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21. 发明公开

KR1020160083289A 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 审中-实审
标题翻译：基板处理装置和基板处理方法
公开(公告)号：KR1020160083289A
公开(公告)日：2016-07-12
申请号：KR1020140193911
申请日：2014-12-30
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 정영헌 , 이재명 , 이강석
IPC分类号： H01L21/306 , H01L21/302 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/306 , H01L21/02 , H01L21/302
摘要： 본발명은기판처리장치및 기판처리방법에관한것이다. 본발명의일 실시예에따른기판처리장치는기판을지지하는기판지지유닛; 상기기판지지유닛에지지된기판상에처리액을공급하는제 1 노즐유닛; 및상기기판지지유닛에지지된기판상에린스액을공급하는제 2 노즐유닛을포함하되, 상기제 2 노즐유닛은, 상기린스액이분사되는린스노즐; 상기린스노즐을지지하고길이가가변가능하게제공되는지지암; 및상기기판지지유닛의일측에위치되어상기지지암을지지하는지지축을포함한다.
摘要翻译：本发明涉及能够有效地处理基板的基板处理装置和基板处理方法。根据本发明的实施例，基板处理装置包括：支撑基板的基板支撑单元; 第一喷嘴单元，其将处理液体提供到由所述基板支撑单元支撑的所述基板上; 以及第二喷嘴单元，其将冲洗液体提供到由所述基板支撑单元支撑的所述基板上。所述第二喷嘴单元包括：冲洗喷嘴喷射所述冲洗液; 支撑臂支撑冲洗喷嘴，并提供以改变长度; 以及支撑轴，其位于所述基板支撑单元的一侧，并且支撑所述支撑臂。

22. 发明公开

KR1020100102951A 스핀 코터 장치 및 스핀 코터 장치를 이용하여 감광액을 도포하는 방법 失效
标题翻译：旋转涂布机装置和使用其的涂料照相机的方法
公开(公告)号：KR1020100102951A
公开(公告)日：2010-09-27
申请号：KR1020090021282
申请日：2009-03-12
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 정영헌 , 조수현 , 최종수
IPC分类号： G03F7/16 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/162 , G03F7/168 , H01L21/67017 , H01L21/6715
摘要： PURPOSE: A spin coater apparatus and a method for coating a photoresist using the same are provided to prevent bubbles from being generated on a wafer when a highly viscous photoresist is coated and to evenly coat the highly viscous photoresist. CONSTITUTION: A method for coating a photoresist using a spin coater which coats the photoresist while rotating a wafer comprises the following steps: performing a first coating process of coating a wafer(110) with the photoresist using a nozzle(130) for spraying the photoresist from the edge of the wafer to the center of the wafer; firstly baking the firstly coated photoresist; secondarily coating the photoresist on the wafer by moving the nozzle; and secondarily baking the secondarily coated photoresist.
摘要翻译：目的：提供旋涂机装置和使用其的涂覆光致抗蚀剂的方法，以防止在涂覆高粘度光致抗蚀剂时在晶片上产生气泡并均匀地涂覆高粘度光致抗蚀剂。构成：使用旋转涂布机在旋转晶片时涂覆光致抗蚀剂的方法，包括以下步骤：使用用于喷涂光致抗蚀剂的喷嘴（130）执行用光致抗蚀剂涂覆晶片（110）的第一涂覆工艺，从晶片的边缘到晶片的中心; 首先烘烤第一次涂覆的光致抗蚀剂; 通过移动喷嘴二次在晶片上涂覆光致抗蚀剂; 并二次烘烤二次涂覆的光致抗蚀剂。

23. 发明授权

KR102000010B1 기판 처리 장치 및 방법 有权
公开(公告)号：KR102000010B1
公开(公告)日：2019-07-17
申请号：KR1020180130480
申请日：2018-10-30
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 정영헌 , 박창욱
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/687 , H01L21/02 , H01L21/324 , G03F7/30 , G03F7/32

24. 发明授权

KR101985756B1 기판 처리 장치 및 방법 有权
公开(公告)号：KR101985756B1
公开(公告)日：2019-06-04
申请号：KR1020170101077
申请日：2017-08-09
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 박민정 , 정영헌 , 김경한
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/687 , H01L21/02 , H01L21/66

25. 发明授权

KR101958637B1 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 有权
公开(公告)号：KR101958637B1
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：KR1020160157293
申请日：2016-11-24
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 박민정 , 정영헌 , 조수현
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/02 , H01L21/324

26. 发明授权

KR101909185B1 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 有权
公开(公告)号：KR101909185B1
公开(公告)日：2018-10-17
申请号：KR1020160144304
申请日：2016-11-01
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 정영헌 , 서경진 , 조수현
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/26 , G03F7/00 , H01L21/02 , H01L21/687
摘要： 본발명은기판처리장치및 기판처리방법에관한것이다. 본발명의일 실시예에따른기판처리장치는기판을지지하는기판지지부재; 상기기판지지부재에지지된상기기판으로감광액을도포하는처리액공급유닛; 상기기판지지부재의둘레에위치되고, 상기기판주위의기체를배출하는배기구를가지고, 상기기판지지부재에대한상대적인높이가조절가능하게제공되는용기를포함한다.

27. 发明公开

KR1020180077382A 기판 처리 장치 및 기판 처리 장치 세정 방법 有权
公开(公告)号：KR1020180077382A
公开(公告)日：2018-07-09
申请号：KR1020160181149
申请日：2016-12-28
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 정영헌 , 조수현 , 오창석 , 홍은석
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/687 , H01L21/683
摘要： 본발명은기판처리장치및 기판처리장치세정방법에관한것이다. 본발명의일 실시예에따른기판처리장치는처리된기판을지지하는지지판; 축을통해상기지지판에연결되어, 상기지지판이회전되는동력을제공하는구동기; 상기지지판의둘레에위치되는처리용기; 상기지지판의아래쪽에위치되어, 상기처리용기의세정을위한클리닝유체를분사하는클리닝노즐; 상기기판으로처리액을공급하는액 공급유닛을포함한다.

28. 发明授权

KR101853373B1 기판 처리 장치 有权
公开(公告)号：KR101853373B1
公开(公告)日：2018-06-20
申请号：KR1020160098122
申请日：2016-08-01
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 정영헌 , 서경진 , 조수현
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/60 , H01L21/66
摘要： 본발명은기판처리장치에관한것이다. 본발명의일 실시예에따른기판처리장치는카세트가놓여지는재치대를갖는로드포트; 공정처리를수행하는도포및 현상모듈; 상기도포및 현상모듈에서처리된기판을상기카세트에서반출하거나, 상기도포및 현상모듈에서처리된기판을상기카세트로반입하는인덱스모듈; 및제어기를포함하되, 상기로드포트, 상기도포및 현상모듈및 상기인덱스모듈은각각은, 케이싱; 상기케이싱의내측공간으로가스를공급하는팬 필터유닛; 상기내측공간의가스를배출하는배기부재; 및상기내측공간에위치되는센서를포함하고, 상기제어기는상기센서의측정값에따라상기배기부재및 상기팬 필터유닛을제어한다.

29. 发明公开

KR20180058465A 기판 가열 장치 有权
公开(公告)号：KR20180058465A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：KR20160157469
申请日：2016-11-24
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 정영헌 , 이은탁 , 서경진 , 강만규
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/02 , H01L21/324 , H01L21/683
摘要： 본발명은기판을가열처리하는장치를제공한다. 기판을가열처리하는장치는내부에처리공간을가지는하우징, 상기처리공간에서기판이지지되는지지면을가지는기판지지유닛, 그리고상기처리공간에위치되며상기지지면에지지된기판을공정온도로가열하는제1가열부재를포함하되, 상기기판지지유닛은상면에상기지지면을가지며, 상기지지면에복수의진공홀들이형성되는지지플레이트, 상기지지면에고정결합되며, 상기지지면으로부터위로돌출되어기판을지지하는지지핀, 상기지지플레이트내에위치되며, 상기진공홀들에연결되는진공배관, 그리고상기진공배관을감압하는감압부재를포함한다. 이로인해기판에워페이지가발생될지라도, 지지플레이트에기판을편평한상태로지지할수 있다.

30. 发明公开

KR20180047692A 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 有权
公开(公告)号：KR20180047692A
公开(公告)日：2018-05-10
申请号：KR20160144304
申请日：2016-11-01
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 정영헌 , 서경진 , 조수현
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/00 , G03F7/26 , H01L21/02 , H01L21/687
CPC分类号： H01L21/0274 , G03F7/0035 , G03F7/26 , H01L21/02312 , H01L21/02337 , H01L21/68764
摘要： 본발명은기판처리장치및 기판처리방법에관한것이다. 본발명의일 실시예에따른기판처리장치는기판을지지하는기판지지부재; 상기기판지지부재에지지된상기기판으로감광액을도포하는처리액공급유닛; 상기기판지지부재의둘레에위치되고, 상기기판주위의기체를배출하는배기구를가지고, 상기기판지지부재에대한상대적인높이가조절가능하게제공되는용기를포함한다.

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