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21. 发明公开

KR1020150116017A 반도체 소자의 세정 및 건조 방법 및 이를 이용하는 반도체 소자의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：半导体器件的冲压和干燥方法及使用其制造半导体器件的方法
公开(公告)号：KR1020150116017A
公开(公告)日：2015-10-15
申请号：KR1020140040043
申请日：2014-04-03
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 오정민 , 고용선 , 김광수 , 김석훈 , 문창섭 , 이근택 , 이효산 , 정지훈 , 조용진
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： H01L21/02101 , H01L21/02057 , H01L21/76224 , H01L27/10852 , H01L27/11582
摘要： 반도체소자의세정및 건조방법및 이를이용하는반도체소자의제조방법을제공한다. 세정및 건조방법은기판상에패턴을형성하고, 패턴이형성된기판을세정액을이용하여세정하며, 세정액이잔류하는패턴이형성된기판을건조챔버내에로딩하고, 패턴이형성된기판에잔류하는세정액의농도가 2중량%이하로희석되도록건조챔버로초임계상태의이산화탄소(CO)를주입하는것을포함한다.
摘要翻译：本发明提供了一种半导体器件的清洁和干燥方法，以及使用其制造半导体的方法。清洗和干燥方法在基材上形成图案，使用清洁溶液清洗具有图案的基板，将具有图案的基板用剩余的清洁溶液装载到干燥室，并将超临界状态的CO 2插入干燥将剩余的清洗液的浓度稀释至2重量％以下。

22. 发明公开

KR1020140115648A 햅틱 엔진을 이용하여 햅틱 효과를 제공하는 단말 장치 및 그 제어 방법 审中-实审
标题翻译：使用发动机提供呼吸效应的终端装置及其控制方法
公开(公告)号：KR1020140115648A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：KR1020130030459
申请日：2013-03-21
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이은화 , 박진형 , 배유동 , 정대광 , 정지훈
IPC分类号： G06F3/01 , H04B1/40
CPC分类号： G08B6/00 , A63F13/285 , A63F13/57 , A63F13/92 , G06F1/1626 , G06F3/016 , G06F1/1684 , H04M1/72522
摘要： According to an embodiment of the present invention, a method for controlling a terminal apparatus providing a haptic effect using a haptic engine comprises: a step for sensing a haptic event; a step for determining vibration pattern corresponding to the haptic event by implementing a haptic function for non-physical variable base inside a haptic engine; a step for delivering the vibration pattern from the haptic engine to a device driver; and a step for realizing the haptic effect by which the device driver operates a vibrator with the vibration pattern.
摘要翻译：根据本发明的实施例，一种用于使用触觉引擎来控制提供触觉效果的终端装置的方法包括：用于感测触觉事件的步骤; 用于通过对触觉引擎内的非物理可变基础实施触觉功能来确定与所述触觉事件相对应的振动模式的步骤; 将振动模式从触觉引擎传送到设备驱动器的步骤; 以及用于实现装置驱动器利用振动图案操作振动器的触觉效果的步骤。

23. 发明授权

KR101351581B1 다출력 전원공급장치의 출력전압 제어방법, 다출력 전원공급장치 및 그를 구비한 화상형성장치 有权
标题翻译：用于控制用于多输出的供电装置的输出波动的方法，用于多输出的电源装置，以及具有它的成像装置
公开(公告)号：KR101351581B1
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：KR1020120062357
申请日：2012-06-11
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 정지훈
IPC分类号： H02M3/28
CPC分类号： H02M3/33561 , H02M3/33507 , Y10T307/297 , Y10T307/406 , Y10T307/414 , Y10T307/422 , Y10T307/707 , Y10T307/832 , Y10T307/852
摘要： 다출력 전원공급장치가 개시된다. 이 장치는 전원 공급을 스위칭하는 제1 전원 스위치, 상기 제1 전원 스위치를 제어하는 제1 스위치 제어기, 상기 제1 전원 스위치로부터 제공되는 전원을 변압하는 변압기, 상기 변압기의 2차측에 연결되어 있는 제1 내지 제N(여기서, N은 1보다 큰 양의 정수) 출력회로들, 상기 제1 내지 제N 출력회로들 중 어느 하나의 출력 회로로부터 출력되는 전원을 스위칭하는 제2 전원 스위치, 상기 제2 전원 스위치를 제어하는 제2 스위치 제어기 및 상기 제1 내지 제N 출력 회로들 각각의 출력 전원을 피드백하는 피드백 회로를 구비하는 다출력 전원공급장치에 있어서, 상기 제2 전원 스위치와 상보적으로 스위칭 동작을 하여, 상기 피드백 회로의 저항값을 보상하는 피드백 보상회로를 구비하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 본 발명에 따르면, 다출력 회로들 중 어느 하나에 대한 출력이 차단된 경우에 다른 출력회로들로 출력되는 전원을 안정적으로 제어할 수 있도록 한다.

24. 发明授权

KR101345293B1 고출력 전원 공급장치의 원격감지회로 및 이를 구비한 고출력 전원공급장치 有权
标题翻译：高电源装置中的遥感电路，以及具有该远程感应电路的高电源装置
公开(公告)号：KR101345293B1
公开(公告)日：2013-12-27
申请号：KR1020080093373
申请日：2008-09-23
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 정지훈
IPC分类号： H02H7/10 , H02M1/00
CPC分类号： H02M1/32 , H02M3/156
摘要： 본발명에의하면, 피드백개방흠결(Feedback Open Fault) 시발생할수 있는과전압으로부터회로를보호하고, 출력전압의변동을억제하며, 출력과부하로부터회로를보호할수 있다.

25. 发明授权

KR101259010B1 전원공급장치 有权
标题翻译：电源装置
公开(公告)号：KR101259010B1
公开(公告)日：2013-04-29
申请号：KR1020070054622
申请日：2007-06-04
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 정지훈 , 권중기
IPC分类号： H02M3/28
摘要： 전원공급장치가 개시된다. 이 장치는 전원 공급을 스위칭하는 전원 스위치, 상기 전원 스위치를 제어하는 스위치 제어기, 상기 전원 스위치로부터 제공되는 전원을 변압하는 변압기, 상기 변압기의 2차측에 연결되어 있는 출력회로 및 상기 출력회로로부터 출력되는 전압을 피드백하는 피드백 회로를 구비하는 전원 공급장치에 있어서, 제어 신호에 응답하여, 상기 출력 회로로부터 출력되는 전압을 가변시키고, 가변된 출력전압을 상기 피드백 회로로 인가하는 출력전압 가변회로를 구비하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 본 발명에 따르면, 전원 공급장치의 출력회로에서 출력되는 전압을 관측 저항의 가변을 통해, 변환시킴으로써, 출력 전원을 용이하게 가변할 수 있다.

26. 发明授权

KR100992144B1 원자간력 현미경 失效
标题翻译：自动力显微镜
公开(公告)号：KR100992144B1
公开(公告)日：2010-11-10
申请号：KR1020030059909
申请日：2003-08-28
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 최희환 , 김상갑 , 김대옥 , 김중진 , 정지훈
IPC分类号： G01Q60/24 , G01Q10/00 , G01Q20/02
摘要： 본 발명은 탐침(probe)의 상하 유동에 의한 캔틸레버(cantilever)의 변형을 측정하여 시료 표면의 형상을 영상으로 획득할 수 있도록 한 원자간력 현미경에 관한 것이다.
본 발명에 따르면, 스캐너에 장착되며, 일측 단부에는 시료 표면과의 상호 작용력에 의해 상하 유동되는 탐침(probe)이 부착되어 있는 캔틸레버를 포함하는 원자간력 현미경에 있어서, 캔틸레버(cantilever)(30)는 스캐너(scanner)(20)에 복수 개 장착되어, 구동수단(40)을 통한 원스텝(one step) 회전에 의해 교체 가능하도록 한 것에 그 특징이 있다. 이에 따라, 원자간력 현미경의 사용성 및 기능성을 향상시킬 수 있을 뿐 아니라 캔틸레버의 교체에 따른 시간적 손실을 상대적으로 줄일 수 있다.

스캐너, 캔틸레버, 탐침, 구동수단, 광원, 광위치검출기

27. 发明公开

KR1020080112085A 액티브 클램프 회로를 갖는 스위칭 모드 전원공급장치 失效
标题翻译：具有主动钳位电路的开关电源设备
公开(公告)号：KR1020080112085A
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：KR1020080004440
申请日：2008-01-15
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 홍형원 , 정지훈
IPC分类号： H02M1/16
CPC分类号： H02M3/33569 , H02M2001/0032 , H02M2001/342 , Y02B70/1491 , Y02B70/16
摘要： A switching mode power supply having active clamp circuit capable of preventing voltage stress of switching device is provided to increase efficiency by minimizing power consumption in holding mode. A switching mode power supply capable of preventing voltage stress of switching device comprises a transformer(T), a master switch(Qi), an active clamp circuit(10), and a control circuit(40). The transformer includes a first side coil(L1) and a second side coil(L2) connected to an output circuit. The master switch controls a power source supplied in the first side coil of the transformer. The active clamp circuit suppresses a voltage stress of the master switch. The control circuit disables a clamping action of the active clamp circuit in a holding mode of the switching mode power supply.
摘要翻译：提供具有能够防止开关装置的电压应力的有源钳位电路的开关模式电源，以通过最小化保持模式下的功率消耗来提高效率。能够防止开关装置的电压应力的开关电源包括变压器（T），主开关（Qi），有源钳位电路（10）和控制电路（40）。变压器包括连接到输出电路的第一侧线圈（L1）和第二侧线圈（L2）。主开关控制变压器的第一侧线圈中提供的电源。有源钳位电路抑制主开关的电压应力。控制电路在开关模式电源的保持模式下禁止有源钳位电路的钳位动作。

28. 发明公开

KR1020080022921A 기판처리장치와 기판처리방법 无效
标题翻译：用于处理基板和处理基板的方法的装置
公开(公告)号：KR1020080022921A
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：KR1020060086748
申请日：2006-09-08
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 황태형 , 전형일 , 정지훈
IPC分类号： G02F1/13
CPC分类号： G02F1/1303 , G02F1/133784 , G02F2001/133302
摘要： An apparatus and a method for processing a substrate are provided to minimize a break defect of a sodalime glass substrate when processing the substrate. In a substrate processing apparatus for processing a substrate for a display device including a sodalime glass substrate(500), the apparatus comprises a mount unit(30) where the substrate for the display device is mounted. The mount unit comprises a main body unit(31) and a dielectric layer(32). The dielectric layer is formed on the surface of the main body unit where the substrate for the display device is mounted. The thickness of the dielectric layer is 60mum or thicker.
摘要翻译：提供了一种用于处理衬底的设备和方法，以在处理衬底时最小化钠钙玻璃衬底的断裂缺陷。在用于处理包含钠金属玻璃基板（500）的显示装置的基板的基板处理装置中，该装置包括安装显示装置用基板的安装部（30）。安装单元包括主体单元（31）和介电层（32）。电介质层形成在主体单元的安装显示装置用基板的表面上。电介质层的厚度为60μm或更厚。

29. 发明授权

KR102155175B1 실링 부재 및 이를 갖는 기판 처리 시스템 有权
公开(公告)号：KR102155175B1
公开(公告)日：2020-09-11
申请号：KR1020130161314
申请日：2013-12-23
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 전용명 , 고용선 , 이근택 , 이일상 , 정지훈 , 조용진 , 홍진석
IPC分类号： F16J15/06 , F16J15/32

30. 发明授权

KR102153745B1 세정액 조성물 및 이를 이용한 반도체 소자의 세정 방법 有权
公开(公告)号：KR102153745B1
公开(公告)日：2020-09-09
申请号：KR1020140045382
申请日：2014-04-16
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 배상원 , 고용선 , 김석훈 , 김인기 , 오정민 , 이근택 , 이효산 , 정지훈 , 조용진
IPC分类号： C11D7/02 , C11D7/50 , H01L21/306

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