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    • 21. 发明公开
    • 기판 처리 장치
    • 基板处理装置和混合气体喷嘴
    • KR1020160150369A
    • 2016-12-30
    • KR1020150088251
    • 2015-06-22
    • 주식회사 케이씨
    • 윤철남
    • H01L21/02H01L21/67
    • 본발명은기판처리장치및 이에사용되는혼합노즐에관한것으로, 기체의유동방향을따라단면이점진적으로감소하는단면감소영역과, 상기단면감소영역으로부터토출구까지연장된배출영역으로이루어진기체공급통로와; 상기기체공급통로와제1위치에서연통되어드라이아이스를공급하는분기통로를; 포함하여구성되어, 상기단면감소영역에서가속된기체유동이고체상태의드라이아이스와함께상기토출구를통해배출됨으로써, 기판의표면을손상시키지않으면서표면의경계층아래에낮게고착된이물질을효과적으로제거할수 있는기판처리장치및 이에사용되는혼합노즐을제공한다.
    • 本实用新型涉及一种基板加工装置,用于其混合喷嘴,提供基板加工装置,并用于其混合喷嘴,其包括:供气的气体通道,其排放区域为 包括横截面减小,横截面沿着气流方向减小区域,横截面逐渐减小,排放区域依次为横截面减小区域并延伸到排放口,叉通道( 分开的通道),其与提供通信(连接)的气体通道和供应干冰的主要重要性,从而交叉的干冰减少区域加速的气体流动,固态通过排出口可以共同通过 从此排出,在不损坏基板的表面上,可以有效地摆脱边界下地面的异物l ayer在表面以下。
    • 22. 发明公开
    • 화학 기계적 연마 공정이 행해진 웨이퍼의 처리 장치
    • 用化学机械抛光工艺抛光的抛光处理装置
    • KR1020160071707A
    • 2016-06-22
    • KR1020140179207
    • 2014-12-12
    • 주식회사 케이씨
    • 윤철남
    • H01L21/304
    • H01L21/304H01L21/3043H01L21/3046
    • 본발명은웨이퍼처리장치에관한것으로, 웨이퍼를거치한상태로회전가능하게설치되고, 상기웨이퍼의하측에반경방향성분을갖는방향으로뻗은고정바가구비되며, 상기고정바에는연직방향에대하여경사지게하방돌출된유동형성부가구비되어회전에따라하방으로의유동을발생시키는웨이퍼거치대를포함하여구성되어, 웨이퍼를거치하여지지한상태로스핀회전하는웨이퍼거치대의고정바에연직방향으로경사지게하방돌출된유동형성부에의하여하방으로의공기유동을형성함으로써, 웨이퍼거치대에거치된웨이퍼가회전하면서세정, 헹굼, 건조등의처리공정을행하는동안에, 웨이퍼의표면을타격한세정액, 헹굼액이나공기유동이웨이퍼상측에서부유하지않고웨이퍼하측으로빨려배출되게함으로써, 웨이퍼의 2차오염을방지하고건조효율및 세정효율을향상시키는웨이퍼처리장치를제공한다.
    • 本发明涉及一种用于处理晶片的设备。 用于处理晶片的装置包括晶片支架部分。 晶片托架部分可旋转地安装在晶片安置在其上。 提供固定杆以在晶片的下侧沿具有半径方向分量的方向延伸。 固定杆具有向下突出以相对于垂直于固定杆的方向倾斜的流动形成部分,以根据固定杆的旋转向下流动。 流动形成部分向下形成空气流,向下突出,相对于晶片托架部分的固定杆的垂直方向倾斜,同时晶片就位和支撑。 在执行晶片驻留在晶片支架部分上的晶片的处理过程如洗涤,清洁和干燥的同时,可以将吹扫晶片表面的清洁溶液,清洁溶液或空气流吸入到 不会浮在晶片的上侧而被排出的晶片,从而防止晶片二次污染,提高干燥效率和清洗效率。
    • 23. 发明授权
    • 반도체 웨이퍼 재생장치
    • 半导体晶圆返修装置
    • KR100876918B1
    • 2009-01-09
    • KR1020070035914
    • 2007-04-12
    • 주식회사 케이씨
    • 박종수윤철남김세호이동성
    • H01L21/68H01L21/02
    • 본 발명은 반도체 웨이퍼 재생장치에 관한 것으로, 재생할 웨이퍼를 로딩하는 로딩수단과, 그 로딩수단에 의해 로딩된 웨이퍼를 이송하며, 그 이송되는 웨이퍼를 재생처리하는 처리수단과, 상기 처리부에서 처리된 웨이퍼를 언로딩하는 언로딩수단을 포함하는 반도체 웨이퍼 재생장치에 있어서, 상기 로딩수단은 재생할 웨이퍼를 상기 처리수단으로 로딩하되, 그 웨이퍼의 크기를 검출하는 센서를 더 포함하고, 상기 처리수단은 상기 로딩된 웨이퍼를 이송함과 아울러 상기 로딩수단의 센서에서 검출된 상기 웨이퍼의 크기 범위 내에서 미디어 분사노즐을 수평왕복 이동시켜 웨이퍼를 재생하도록 구성된다. 이와 같은 구성의 본 발명은 웨이퍼의 크기를 감지하여 그 웨이퍼의 크기에 따라 노즐의 이동폭을 조절함으로써, 웨이퍼 이외의 영역에 재생 미디어가 분사되는 것을 최소화하여 메쉬망 컨베이어의 수명 단축을 방지함과 아울러 미디어의 낭비를 방지할 수 있는 효과가 있다.
    • 24. 发明授权
    • 고체 분사노즐 및 대용량 고체 분사노즐
    • 注射喷嘴和固体颗粒的固体颗粒注入高容量喷嘴
    • KR100756640B1
    • 2007-09-07
    • KR1020060064529
    • 2006-07-10
    • 주식회사 케이씨
    • 박종수윤철남김세호
    • H01L21/3065H01L21/304
    • B05B1/044H01L21/67028
    • A solid injecting nozzle and a high-capacity solid particle injecting nozzle are provided to prevent dew condensation by inserting a micro tube in a supply unit. A micro tube(110) has a first passage(111), through which a carbon dioxide gas flows. The micro tube phase-changes the carbon dioxide gas introduced through the first passage to discharge solid particles. A supply unit(120) has a second passage(121) receiving the micro tube, in which the micro tube is spaced apart from the second passage. A carrier gas flows in a gap between the micro tube and the second passage. A nozzle body(130) is communicated with the supply unit to mix the solid particles with the carrier gas.
    • 提供固体注射喷嘴和高容量固体颗粒注入喷嘴以通过将微管插入供应单元来防止结露。 微管(110)具有第一通道(111),二氧化碳气体通过该第一通道流动。 微管相转变通过第一通道引入的二氧化碳气体以排出固体颗粒。 供应单元(120)具有容纳微管的第二通道(121),微管与第二通道间隔开。 载气在微管和第二通道之间的间隙中流动。 喷嘴体(130)与供给单元连通以将固体颗粒与载体气体混合。
    • 25. 发明授权
    • 분사 노즐 및 이를 이용한 세정 시스템
    • 注射喷嘴和清洁站使用它
    • KR100740827B1
    • 2007-07-19
    • KR1020040118311
    • 2004-12-31
    • 주식회사 케이씨
    • 윤철남김세호
    • H01L21/304
    • 본 발명은, 각종 FPD 기판의 세정 장치, 정밀 부품 세정, 반도체 제조 장치에도, 승화형 고체 미립자를 이용한 건식 세정의 효과를 향유할 수 있게 하는 분사 노즐 및 이를 이용한 세정 시스템에 관한 것이다.
      이를 위해, 본 발명은, 본 발명에 따른 분사 노즐은 세정매체 이송관으로부터 세정매체가 유입되는 세정매체 유입구와, 캐리어 이송관으로부터 캐리어 가스가 유입되는 캐리어 유입구와, 상기 세정매체 유입구를 통해 유입된 세정매체가 이동하는 세정매체 통로와, 상기 세정매체 통로를 감싸며 상기 캐리어 유입구를 통해 유입된 캐리어 가스가 이동하는 캐리어 통로와, 상기 세정매체 통로에서 토출된 세정매체와 캐리어 통로 상의 캐리어 가스가 혼합되어 형성된 세정매체 고화물이 세정 대상물의 표면을 향해 분사되는 출구단을 포함하는 것을 특징으로 하는 분사 노즐 및 이를 이용한 세정 시스템을 제공한다.
      FPD, 건식 세정, 습식 세정
    • 26. 发明授权
    • 표면세정용 승화성 고체입자 분사용 노즐 및 이를 이용한세정방법
    • 注入用于清洁表面的气体中浸泡的可升华固体颗粒的喷嘴和使用喷嘴清洁表面的方法
    • KR100725242B1
    • 2007-06-04
    • KR1020040114260
    • 2004-12-28
    • 주식회사 케이씨
    • 윤철남
    • H01L21/304
    • B24C5/04B24C1/003
    • 본 발명은 노즐 및 피세정물의 표면에서 극저온의 스노우에 의해 성에가 발생되는 것을 방지할 수 있는 승화성 고체입자 분사용 노즐에 관한 것으로, 세정매체 공급원으로부터 유입되는 세정매체를 승화성 고체입자를 포함하는 스노우 상태로 상변화시키는 세정매체 블록; 상기 세정매체 블록으로부터 유입되는 세정매체 스노우를 단열팽창에 의해 성장시켜 피세정물의 표면으로 분사하는 노즐 블록; 캐리어가스 공급원으로부터 유입되는 캐리어가스를 상기 노즐 블록에 공급하여 상기 세정매체 스노우와 혼합하는 캐리어가스 블록; 및 캐리어가스 공급원으로부터 공급되는 캐리어가스의 적어도 일부를 가열하는 히터를 포함하는 구성이다. 또한, 본 발명은 장비 구성시 노즐까지 공급되어지는 라인 즉, CO
      2 저장탱크에서 솔레노이드밸브를 거쳐 유량조절밸브의 감압을 통해 생성되어지는 드라이아이스 미립자와 일부 액체 CO
      2 가 분사 노즐에 유입된 후 캐리어가스인 N
      2 또는 정화된 공기와 혼합되어 분사되어지는 구조를 이룬다. 본 발명은 솔레노이드밸브의 설치를 통해 CO
      2 의 공급을 자동으로 제어할 수 있고, 아울러 캐리어가스 블록 또는 노즐 블록의 출구측 단부에 열전대 센서를 추가로 장착함으로써 자동화 장비 구성시 노즐에서 드라이아이스의 분사 유무를 확인할 수 있게 된다.
      세정, 노즐, 벤튜리, 단열팽창, 승화, 고체 입자, CO2, 스노우, 캐리어
    • 27. 发明授权
    • 기판수납용기용 건식세정장치
    • 基材储存容器的干洗机
    • KR100710685B1
    • 2007-04-23
    • KR1020050133741
    • 2005-12-29
    • 주식회사 케이씨
    • 윤철남박종수김세호
    • H01L21/304H01L21/02
    • 본 발명은 기판수납용기용 건식세정장치에 관한 것으로, 기판수납용기를 투입이송하는 로딩부와, 상기 기판수납용기를 드라이아이스입자로 세정하는 세정부와, 상기 세정부에서 세정완료된 상기 기판수납용기를 반출이송하는 언로딩부를 포함한다. 본 발명에 의하면, 드라이아이스입자를 사용하여 기판수납용기를 세정하므로 배출되는 폐기물이 없어 친환경적이라는 효과가 있다. 또한 본 발명은, 드라이아이스입자를 사용하므로 미세세정이 가능하고 기판수납용기의 변형이나 파손을 최소화하여 그 사용수명을 연장시키는 효과가 있다. 또한 본 발명은, 종래 습식세정장치에 비해 세정공정이 간소하게 진행되므로 기기의 크기도 현저하게 소형화가능하므로 경제적이라는 효과가 있다.
      기판수납용기, 본체, 덮개, 세정, 드라이아이스
    • 本发明中,与所述装载部分到输入输送晶片容器中,晶片容器箱完成了清洁部和用于清洁基板收纳容器的干式清洁设备的干冰粒子为的基板收纳容器的清洗部清洗 还有一个用于卸货的卸货单元。 根据本发明,由于使用干冰粒子的清洁基板收纳容器不被排出废物具有的效果是环境友好的。 在另一个方面,本发明中,使用干冰粒子的,所以精细净化的效果是可能的,并且以最小化变形或基板收纳容器的损坏延长其使用寿命。 另外,由于与常规湿式洗涤器相比,清洁过程简化,所以装置的尺寸可以显着减小,这是经济的。
    • 28. 实用新型
    • 에어로졸을 이용한 리드프레임 세정장치
    • 使用气溶胶的铅框架清洁装置
    • KR200317728Y1
    • 2003-06-25
    • KR2020030007349
    • 2003-03-12
    • 주식회사 케이씨
    • 윤철남황귀진
    • H01L23/50
    • 본 고안은 CO
      2 등의 승화성 미립자의 에어로졸을 이용하여 리드프레임을 세정하는 장치에 관한 것이다. 본 고안에 따른 에어로졸을 이용한 세정 장치는, 세정 대상물이 탑재되는 기판과, 기판의 이동을 안내하는 가이드와, 가이드를 따라 기판을 이동시키는 구동부를 가지며 프레임 상에 설치되는 이송유닛; 프레임 상에 상기 이송유닛의 일측 상부를 가로질러 설치되며 세정될 세정 대상물을 이송 유닛의 기판으로 로드하고 세정이 완료된 세정 대상물을 이송유닛의 기판으로부터 언로드하는 로더/언로더 유닛; 프레임의 가이드의 일측부 근처에 설치되고, 로더/언로더 유닛에 의해 기판으로 로드되는 세정 대상물 및 기판으로부터 언로드되는 세정 대상물을 적재하기 위한 카세트 유닛; 프레임 상에 이송유닛의 타측 상부를 가로질러 설치되며, 이송유닛의 타측부로 이송된 기판 상의 세정 대상물로 에어로졸을 분사하기 위한 노즐을 가지는 세정유닛; 및 프레임, 이송유닛, 로더/언로더 유닛, 카세트 유닛, 및 세정유닛을 외부와 격리되도록 수용하며 카세트 유닛을 투입 및 배출하기 위한 도어를 가지는 하우징을 포함한다.
    • 29. 发明授权
    • 표면 세정용 에어로졸 생성 시스템
    • 표면세정용에어로졸생성시스템
    • KR100385432B1
    • 2003-05-27
    • KR1020000054910
    • 2000-09-19
    • 주식회사 케이씨
    • 김세호윤철남
    • H01L21/304
    • B08B7/0092B01F3/0092B01F3/022B01F2003/0057B24C1/003F25B1/00F25B7/00F25B2309/06
    • The present invention relates a cooling device of the reverse Carnot cycle-type using a refrigerant, and an aerosol generation system including it. The cooling device includes a refrigerator of the reverse Carnot cycle-type, a cleaning medium conduit, a temperature sensor, and a heater. The intermediate portion of the cleaning medium conduit and the evaporator are wound like a coil in the same configuration so as to maximize the contacting area therebetween. The temperature sensor measures the temperature of the carbon dioxide discharged from the cooling device, and the heater is arranged to contact the evaporator of the refrigerator and the intermediate portion of the cleaning medium conduit so as to precisely adjust the liquefying rate of the carbon dioxide according to the temperature measured by the temperature sensor. The carbon dioxide is refrigerated at a temperature in the range of -80° C. to -100° C. through the cooling device, transformed into liquid phase.
    • 本发明涉及一种使用制冷剂的逆卡诺循环型冷却装置以及包括它的气雾剂生成系统。 该冷却装置包括逆卡诺循环式制冷机,清洁介质导管,温度传感器和加热器。 清洁介质导管和蒸发器的中间部分以相同构造的线圈缠绕,以使它们之间的接触面积最大化。 温度传感器测量从冷却装置排出的二氧化碳的温度,并且加热器布置成接触冰箱的蒸发器和清洁介质导管的中间部分,从而精确地调节二氧化碳的液化速率 到由温度传感器测量的温度。 二氧化碳在-80℃的温度下冷藏; C.至-100℃; C.通过冷却装置,转化为液相。
    • 30. 发明授权
    • 표면 세정용 에어로졸 생성 시스템
    • 표면세정용에어로졸생성시스템
    • KR100385431B1
    • 2003-05-27
    • KR1020000054909
    • 2000-09-19
    • 주식회사 케이씨
    • 윤철남김세호
    • H01L21/304
    • PURPOSE: A system for generating surface cleaning aerosol is provided to prevent a venturi nozzle from being stopped up and to eliminate fine contaminant of a sub micron size, by using an atomized high-purity solid-type material. CONSTITUTION: A cleaning medium supplying source(10) supplies a gas-type cleaning medium. A carrier supplying source(20) supplies a carrier capable of being mixed with the gas-type cleaning medium and transferring the gas-type cleaning medium. Cryogenic liquefied nitrogen is stored in a low-temperature storage receptacle(32). A cooling pipe(38) induces the carrier exhausted from the carrier supplying source so that the carrier passes through the low-temperature storage receptacle. A heater(37) irradiates heat to the cooling pipe to make the carrier of the cooling pipe not over-cooled. A heat exchanger(30) includes the low-temperature storage receptacle, the cooling pipe and the heater. A mixer(40) uniformly mixes the carrier exhausted from the heat exchanger with the gas-type cleaning medium exhausted form the cleaning medium supplying source. The venturi nozzle(60) adiabatically expands the cleaning medium exhausted from the mixer at a low pressure, and generate aerosol of high speed and high pressure. A moisture coagulation preventing unit prevents moisture from being coagulated on the outer surface of the venturi nozzle.
    • 目的:提供一种产生表面清洁气溶胶的系统,通过使用雾化的高纯度固体材料,防止文丘里喷嘴堵塞并消除亚微米尺寸的细微污染物。 构成:清洁介质供应源(10)供应气体型清洁介质。 载体供应源(20)供应能够与气体型清洁介质混合并且转移气体型清洁介质的载体。 低温液化氮储存在低温储存容器(32)中。 冷却管(38)引导从载体供应源排出的载体,使得载体穿过低温存储容器。 加热器(37)向冷却管照射热量以使冷却管的载体不过冷。 热交换器(30)包括低温储存容器,冷却管和加热器。 混合器(40)将从热交换器排出的载体与从清洁介质供应源排出的气体型清洁介质均匀混合。 文丘里喷嘴(60)在低压下绝热地膨胀从混合器排出的清洁介质,并产生高速和高压的气溶胶。 湿气凝结防止单元防止湿气在文丘里喷嘴的外表面上凝结。