会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 11. 发明授权
    • 가돌리늄제 스퍼터링 타깃 및 동 타깃의 제조 방법
    • 钆溅射靶和铜靶的制造方法
    • KR101445945B1
    • 2014-09-29
    • KR1020127014281
    • 2010-12-21
    • 제이엑스금속주식회사
    • 츠카모토시로
    • C23C14/34B23K20/00
    • C23C14/3414B23K20/021
    • 가돌리늄 타깃과 티탄제 백킹 플레이트의 조립체로서, 가돌리늄 타깃과 티탄제 백킹 플레이트의 접합 계면에, 고상 확산 접합 계면을 갖는 것을 특징으로 하는 가돌리늄 타깃과 티탄제 백킹 플레이트 조립체. 가돌리늄제 스퍼터링 타깃에 적합한 백킹 플레이트를 알아냄과 함께, 최적인 접합 조건을 탐색하고, 성막 속도를 향상시킴과 함께 스퍼터링을 안정시키고, 타깃재와 백킹 플레이트의 접합 강도를 증가시켜 타깃재와 백킹 플레이트의 휨의 발생이나 박리를 방지하여, 스퍼터링시의 파티클의 발생을 억제하는 것을 과제로 한다.
    • 钆钛靶和垫板,钆钛靶的第二组件并接合在界面处,固相扩散接合钛靶和钆背衬板组装体,其特征在于它具有背板的接口。 与适合于钆的间隙出来的背板第二溅射靶,以获得最佳粘结条件搜索并稳定溅射与提高沉积速率,靶材料,并提高背衬板的靶材料和背板之间的接合强度 并且溅射过程中的颗粒产生受到抑制。