号：KR1020160043962A
公开(公告)日：2016-04-22
申请号：KR1020167003929
申请日：2014-06-18
申请人： 국립대학법인 나고야공업대학 , 신토고교 가부시키가이샤
发明人： 에류오사무 , 야마구치에이지
IPC分类号： H01L21/02 , B24B37/24 , B22F3/11 , B22F3/14 , H01L21/304 , H01L21/306
CPC分类号： B24B37/24 , B22F3/11 , B24D18/0009 , C22C47/14 , H01L21/02024
摘要： 피가공면에있어서의촉매와접촉또는극근접하는영역을증대시킬수 있는금속제연마패드를제공한다. 피가공물(6)의피가공면(6a)을촉매지원형의화학가공방법으로평활화가공하기위한금속제연마패드(2)를, 전이금속촉매로이루어지는금속섬유의압축성형체로구성한다. 이압축성형체는, 금속섬유로구성되어있고, 공극을갖고있으므로, 연마패드표면(2a)에존재하는금속섬유는탄성변형이가능하다. 이로인해, 연마패드표면(2a)과피가공물(6)의피가공면(6a)이서로압박되면, 피가공면(6a)에존재하는미세한요철에대응하여, 금속섬유가변형됨으로써, 연마패드표면(2a)과피가공면(6a) 사이에발생하는간극을작게할 수있다. 이에의해, 피가공면(6a)에있어서의촉매와접촉또는극근접하는영역을증대시킬수 있다.

22. 发明授权

KR101613477B1 웨이퍼 이면 연마장치 有权
标题翻译： WAFER背面抛光装置
公开(公告)号：KR101613477B1
公开(公告)日：2016-04-19
申请号：KR1020150019955
申请日：2015-02-10
申请人： 장경덕
发明人： 장경덕
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/304 , H01L21/02024 , H01L2224/03602
摘要： 본발명은웨이퍼의이면을균일하게연마하여이면의이물질을제거하고이면의평탄도를향상시키는웨이퍼이면연마장치에관한것으로서, 반도체소자를형성한표면의반대면인이면을하부방향으로한 웨이퍼(W)를회전시키는헤드부(100); 직경을웨이퍼(W)의직경보다상대적으로작게한 연마패드(210)로웨이퍼(W)를하부에서지지한후, 연마패드(210)를회전시키는중에, 웨이퍼(W) 이면의범위내에서연마패드(210)를폭방향으로이동시키는이동수단(230)에의해웨이퍼(W) 이면의전면을연마시키는패드부(200); 웨이퍼(W)의표면을향해상부에서탈이온수(DI Water)을토출하는상부액 공급관(300); 웨이퍼(W)의이면을향해하부에서탈이온수(DI Water)을토출하는하부액 공급관(400); 을포함하여구성된다.
摘要翻译：晶片背面抛光装置技术领域本发明涉及对晶片背面进行均匀抛光以除去背面的异物的晶片背面研磨装置，从而提高背面的平坦度。所述晶片背面研磨装置具备：头部（100），使与所述半导体元件安装面相反的背面的晶片（W）向下方旋转; 通过使用具有比晶片（W）的直径相对更小的直径的抛光垫（210）从底部支撑晶片（W）的焊盘部分（200），并且抛光晶片（W）的整个背面，在通过在宽度方向上使晶片（W）的背面的范围内移动抛光垫（210）的移动机构（230）旋转抛光垫（210）期间，从顶部朝向晶片（W）的表面排出去离子水（DI水）的上部液体供给管（300）以及从底部将DI水排出到晶片（W）的背面的下部液体供给管（400）。

23. 发明授权

KR101608932B1 3족 질화물 함유 표면의 화학적 기계적 연마방법 有权
标题翻译： 3 III-氮化物表面的化学机械抛光
公开(公告)号：KR101608932B1
公开(公告)日：2016-04-04
申请号：KR1020137028408
申请日：2012-03-28
申请人： 신메트, 잉크 , 유니버시티 오브 플로리다 리서치 파운데이션, 인크.
发明人： 싱하,라지브,케이. , 아르주난,아룰,차카라바티 , 싱하,디피카 , 미쉬라,아부다야
IPC分类号： H01L21/304 , C09K3/14
CPC分类号： C09K3/1463 , C09G1/02 , H01L21/02024
摘要： 3족질화물함유표면을구비하는기판을화학적기계적으로연마하는방법은화학적기계적연마용슬러리조성물을준비하는단계를포함한다. 상기슬러리조성물은수용액캐리어(liquid carrier)와, 전이금속원소또는과화합물(per-based compound)을함유하는산화제를포함하는슬러리용액을포함한다. 상기슬러리용액은상기 3족질화물함유표면과반응하여상기연성 3족질화물함유표면을생성하기위한적어도하나의성분(component)을포함한다. 상기 3족질화물함유표면은연성 3족질화물함유표면을형성하기위하여패드에의해상기슬러리조성물과접촉된다. 상기패드는상기연성 3족질화물함유표면에상대적으로이동되며, 상기연성 3족질화물함유표면의적어도일부는제거된다.

24. 发明公开

KR1020160008550A 워크의 연마장치 审中-实审
标题翻译：工作抛光装置
公开(公告)号：KR1020160008550A
公开(公告)日：2016-01-22
申请号：KR1020157032613
申请日：2014-04-10
申请人： 신에쯔 한도타이 가부시키가이샤
发明人： 하시모토,히로마사 , 사사키,마사나오
IPC分类号： H01L21/02 , B24B37/32 , H01L21/304 , H01L21/306
CPC分类号： B24B37/20 , B24B37/32 , H01L21/02024
摘要： 본발명은, 워크를연마하기위한연마포와, 연마제를공급하기위한연마제공급기구와, 워크를유지하기위한연마헤드를구비하고, 이연마헤드는상기워크의이면을백킹패드에의해유지하고, 상기워크의엣지부를환상의템플레이트에의해유지하고, 연마포에워크와템플레이트를압압함으로써, 워크를연마포에슬라이드접촉시키고, 워크를연마하는워크의연마장치로서, 템플레이트는, 필러가첨가된수지또는직포가포함된수지로이루어지고, 연마포를압압하는면에필러또는직포가노출됨으로써, 이압압하는면에미세한오목부를갖는것을특징으로하는워크의연마장치이다. 이에따라, 워크외주부의연마속도가안정되고, 고평탄하게워크를연마할수 있는워크의연마장치가제공된다.

25. 发明公开

KR1020150123265A 연마용 조성물 및 연마물 제조 방법 审中-实审
标题翻译：抛光组合物和制造抛光物品的方法
公开(公告)号：KR1020150123265A
公开(公告)日：2015-11-03
申请号：KR1020157025527
申请日：2014-02-14
申请人： 가부시키가이샤 후지미인코퍼레이티드
发明人： 츠치야고오스케 , 단쇼히사노리
IPC分类号： C09K3/14 , B24B37/04 , H01L21/02
CPC分类号： B24B37/044 , C09G1/02 , C09K3/1463 , H01L21/02024 , H01L21/30625 , C08L29/04 , C08K3/36 , C08L33/26 , C08K3/20 , C08K3/28
摘要： 지립과수용성중합체와물을포함하는연마용조성물이제공된다. 상기수용성중합체는, 소정의흡착비측정에기초하는흡착비가 5% 미만인중합체 A와, 상기흡착비가 5% 이상 95% 미만인중합체 B를포함한다. 여기서, 상기중합체 B는히드록시에틸셀룰로오스이외의중합체에서선택된다.

26. 发明授权

KR101564676B1 연마용 조성물 및 이를 이용한 연마 방법 有权
标题翻译：使用该研磨组合物的研磨方法，以及
公开(公告)号：KR101564676B1
公开(公告)日：2015-11-02
申请号：KR1020147033389
申请日：2009-01-29
申请人： 가부시키가이샤 후지미인코퍼레이티드
发明人： 미즈노타카히로 , 이자와요시히로 , 아카츠카도모히코
IPC分类号： C09K3/14 , H01L21/304
CPC分类号： C09G1/02 , C09K3/1436 , C09K3/1463 , H01L21/02024 , H01L21/31053 , H01L21/3212
摘要： 본발명의제1의태양에관한연마용조성물은질소함유화합물및 연마용입자를함유하고, pH가 1~7인연마용조성물이다. 연마용조성물중에포함되는질소함유화합물은일반식: R-N(-R)-R(단, R, R, R은각각알킬기또는알킬기에특정기가추가된기를나타내고, R~R중 2개는헤테로사이클의일부를구성할수 있고, R~R중 2개는공통이고남은 1개로헤테로사이클의일부를구성할수 있음)으로표현되는구조를가지고, 이외에카르복실베타인형양성계면활성제, 술포베타인형양성계면활성제, 이미다졸린형양성계면활성제, 및아민옥사이드형양성계면활성제로이루어지는군으로부터선택되는어느하나를바람직하게포함할수 있다. 본발명의제2의태양에관한연마용조성물은수용성고분자및 연마용입자를함유하고, 산화제를함유하지않으며, pH가 1~8인연마용조성물이다.
摘要翻译：根据本发明的第一方面的抛光组合物含有含氮化合物和氮和研磨，pH值为1-7键马勇组合物的颗粒。包含在通式的抛光组合物的含氮化合物：两个RN的（-R）-R（其中，R，R，R表示被添加到每个特定组表示烷基或烷基，R〜R是杂环 uiil的2和可构成，R〜[R狗是常见的，具有一个单一的休息，其由表示可形成杂环的一部分），比Beta羧酸娃娃两性表面活性剂以外的结构，磺酸盐两性表面活性剂的β娃娃时，它可以期望包括从困型两性表面活性剂已经选择的一个，和由氧化胺型两性表面活性剂组成的组。根据本发明的第二方面的抛光组合物含有水溶性高分子和磨料颗粒，它不含有氧化剂，pH值为1-8键马勇组合物。

27. 发明授权

KR101564673B1 연마용 조성물 및 이를 이용한 연마 방법 有权
标题翻译：抛光组合物和使用该抛光组合物的抛光方法
公开(公告)号：KR101564673B1
公开(公告)日：2015-10-30
申请号：KR1020107016583
申请日：2009-01-29
申请人： 가부시키가이샤 후지미인코퍼레이티드
发明人： 미즈노타카히로 , 이자와요시히로 , 아카츠카도모히코
IPC分类号： C09K3/14 , H01L21/304 , B24B37/00 , C09G1/02
CPC分类号： C09G1/02 , C09K3/1436 , C09K3/1463 , H01L21/02024 , H01L21/31053 , H01L21/3212
摘要： 본발명의제1의태양에관한연마용조성물은질소함유화합물및 연마용입자를함유하고, pH가 1~7인연마용조성물이다. 연마용조성물중에포함되는질소함유화합물은일반식: R-N(-R)-R(단, R, R, R은각각알킬기또는알킬기에특정기가추가된기를나타내고, R~R중 2개는헤테로사이클의일부를구성할수 있고, R~R중 2개는공통이고남은 1개로헤테로사이클의일부를구성할수 있음)으로표현되는구조를가지고, 이외에카르복실베타인형양성계면활성제, 술포베타인형양성계면활성제, 이미다졸린형양성계면활성제, 및아민옥사이드형양성계면활성제로이루어지는군으로부터선택되는어느하나를바람직하게포함할수 있다. 본발명의제2의태양에관한연마용조성물은수용성고분자및 연마용입자를함유하고, 산화제를함유하지않으며, pH가 1~8인연마용조성물이다.

28. 发明公开

KR1020150106842A 가공 방법 审中-实审
标题翻译：处理方法
公开(公告)号：KR1020150106842A
公开(公告)日：2015-09-22
申请号：KR1020150033160
申请日：2015-03-10
申请人： 가부시기가이샤 디스코
发明人： 다케노우치겐지
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/02 , H01L31/0256
CPC分类号： B24B7/228 , B24B37/044 , B24B57/02 , H01L21/304 , H01L21/02024 , H01L2031/0344 , H01L2924/1067
摘要： 본 발명은 금속을 포함하는 피가공물을 적절히 가공할 수 있는 간단한 공정의 가공 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
적어도 피가공면(11a)에 금속을 포함하는 피가공물(11)을 연삭 휠(40b) 또는 연마 패드를 가진 가공 수단(32)으로 가공하는 가공 방법으로서, 피가공물의 피가공면 상에 가공액(50)을 공급하면서 피가공물을 가공 수단으로 연삭 또는 연마하는 가공 단계를 구비하고, 가공액은 유기산과 산화제를 포함하는 구성으로 하였다.
摘要翻译：本发明的目的是提供能够适当地处理包括金属在内的待处理物体的简单工艺的处理方法。本发明涉及一种处理方法，用于在具有抛光垫或砂轮（40b）的处理装置（32）的至少一个待处理表面（11a）上处理包括金属的待处理物体（11）。该方法包括在将待处理物体的待处理表面供给处理溶液（50）的同时，用处理装置抛光或研磨待处理物体的处理步骤。工艺溶液包括有机酸和氧化剂。

29. 发明公开

KR1020150100577A 워크의 평면 연삭 방법 审中-实审
标题翻译：工件表面研磨方法
公开(公告)号：KR1020150100577A
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：KR1020150026470
申请日：2015-02-25
申请人： 고요 기카이 고교 가부시키가이샤
发明人： 히라야마하루유키 , 유소우가즈히로
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/02
CPC分类号： B24B37/042 , B24B37/005 , B24B37/10 , B24B53/017 , B24B57/02 , H01L21/304 , H01L21/02024 , H01L2224/03602
摘要： 본 발명은 경질 취성 재료, 난삭 재료 등의 워크를 획기적으로 정밀도 좋게 가공할 수 있으며, 가공 레이트가 현격히 향상되도록 하는 것을 목적으로 한다.
지립을 포함하는 슬러리(5)를 공급하면서, 컵형의 지석(3)에 의해 워크(W)를 연삭할 때에, 지석(3)을 저주속(低周速)으로 회전시킨다. 지석(3)의 주속은 500 m/min 이하, 바람직하게는 30 m/min∼430 m/min이 적당하다. 또한 슬러리(5)는 유량 4.0 ml/㎠/h 이하, 바람직하게는 유량 1.0 ml/㎠/h∼2.0 ml/㎠/h를 워크(W)의 연삭면 상에 조금씩 적하 또는 분무한다.
摘要翻译：本发明的目的是以精确的方式以创新的方式处理诸如硬脆材料和难切割材料的工件，并且显着地提高加工速率。本发明的表面研磨方法，在通过杯型研磨石（3）研磨工件（W）的同时，在供给包含磨粒的浆料（5）的同时，以低圆周速度使研磨石（3）旋转。磨石（3）的圆周速度等于或低于500m / min，期望地为30m / min至430m / min。此外，浆料（5）以等于或低于4.0ml / cm 2 / h的通量落在工件（W）的研磨平面上，并且期望地为1.0ml / cm 2 / h至 2.0ml / cm 2 / h。

30. 发明公开

KR1020150084764A 양면 연마 방법 审中-实审
标题翻译：双面抛光方法
公开(公告)号：KR1020150084764A
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：KR1020157005876
申请日：2013-10-21
申请人： 신에쯔 한도타이 가부시키가이샤
发明人： 아사이,카즈마사
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/08 , B24B37/005 , B24B49/12 , B24B49/03 , H01L21/02
CPC分类号： B24B49/12 , B24B37/005 , B24B37/08 , B24B49/03 , H01L21/02024 , H01L22/12 , H01L22/20
摘要： 본발명은, 고연마레이트로연마하는제1 연마공정과, 이어서저연마레이트로연마하는제2 연마공정을갖는양면연마방법으로서, 연마후에, 웨이퍼의최외주부로부터중심을통과하는직선을소정의구간으로분할하고, 이분할한구간의단면형상을광학적으로측정하는공정과, 측정한단면형상에분할한구간마다미리설정한중량을더하여구간마다의평탄도를수치화하는공정과, 수치화한평탄도에기초하여차회연마시의제1 연마공정의연마조건및 제2 연마공정의연마조건을설정하는공정을포함하고, 단면형상을측정하는공정에있어서, 최외주구간의측정에이용하는측정장치의광속경을최외주구간이외의구간의측정에이용하는광속경보다작은것을이용하는양면연마방법이다. 이에따라, 생산성을저감하는일없이연마후의웨이퍼의최외주부까지의형상을정도좋게측정하고, 웨이퍼의최외주부를포함한웨이퍼전체의평탄도를향상시킬수 있는양면연마방법이제공된다.

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