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21. 发明授权

KR101932801B1 중합성 조성물 有权
公开(公告)号：KR101932801B1
公开(公告)日：2019-03-20
申请号：KR1020150043452
申请日：2015-03-27
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 김상우 , 이승희 , 안기호
IPC分类号： C08G69/38 , C08G73/12 , C08J5/24 , C08K7/02 , C08K3/04 , C08L33/18 , C08L33/24

22. 发明授权

KR101959463B1 프탈로니트릴 화합물 有权
公开(公告)号：KR101959463B1
公开(公告)日：2019-03-18
申请号：KR1020150071800
申请日：2015-05-22
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 이승희 , 김상우 , 안기호
IPC分类号： C07C255/51 , C08G73/00 , C08K3/013

23. 发明公开

KR1020170065952A 프탈로니트릴 화합물 审中-实审
公开(公告)号：KR1020170065952A
公开(公告)日：2017-06-14
申请号：KR1020150172374
申请日：2015-12-04
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 김상우 , 이승희 , 안기호
IPC分类号： C07C255/51 , C07C255/54 , C09B47/04 , C08G69/38 , C08J5/24
摘要： 본출원에서는프탈로니트릴화합물및 그용도를제공할수 있다. 상기프탈로니트릴화합물은신규한구조를가지고, 프탈로니트릴화합물이적용될수 있는것으로공지된용도에서우수한효과를나타낼수 있다. 이러한프탈로니트릴화합물의용도로는, 소위프탈로니트릴수지, 프탈로시아닌염료, 형광증백제, 포토그래피증감제또는산무수물등의원료내지는전구체가예시될수 있다.

24. 发明公开

KR1020170004256A 프탈로니트릴 수지 审中-实审
标题翻译：邻苯二甲腈树脂
公开(公告)号：KR1020170004256A
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：KR1020150094357
申请日：2015-07-01
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 안기호 , 김상우 , 이승희
IPC分类号： C08G75/02 , C08G65/333 , C08K3/00 , C08L81/02 , C08L71/00
CPC分类号： C08G65/333 , C04B35/83 , C08G75/0222 , C08K3/00 , C08L71/00 , C08L81/02
摘要： 본출원에서는프탈로니트릴수지등에대한것이다. 본출원에서는경화성이우수하고, 적절한가공온도와넓은프로세스윈도우(process window)를나타내며, 우수한물성의복합체를형성할수 있는프탈로니트릴수지, 그를사용한중합성조성물및 프리폴리머를제공할수 있다. 또한, 본출원에따르면, 적절한점도특성을나타내어서, 가공과정에서발생하는기포에의한기계적물성등의저하가없는최종제품을제공할수 있는프탈로니트릴수지, 그를사용한중합성조성물및 프리폴리머를제공할수 있다.
摘要翻译：本申请涉及酞腈树脂等。本申请可以提供：能够形成具有优异的固化性能的复合材料的邻苯二甲腈树脂，显示出合适的工艺温度和宽的工艺窗口并且具有优异的物理性能; 使用其的可聚合组合物; 和预聚物。此外，根据本申请，提供了：具有适合的粘度特性的邻苯二甲腈树脂，从而能够提供没有由加工过程中产生的气泡引起的机械性能等的劣化的最终产品; 使用其的可聚合组合物; 和预聚物。

25. 发明公开

KR1020160148903A 안티몬을 함유하는 금속 화합물 중 안티몬의 함량 분석 방법 및 이에 사용되는 금속 조성물 审中-实审
标题翻译：用于分析金属化合物中含有抗微生物和金属组合物的抗微生物含量的方法
公开(公告)号：KR1020160148903A
公开(公告)日：2016-12-27
申请号：KR1020150085688
申请日：2015-06-17
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 윤현경 , 김상우 , 임미라
IPC分类号： G01N21/73 , H01J37/32 , G01N1/28 , G01N1/38 , G01N1/40
摘要： 본발명은안티몬(Sb)을함유하는금속화합물의함량분석방법및 ICP 분석용금속조성물에관한것으로, 본발명에따르면강산(strong acid)과타르타르산의혼합에의하여착화시킴으로써불용성침전을방지하여안티몬(Sb)의정확한정량분석을할 수있는장점이있다.

26. 发明公开

KR1020160147536A 양극재에 함유된 인의 함량 분석 방법 및 이에 사용되는 조성물 审中-实审
标题翻译：用于分析阴离子材料中的磷含量的方法及其使用的组合物
公开(公告)号：KR1020160147536A
公开(公告)日：2016-12-23
申请号：KR1020150084410
申请日：2015-06-15
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 김상우 , 원정혜 , 윤현경
IPC分类号： G01N21/73 , G01N27/68 , G01N1/38
摘要： 본발명은양극재에함유된인의함량분석방법및 이에사용되는조성물에관한것으로, 본발명에따르면이차전지양극재에함유된인(P)의회수율을확보함으로써분석의정확성을높일수 있는장점이있다.

27. 发明授权

KR101685743B1 고감도 및 고잔막율 특성을 가지는 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：具有高灵敏度和高残留率的感光性树脂组合物
公开(公告)号：KR101685743B1
公开(公告)日：2016-12-12
申请号：KR1020130066610
申请日：2013-06-11
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 김상우 , 박찬효 , 남규현 , 임미라 , 김경준
IPC分类号： G03F7/037 , G03F7/028 , G03F7/022 , H01L21/027 , G03F7/42 , G03F7/32 , G03F7/11
摘要： 본발명은고감도, 고잔막율특성을가지면서우수한필름특성을가지는감광성폴리이미드를제조할수 있는감광성수지조성물에관한것이다. 본발명에따른감광성수지조성물은, 하기화학식 1의반복단위를포함하는제1폴리이미드중합체; 하기화학식 2의반복단위를포함하는제2폴리이미드중합체; 광활성화합물(Photo-active compound); 및유기용매를포함한다. [화학식 1]상기화학식 1에서 X는 4가의유기기이고, Y는히드록실기, 페놀성히드록실기, 및카르복실기로구성되는군으로부터선택되는하나이상을가지는 2가의유기기이다. [화학식 2]상기화학식 2에서 X'는 4가의유기기이고, Z는불소기로구성되는군으로부터선택되는하나이상을가지는 2가의유기기이다.
摘要翻译：本发明涉及能够制造感光性聚酰亚胺的感光性树脂组合物，其具有优异的膜特性，同时具有高灵敏度和高残留率。本发明的感光性树脂组合物含有：由化学式1表示的重复单元构成的第一聚酰亚胺聚合物，包含由化学式2表示的重复单元的第二聚酰亚胺聚合物; 光活性化合物; 和有机溶剂。在化学式1中，X是四价有机基团，Y是具有选自羟基，酚羟基和羧基中的至少一种的二价有机基团。在化学式2中，X'是四价有机基团，Y是具有选自氟基团中的至少一种的二价有机基团。

28. 发明公开

KR1020140144526A 폴리이미드 수지 조성물 및 폴리이미드 필름 有权
标题翻译：聚酰亚胺树脂组合物和聚酰亚胺膜
公开(公告)号：KR1020140144526A
公开(公告)日：2014-12-19
申请号：KR1020130066615
申请日：2013-06-11
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 임미라 , 박찬효 , 김상우 , 김경준
IPC分类号： C08L79/08 , C08K5/3417 , C08G73/10 , C08J5/18
摘要： 본 발명은 폴리이미드, 비스알릴나디이미드 구조의 경화제 및 열산 발생제를 포함함으로써 내화학성, 기판밀착성 및 열적 안정성이 향상된 폴리이미드 수지 조성물에 관한 것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种聚酰亚胺树脂组合物。聚酰亚胺树脂组合物通过在聚酰亚胺和双烯丙基 - 酰亚胺结构和热酸产生剂中包含固化剂而具有增强的耐化学性，基材粘合性和热稳定性。聚酰亚胺树脂组合物包括由化学式1表示的重复单元，并且包括：1-30重量份由化学式2表示的固化剂; 和0.1-20重量份的热酸发生器相对于100重量份的可以交联的不饱和键的聚酰亚胺，至少在其一侧的末端上。

29. 发明公开

KR1020140144523A 고감도 및 고잔막율 특성을 가지는 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：具有高灵敏度和高剩余率的感光树脂组合物
公开(公告)号：KR1020140144523A
公开(公告)日：2014-12-19
申请号：KR1020130066610
申请日：2013-06-11
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 김상우 , 박찬효 , 남규현 , 임미라 , 김경준
IPC分类号： G03F7/037 , G03F7/028 , G03F7/022 , H01L21/027 , G03F7/42 , G03F7/32 , G03F7/11
CPC分类号： G03F7/037 , G03F7/0223 , G03F7/028 , G03F7/0387 , G03F7/327 , H01L21/0273
摘要： 본 발명은 고감도, 고잔막율 특성을 가지면서 우수한 필름 특성을 가지는 감광성 폴리이미드를 제조할 수 있는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은, 하기 화학식 1의 반복단위를 포함하는 제1폴리이미드 중합체; 하기 화학식 2의 반복단위를 포함하는 제2폴리이미드 중합체; 광활성 화합물(Photo-active compound); 및 유기용매를 포함한다.
[화학식 1]

상기 화학식 1에서 X는 4가의 유기기이고,
Y는 히드록실기, 페놀성 히드록실기, 및 카르복실기로 구성되는 군으로부터 선택되는 하나 이상을 가지는 2가의 유기기이다.
[화학식 2]

상기 화학식 2에서 X'는 4가의 유기기이고,
Z는 불소기로 구성되는 군으로부터 선택되는 하나 이상을 가지는 2가의 유기기이다.
摘要翻译：本发明涉及能够制造感光性聚酰亚胺的感光性树脂组合物，其具有优异的膜特性，同时具有高灵敏度和高残留率。本发明的感光性树脂组合物含有：由化学式1表示的重复单元构成的第一聚酰亚胺聚合物，包含由化学式2表示的重复单元的第二聚酰亚胺聚合物; 光活性化合物; 和有机溶剂。在化学式1中，X是四价有机基团，Y是具有选自羟基，酚羟基和羧基中的至少一种的二价有机基团。在化学式2中，X'是四价有机基团，Y是具有选自氟基团中的至少一种的二价有机基团。

30. 发明授权

KR101440976B1 잉크젯용 잉크 조성물, 이를 이용한 식각 마스크, 절연막 및 그 제조방법 有权
标题翻译：用于其中形成的墨水印刷，电介质和蚀刻掩模的墨水组合物以及制造电介质和蚀刻掩模的方法
公开(公告)号：KR101440976B1
公开(公告)日：2014-09-18
申请号：KR1020120058767
申请日：2012-05-31
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 구용성 , 유민아 , 김상우
IPC分类号： C09D11/00 , C09D11/10 , H01L21/31 , H01L21/312
摘要： 본 발명은 잉크젯용 잉크 조성물에 관한 것으로서, 구체적으로 a)폴리 이미드 15 내지 50중량부; b)계면활성제 0.01 내지 2중량부; 및 c)용매 48 내지 85중량부를 포함하는 잉크 조성물, 이를 이용한 식각 마스크, 절연막 및 그 제조방법에 관한 것이다.

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