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1. 发明公开

KR1020120110896A 신규 폴리아미드 유도체를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물 审中-实审
标题翻译：包含NOVLE聚酰胺衍生物的正型型感光性组合物
公开(公告)号：KR1020120110896A
公开(公告)日：2012-10-10
申请号：KR1020110029074
申请日：2011-03-30
申请人： 금호석유화학 주식회사
发明人： 이종범 , 강석찬 , 손경철
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/022 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0395 , G03F7/0223 , G03F7/0226 , G03F7/0397 , H01L21/0273 , H01L21/0274
摘要： PURPOSE: A positive type photo-sensitive resin composition containing a polyamide derivative is provided to reduce the loss of a non-exposed part after development and to improve thermal stability. CONSTITUTION: A positive type photo-sensitive resin composition includes a polyamide derivative represented by chemical formula 1. In chemical formula 1, R1, R2, R4, and R5 are respectively divalent to hexavalent acyl groups with two or more carbon atoms; R3 is a hydrogen atom or a C1-10 alkyl group; k is the integer of 10 to 1000; l is the integer of 1 to 1000; n and m are respectively the integer of 0 to 2; the sum of n and m is more than 0; and X is a C2-30 carboxylic group.
摘要翻译：目的：提供含有聚酰胺衍生物的正型感光性树脂组合物，以减少显影后未曝光部分的损失，提高热稳定性。构成：正型感光性树脂组合物包括由化学式1表示的聚酰胺衍生物。在化学式1中，R1，R2，R4和R5分别是具有两个或更多个碳原子的二价至六价酰基; R3是氢原子或C1-10烷基; k为10〜1000的整数; l为1〜1000的整数; n和m分别为0〜2的整数; n和m的和大于0; X为C 2-30羧基。

2. 发明公开

KR1020160084556A 포지티브형 감광성 실록산 수지 조성물 및 이를 포함하는 표시 장치 审中-实审
标题翻译：正性感光性硅氧烷树脂组合物和包含其的显示装置
公开(公告)号：KR1020160084556A
公开(公告)日：2016-07-14
申请号：KR1020150000726
申请日：2015-01-05
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 심승보 , 김정원 , 우준혁 , 주진호 , 박광우 , 김병욱 , 여태훈 , 윤혁민 , 이상훈
IPC分类号： G03F7/075 , G03F7/022 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/039 , C08K5/23 , C08K5/42 , G03F7/0233 , G03F7/038 , H01L27/3246 , H01L27/3248 , H01L51/0043 , H01L51/0094 , C08L83/04 , G03F7/0757 , G03F7/0223 , G03F7/0392
摘要： 본발명의일 실시예에따른포지티브형감광성실록산수지조성물은 a) ⅰ) 하기화학식 1로표시되는반응성실란 1종이상, 및ⅱ) 하기화학식 2로표시되는 4관능반응성실란 1종이상을촉매하에가수분해및 축합중합하여얻어진폴리스티렌환산중량평균분자량(Mw)이 1,000 내지 20,000인실록산계공중합체; b) 1,2-퀴논디아지드화합물; 및 c) 용매를포함한다. (R)nSi(R)[화학식 1] Si(R)[화학식 2] 상기 R은서로독립적으로탄소수 1 내지10의알킬기, 탄소수 6 내지15의아릴기중어느하나이며, 상기 R는탄소수 1 내지4의알콕시기, 페녹시, 또는아세톡시이며, 상기 R는서로독립적으로탄소수 1 내지 4의알콕시기, 페녹시, 또는아세톡시기중어느하나이며, n은 1 내지 3의자연수이다.
摘要翻译：在本发明的一个实施方案中，正型光敏硅氧烷树脂组合物包含：a）在催化剂存在下，通过水解和缩聚获得的聚苯乙烯换算的平均分子量（Mw）为1,000-20,000的硅氧烷共聚物 i）由化学式1表示的一种或多种反应性硅烷物质和ii）由化学式2表示的一种或多种四官能反应性硅烷物质; b）1,2-醌二叠氮化合物; 和c）溶剂。 R_1独立地为具有1-10个碳原子的烷基或具有6-15个碳原子的芳基; R_2是具有1-4个碳原子的烷氧基，或苯氧基或乙酰氧基; R 3独立地为具有1-4个碳原子的烷氧基，或苯氧基或乙酰氧基; n为1-3的自然数。根据本发明的正型感光性硅氧烷树脂组合物具有优异的灵敏度，分辨率，粘合性和透射率，并且还可以抑制气体的排放。

3. 发明公开

KR1020120138578A 포토레지스트 조성물 无效
标题翻译：光电组合物
公开(公告)号：KR1020120138578A
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：KR1020110058155
申请日：2011-06-15
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 제갈은 , 김동민 , 이원영 , 김승기 , 변자훈 , 김병욱 , 박주경 , 주상일 , 함선미 , 이두연 , 박일규 , 정기화 , 김경호 , 홍우성
IPC分类号： G03F7/022 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0223 , G03F7/0226 , H01L21/0273 , H01L21/0274
摘要： PURPOSE: A photoresist composition is provided to improve the dissolution of a polymer resin, and the resolution, the development contrast, and the photosensitivity of a photoresist film by using a glutaraldehyde-based novolak resin. CONSTITUTION: A photoresist composition includes 5-30 weight% of a novolak resin, 2-10 weight% of a diazide-based photosensitive compound, 0.1-10 weight% of a sensitivity enhancer, and remaining amount of an organic solvent. The novolak resin is the condensation polymer of a phenol compound and glutaraldehyde, and the weight average molecular weight of the novolak resin is in a range between 2,000 and 20,000. In the novolak resin, 2-50 parts by weight of the glutaraldehyde are used based on 100 parts by weight of the phenol compound. [Reference numerals] (AA) Embodiment 1; (BB) Embodiment 2; (CC) Embodiment 3; (DD) Comparative Embodiment 1; (EE) H/B = Skip; (FF) H/B = 130°C; (GG) H/B = 135°C
摘要翻译：目的：提供光致抗蚀剂组合物以通过使用戊二醛基酚醛清漆树脂来改善聚合物树脂的溶解性，以及光刻胶膜的分辨率，显影对比度和光敏性。构成：光致抗蚀剂组合物包括5-30重量％的酚醛清漆树脂，2-10重量％的二叠氮基感光性化合物，0.1-10重量％的灵敏度增强剂和剩余量的有机溶剂。酚醛清漆树脂是酚化合物和戊二醛的缩聚物，酚醛清漆树脂的重均分子量在2,000和20,000之间的范围内。在酚醛清漆树脂中，基于100重量份的酚化合物，使用2-50重量份的戊二醛。（附图标记）（AA）实施例1; （BB）实施例2; （CC）实施例3; （DD）比较实施例1; （EE）H / B =跳过; （FF）H / B = 130℃; （GG）H / B = 135℃

4. 发明公开

KR1020150019384A 포지티브형 감광성 수지 조성물, 및 이를 이용한 감광성 수지막 및 표시 소자 有权
标题翻译：正性感光树脂组合物，以及使用它的光敏树脂膜和显示装置
公开(公告)号：KR1020150019384A
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：KR1020130096165
申请日：2013-08-13
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 권지윤 , 강진희 , 김대윤 , 김상권 , 김상수 , 김용태 , 노건배 , 박은비 , 백재열 , 송재환 , 윤은경 , 이범진 , 이종화 , 이진영 , 홍충범 , 황은하 , 황인철
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/022 , H01L21/027 , G02F1/13
CPC分类号： G03F7/0226 , G03F7/0045 , G03F7/0233 , G03F7/0755 , G03F7/0397 , G02F1/1303 , G02F1/1313 , G03F7/0223 , H01L21/0273 , H01L51/50 , H05B33/10
摘要： (A) 알칼리 가용성 수지; (B) 감광성 디아조퀴논 화합물; (C) 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 화합물 중 적어도 하나를 포함하는 제1 용해조절제; (D) 화학식 3으로 표시되는 화합물을 포함하는 제2 용해조절제; 및 (E) 용매를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물, 그리고 이를 이용한 감광성 수지막 및 표시 소자가 제공된다.
摘要翻译：本发明的目的是提供一种具有高灵敏度和高分辨率的正型感光性树脂组合物。本发明提供正型感光性树脂组合物，使用其的感光性树脂膜和显示装置。正型感光性树脂组合物包括：（A）碱溶性树脂; （B）光敏重氮醌化合物; （C）第一溶出调节剂，其包含化合物1或2所示的化合物中的至少一种; （D）包含由化学式3表示的化合物的第二溶解调节剂; 和（E）溶剂。

5. 发明公开

KR1020140144523A 고감도 및 고잔막율 특성을 가지는 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：具有高灵敏度和高剩余率的感光树脂组合物
公开(公告)号：KR1020140144523A
公开(公告)日：2014-12-19
申请号：KR1020130066610
申请日：2013-06-11
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 김상우 , 박찬효 , 남규현 , 임미라 , 김경준
IPC分类号： G03F7/037 , G03F7/028 , G03F7/022 , H01L21/027 , G03F7/42 , G03F7/32 , G03F7/11
CPC分类号： G03F7/037 , G03F7/0223 , G03F7/028 , G03F7/0387 , G03F7/327 , H01L21/0273
摘要： 본 발명은 고감도, 고잔막율 특성을 가지면서 우수한 필름 특성을 가지는 감광성 폴리이미드를 제조할 수 있는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은, 하기 화학식 1의 반복단위를 포함하는 제1폴리이미드 중합체; 하기 화학식 2의 반복단위를 포함하는 제2폴리이미드 중합체; 광활성 화합물(Photo-active compound); 및 유기용매를 포함한다.
[화학식 1]

상기 화학식 1에서 X는 4가의 유기기이고,
Y는 히드록실기, 페놀성 히드록실기, 및 카르복실기로 구성되는 군으로부터 선택되는 하나 이상을 가지는 2가의 유기기이다.
[화학식 2]

상기 화학식 2에서 X'는 4가의 유기기이고,
Z는 불소기로 구성되는 군으로부터 선택되는 하나 이상을 가지는 2가의 유기기이다.
摘要翻译：本发明涉及能够制造感光性聚酰亚胺的感光性树脂组合物，其具有优异的膜特性，同时具有高灵敏度和高残留率。本发明的感光性树脂组合物含有：由化学式1表示的重复单元构成的第一聚酰亚胺聚合物，包含由化学式2表示的重复单元的第二聚酰亚胺聚合物; 光活性化合物; 和有机溶剂。在化学式1中，X是四价有机基团，Y是具有选自羟基，酚羟基和羧基中的至少一种的二价有机基团。在化学式2中，X'是四价有机基团，Y是具有选自氟基团中的至少一种的二价有机基团。

6. 发明公开

KR1020120007341A 구리계 금속막용 포지티브형 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트 패턴 형성방법 无效
标题翻译：用于基于铜箔的金属膜组合物的正电子照相机和使用其的光电子发送器的方法
公开(公告)号：KR1020120007341A
公开(公告)日：2012-01-20
申请号：KR1020100068056
申请日：2010-07-14
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 임민주 , 이은상 , 장원영 , 윤종흠
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/022 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0395 , G03F7/0044 , G03F7/0223 , H01L21/0273 , H01L21/0274
摘要： PURPOSE: A positive photo-resist composition for a copper-based metal film and a method for forming a photo-resist pattern using the same are provided to prevent the collapse and the delamination of patterns in a developing process or an etching process. CONSTITUTION: A positive photo-resist composition includes 10-25 weight% of an alkali-soluble resin, 1-10 weight% of a photo-sensitive compound, 0.01-0.1 weight% of a compound represented by chemical formula 1, and remaining amount of a solvent based on the total weight of the composition. In the chemical formula 1, the R1 is hydrogen or hydroxyl group. The R2 and the R3 are respectively hydrogen, C1 to C5 alkyl group, or C6 to C15 aryl group. The alkali-soluble resin is a novolak resin.
摘要翻译：目的：提供一种用于铜基金属膜的正型光致抗蚀剂组合物和使用其的形成光致抗蚀剂图案的方法，以防止在显影过程或蚀刻工艺中图案的塌陷和分层。构成：正光致抗蚀剂组合物包含10-25重量％的碱溶性树脂，1-10重量％的光敏化合物，0.01-0.1重量％的化学式1表示的化合物和剩余量基于组合物的总重量的溶剂。在化学式1中，R1是氢或羟基。 R2和R3分别为氢，C1至C5烷基或C6至C15芳基。碱溶性树脂是酚醛清漆树脂。

7. 发明公开

KR1020110129692A 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트 패턴의 형성 방법 无效
标题翻译：光刻胶组合物和使用其形成光刻胶图案的方法
公开(公告)号：KR1020110129692A
公开(公告)日：2011-12-02
申请号：KR1020100049211
申请日：2010-05-26
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 전우석 , 박정민 , 김병욱 , 윤혁민 , 구기혁 , 최수연 , 김진선
IPC分类号： G03F7/022 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0007 , G02F1/13439 , G03F7/0236 , G03F7/0382 , G03F7/0223 , H01L21/0274
摘要： PURPOSE: A photo-resist composition and a method for forming a photo-resist pattern using the same are provided to prevent the generation of an under-cut phenomenon in the pattern and to improve the developing characteristic of the pattern according to thicknesses. CONSTITUTION: A photo-resist composition includes 10-45 parts by weight of an alkaline soluble binder resin, 0.1-5 parts by weight of a photo-acid generator, 1-5 parts by weight of a cross-linking agent, 0.3-3 parts by weight of a quinonediazide-based compound, and remaining parts by weight of a solvent. The alkaline soluble binder resin includes a hydroxyl group. The cross-linking agent forms the cross-linkage of the alkaline soluble binder resin. The photo-resist composition is applied on a target(10) to form a photo-resist film(20). The photo-resist film is exposed. The photo-resist film is partially eliminated to form a photo-resist pattern.
摘要翻译：目的：提供光致抗蚀剂组合物和使用其的光致抗蚀剂图案的形成方法，以防止图案中产生底切现象，并根据厚度改善图案的显影特性。构成：光致抗蚀剂组合物包含10-45重量份碱溶性粘合剂树脂，0.1-5重量份光酸发生剂，1-5重量份交联剂，0.3-3重量份重量份的基于醌二叠氮化物的化合物和剩余的重量份的溶剂。碱溶性粘合剂树脂包括羟基。交联剂形成碱溶性粘合剂树脂的交联。将光致抗蚀剂组合物施加到靶（10）上以形成光致抗蚀剂膜（20）。曝光光刻胶膜。部分地去除光致抗蚀剂膜以形成光致抗蚀剂图案。

8. 发明公开

KR1020110068924A 포지티브형 감방사선성 조성물, 층간 절연막 및 그 형성 방법 无效
标题翻译：正性辐射敏感性组合物，层间绝缘膜及其形成方法
公开(公告)号：KR1020110068924A
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：KR1020100128175
申请日：2010-12-15
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 이치노헤다이고 , 하나무라마사아키
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/022 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0395 , G03F7/0223 , G03F7/0392 , G03F7/075 , H01L21/0273 , H01L21/0274
摘要： PURPOSE: A polysiloxane system positive type radiation-sensitive composition, an inter-layer insulating film for a display device using thereof, and a producing method thereof are provided to secure the excellent heat resistance, transparency, and solvent resistance. CONSTITUTION: A polysiloxane system positive type radiation-sensitive composition contains a siloxane polymer, a quinonediazide compound, and a copolymer of a polymerizable unsaturated compound containing a compound marked with chemical formula 1, a compound marked with chemical formula 2, and a group marked with chemical formula 3.
摘要翻译：目的：提供聚硅氧烷系阳性辐射敏感性组合物，其用于显示装置的层间绝缘膜及其制造方法，以确保优异的耐热性，透明性和耐溶剂性。构成：聚硅氧烷系阳性辐射敏感性组合物含有硅氧烷聚合物，醌二叠氮化合物和含有化学式1所示化合物的可聚合不饱和化合物，标有化学式2的化合物和标有化学式3。

9. 发明公开

KR1020120110860A 감광성 화합물 및 이의 제조방법, 및 이를 포함하는 감광성 조성물 审中-实审
标题翻译：光敏化合物及其制造方法以及包含其的感光性组合物
公开(公告)号：KR1020120110860A
公开(公告)日：2012-10-10
申请号：KR1020110029021
申请日：2011-03-30
申请人： 금호석유화학 주식회사
发明人： 이종범 , 강석찬 , 손경철
IPC分类号： G03F7/022 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0223 , G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/0047 , G03F7/022
摘要： PURPOSE: A photo-sensitive compound, a method for preparing the same, and a photo-sensitive composition including the same are provided to improve the verticality of a pattern film and to improve the insulating characteristic of the pattern film. CONSTITUTION: A photo-sensitive compound is made of a naphthoquinone diazide sulfonic ester compound containing at least one naphthoquinone diazide sulfoxy group and at least one C1-8 carbamate group in one molecule. The sulfonic ester compound is represented by chemical formula 1. In chemical formula 1, R1, R2, and R3 are respectively hydrogen atoms, halogen atoms, C1-8 alkyl groups, C1-8 ether groups, C1-8 ester groups, C1-8 alkoxy groups, C1-8 carbamate groups, C1-8 thioether groups, or a naphthoquinone diazide sulfoxy group(-ODNQ); and R is at least one compound group selected from a group represented by chemical formula 1A and other chemical formulas.
摘要翻译：目的：提供光敏化合物，其制备方法和包含该光敏化合物的感光性组合物，以改善图案膜的垂直度并提高图案膜的绝缘特性。构成：光敏化合物由在一个分子中含有至少一个萘醌二叠氮基亚砜氧基和至少一个C 1-8氨基甲酸酯基团的萘醌二叠氮磺酸酯化合物制成。磺酸酯化合物由化学式1表示。在化学式1中，R1，R2和R3分别是氢原子，卤原子，C1-8烷基，C1-8醚基，C1-8酯基，C1- 8个烷氧基，C 1-8氨基甲酸酯基，C 1-8硫醚基或萘醌二叠氮磺酰氧基（-ODNQ）; R为选自化学式1A所示的基团和其它化学式中的至少一种化合物。

10. 发明公开

KR1020120098680A 퀴논디아지드계 감광제 용액 및 포지티브형 레지스트 조성물 无效
标题翻译：喹诺酮类光敏剂溶液和阳离子型抗蚀剂组合物
公开(公告)号：KR1020120098680A
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：KR1020127011987
申请日：2010-07-07
申请人： 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤
发明人： 카나야,히로키
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/022 , C07C303/42 , C07C309/76
CPC分类号： G03F7/0226 , G03F7/0048 , C07C303/42 , C07C309/76 , G03F7/0045 , G03F7/0223
摘要： 본 발명은 열변성 처리를 하지 않더라도 포지티브형 레지스트 조성물로부터 퀴논디아지드계 감광제의 석출을 억제 또는 방지할 수 있도록 함과 함께, 포지티브형 레지스트 조성물의 제조 시에 포지티브형 레지스트 조성물에의 퀴논디아지드계 감광제의 용해를 쉽게 하기 위해서, 퀴논디아지드계 감광제를 유기 용제에 용해시켜 이루어지는 퀴논디아지드계 감광제 용액은 퀴논디아지드계 감광제의 석출 방지제로서 티올 화합물을 함유한다. 또한, 포지티브형 레지스트 조성물은 알칼리 가용성 수지와, 가교제와, 퀴논디아지드계 감광제와, 퀴논디아지드계 감광제의 석출 방지제로서 티올 화합물을 함유한다.

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