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11. 发明公开

KR1020160031300A 샘플 홀더 无效
标题翻译：样品夹
公开(公告)号：KR1020160031300A
公开(公告)日：2016-03-22
申请号：KR1020140121196
申请日：2014-09-12
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 김상우 , 나수민 , 김소영
IPC分类号： G01N1/36 , G01N23/223
CPC分类号： G01N1/36 , G01N23/223
摘要： 본발명은샘플홀더에관한것으로, 본발명이일 측면에따르면, 내부에배치되는시료의측정면의일부영역을외부로노출시키기위한개구부를가지는본체; 시료의측정면과반대방향의면을접촉지지하도록본체내부에위치하는지지부재; 및지지부재를본체에고정시키기위하여, 본체내부에서외부를향하는방향으로삽입되는하나이상의체결부재를포함하는샘플홀더가제공된다.
摘要翻译：本发明涉及一种样品架。根据本发明的一个方面，提供了一种样品架，包括：主体，其具有用于暴露内部至外部的样品的测量表面的一些区域的开口; 支撑构件，其位于所述主体内部以接触并支撑与所述样本测量表面相对的表面; 以及一个或多个联接构件从身体的内部朝向外部插入。本发明的主题提供了将用于XRF成分分析的样品固定为平坦的样品架。

12. 发明公开

KR1020150037373A 감광성 수지 조성물 无效
标题翻译：感光树脂组合物
公开(公告)号：KR1020150037373A
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：KR1020130116901
申请日：2013-09-30
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 김상우 , 남규현 , 김경준
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/023 , G03F7/027 , G03F7/037 , G02F1/1335
CPC分类号： G03F7/0046 , G02F1/133512 , G03F7/023 , G03F7/027 , G03F7/037 , Y10S430/1055
摘要： 본발명은높은소수성과내화학성을가져경화후 극성용매또는스트리퍼에의한손실을방지할수 있고, 또한에칭액에의한경화수지막의손상우려가없어, 액정표시소자의블랙매트릭스또는유기발광소자의뱅크(bank) 등잉크젯공정에의한수지막형성에특히유용한감광성수지조성물에관한것으로, 상기감광성수지조성물은폴리이미드및 하기화학식 1의광활성화합물을포함한다. [화학식 1]상기화학식 1에서, A, X, X, m 및 n은명세서중에서정의한바와같다.
摘要翻译：本发明涉及一种感光性树脂组合物，其可以通过具有高疏水性和耐化学性而防止由固化后的极性溶剂或剥离剂引起的损失，并且可用于通过喷墨法形成树脂膜，例如黑色矩阵液晶显示装置或有机发光装置组，因为不用担心由蚀刻溶液引起的固化树脂膜的损坏。光敏树脂组合物包含聚酰亚胺和由化学式1表示的光敏化合物。在化学式1中，A，Xa，Xb和n与说明书中所定义相同。

13. 发明授权

KR101363203B1 전자소자용 절연재 有权
标题翻译：电子设备绝缘材料
公开(公告)号：KR101363203B1
公开(公告)日：2014-02-13
申请号：KR1020130003202
申请日：2013-01-11
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 김상우 , 임미라 , 김경준 , 박찬효 , 남규현
IPC分类号： H01B3/38 , C08G73/10 , C08L79/08
CPC分类号： H01B3/306 , C08G73/10 , C08L79/08 , H01B3/305
摘要： 본 발명은
절연재의 고온 경화 공정에 따른 전자소자의 손상을 억제할 수 있으면서도, 전자소자의 신뢰성 향상에 기여할 수 있는 전자소자용 절연재에 관한 것이다. 이러한 전자소자용 절연재는 소정의 반복 단위를 포함한 가용성 폴리이미드 수지와, 비점이 130 내지 180℃인 저비점 용매를 포함한 잔류 용매를 포함하고, 250℃ 이하의 온도에서 경화한 후에, 아웃개싱의 발생량이 가용성 폴리이미드 수지 총 중량에 대해 4ppm 이하이고, 물 또는 알코올에서 유래한 아웃개싱 발생량이 0.1ppm 미만인 것이다.

14. 发明公开

KR1020130134897A 잉크젯용 잉크 조성물, 이를 이용한 식각 마스크, 절연막 및 그 제조방법 有权
标题翻译：用于其中形成的墨水印刷，电介质和蚀刻掩模的墨水组合物及其制造电介质和蚀刻掩模的方法
公开(公告)号：KR1020130134897A
公开(公告)日：2013-12-10
申请号：KR1020120058767
申请日：2012-05-31
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 구용성 , 유민아 , 김상우
IPC分类号： C09D11/00 , C09D11/10 , H01L21/31 , H01L21/312
CPC分类号： C09D11/30 , B41M1/28 , H01L21/31 , H01L31/02167
摘要： The present invention relates to an ink composition for ink-jet printing and, more specifically, to an ink composition for ink-jet printing, an etching mask using the same, a dielectric film, and a manufacturing method thereof, wherein the ink composition includes a) 15-50 parts by weight of of polyimide, b) 0.01-2 parts by weight of a surfactant, and c) 48-85 parts by weight of a solvent.
摘要翻译：本发明涉及一种用于喷墨印刷的油墨组合物，更具体地，涉及用于喷墨印刷的油墨组合物，使用该油墨组合物的蚀刻掩模，电介质膜及其制造方法，其中所述油墨组合物包括 a）15-50重量份的聚酰亚胺，b）0.01-2重量份的表面活性剂，和c）48-85重量份的溶剂。

15. 发明授权

KR101249686B1 폴리이미드 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：聚酰亚胺和光催化剂树脂组合物
公开(公告)号：KR101249686B1
公开(公告)日：2013-04-05
申请号：KR1020100068404
申请日：2010-07-15
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 김상우 , 박찬효 , 김경준 , 성혜란 , 신세진 , 정혜원 , 조정호
IPC分类号： C08G73/10 , C08L79/08 , G03F7/004 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0233 , C08G73/1042 , C08L61/04 , C08L79/08 , C08L2205/02 , G03F7/0048 , C08L2666/14
摘要： 본 발명은 반도체의 Buffer coating에 적용되는 것으로서 폴리이미드 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.
상기 폴리이미드는 하기 화학식 1로 표시되는 폴리이미드 중합체이다. 또한, 본 발명은 1) BDA 계열의 70% 이상의 i-선 투과도를 가지는 가용성 폴리이미드; 2) 신장률이 40% 이상인 폴리아믹산; 3) 노볼락 수지 및 4) 다이아조나프토퀴논계 감광성 물질을 포함하며, 반도체의 Buffer coating의 요구 특성인 고해상도, 고감도, 우수한 필름 특성 및 기계적 물성을 가지는 감광성 수지 조성물을 제공한다.

화학식 1

16. 发明授权

KR101202012B1 감광성 폴리이미드 수지 조성물 有权
标题翻译：光敏聚酰亚胺树脂组合物
公开(公告)号：KR101202012B1
公开(公告)日：2012-11-20
申请号：KR1020090121161
申请日：2009-12-08
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 조정호 , 신세진 , 정혜원 , 김경준 , 성혜란 , 박찬효 , 김상우
IPC分类号： G03F7/004
摘要： 본 발명은 감광성 수지로 작용 가능한 폴리이미드 수지에 2개 이상의 에폭시(epoxy) 작용기를 갖는 경화제를 도입함으로써 낮은 경화 온도에서도 우수한 감광 특성을 나타낼 뿐만 아니라, 뛰어난 화학적 내성, 기판 밀착성을 나타내며 고온에서도 패턴의 열적 변성이 없는 포지티브형 감광성 조성물을 제공한다.
상기 2개 이상의 에폭시 작용기를 가지는 경화제는 노볼락형, 비스페놀계, 시클로 알리파틱계 또는 글리시딜아민계 에폭시 수지로서 분자량이 10,000 이하인 것이다.
폴리이미드, 경화제, 감광성 수지 조성물, 가교, 열경화, 에폭시

17. 发明公开

KR1020120009899A 폴리이미드 공중합체 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：聚酰亚胺共聚物和包含其的感光性树脂组合物
公开(公告)号：KR1020120009899A
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：KR1020100070941
申请日：2010-07-22
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 조정호 , 신세진 , 정혜원 , 김상우 , 김경준 , 박찬효
IPC分类号： C08G73/10 , C08G75/30 , C08L79/08 , G03F7/037
CPC分类号： C08G73/10 , C08G75/02 , C08G75/30 , C08L79/08 , G03F7/037
摘要： PURPOSE: A polyimide copolymer is provided to have high adhesion with a metal substrate, excellent heat resistance, drug resistance, etc, in case of using for a photosensitive resin composition. CONSTITUTION: A polyimide copolymer comprises a repeating unit in chemical formula 1, and a functional group in the end, which includes thiol group. In chemical formula 1, X is an organic tetravalent group, Y is a divalent organic group having acidic functional group. The polyimide copolymer has the average molecular weight of 1,000 - 500,000. A photosensitive resin composition comprises a poly imide resin including the poly imide copolymer, a photosensitizer, a hardener comprising two or more epoxy functional groups, and an organic solvent.
摘要翻译：目的：在使用感光性树脂组合物的情况下，提供聚酰亚胺共聚物以具有与金属基材的高粘合性，优异的耐热性，耐药性等。构成：聚酰亚胺共聚物包含化学式1中的重复单元和末端的官能团，其包括硫醇基。在化学式1中，X是有机四价基团，Y是具有酸性官能团的二价有机基团。聚酰亚胺共聚物的平均分子量为1,000〜500,000。感光性树脂组合物包含包含聚酰亚胺共聚物的聚酰亚胺树脂，光敏剂，包含两个或更多个环氧官能团的固化剂和有机溶剂。

18. 发明公开

KR1020110007468A 폴리이미드형 경화제 및 그를 포함하는 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：聚酰胺型硬质合金和含有硬度的光敏树脂组合物
公开(公告)号：KR1020110007468A
公开(公告)日：2011-01-24
申请号：KR1020090065013
申请日：2009-07-16
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 신세진 , 성혜란 , 박찬효 , 오동현 , 김상우 , 김경준
IPC分类号： C08G73/10 , C08L79/08 , G03F7/004
CPC分类号： C08G73/10 , C08L79/08 , G03F7/004 , G03F7/0045
摘要： PURPOSE: A photosensitive resin composition is provided to ensure excellent high thermal resistance, moisture absorption resistance, film characteristic and mechanical property by complimenting mechanical properties. CONSTITUTION: A polyimide type hardener is represented by chemical formula 1. A photosensitive resin composition includes polyimide, photosensitive acid generator and the polyimide type hardener. In the hotosensitive resin composition, the polyimide and photosensitive acid generator are included in the amount of 10~80 wt% and 5~40 wt%. A molar ratio of a isocyanate group within the polyimide type hardener to hydroxyl groups within the polyimide is 10~100 %.
摘要翻译：目的：提供感光性树脂组合物，以通过机械性能的提高来确保优异的高耐热性，耐吸湿性，膜特性和机械性能。构成：聚酰亚胺型固化剂由化学式1表示。感光性树脂组合物包括聚酰亚胺，光敏酸发生剂和聚酰亚胺型硬化剂。在感光树脂组合物中，聚酰亚胺和光敏酸产生剂的含量为10〜80重量％，5〜40重量％。聚酰亚胺型固化剂中的异氰酸酯基与聚酰亚胺内的羟基的摩尔比为10〜100％。

19. 发明公开

KR1020100102058A 폴리이미드계 중합체와 이들의 공중합체 혼합물 및 이들을 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：基于聚酰亚胺的聚合物及其共聚物，以及包含它们的正型类型的光电组合物
公开(公告)号：KR1020100102058A
公开(公告)日：2010-09-20
申请号：KR1020100020703
申请日：2010-03-09
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 김상우 , 박찬효 , 김경준 , 성혜란 , 신세진 , 오동현
IPC分类号： C08G73/10 , C08L79/08 , G03F7/037
摘要： PURPOSE: A polyimide-based polymer, a copolymer thereof, and a positive type photoresist resin composition including thereof are provided to secure the proper solubility for an alkaline developing solution, and to secure the high definition of a photosensitive resin composition. CONSTITUTION: A photosensitive polyimide-based polymer is a compound selected from the group consisting of compounds marked with chemical formula 1~3. In the chemical formulas, Z is a tetravalent organic group forming tetracarboxylic acid and its derivative, including 1~100mole% of 3,4-dicarboxy-1,2,3,4-tetrahydro-6-tertiary-butyl-1-naphthalene succinic dianhydride. Y2 is either a divalence aliphatic group or an aromatic organo group.
摘要翻译：目的：提供一种聚酰亚胺系聚合物及其共聚物及其正极型光致抗蚀剂树脂组合物，以确保对碱性显影液的适度溶解性，确保感光性树脂组合物的高分辨率。构成：感光性聚酰亚胺系聚合物为选自化学式1〜3所示的化合物的化合物。在化学式中，Z是形成四羧酸的四价有机基团及其衍生物，包括1〜100摩尔％的3,4-二羧基-1,2,3,4-四氢-6-叔丁基-1-萘琥珀酸二酐。 Y2是二价脂族基团或芳族有机基团。

20. 发明授权

KR102134945B1 탄소 나노튜브 내 Si 함량의 분석방법 有权
公开(公告)号：KR102134945B1
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：KR1020170079446
申请日：2017-06-23
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 김미경 , 김상우 , 김현주 , 정민환 , 황라영
IPC分类号： G01N21/25 , G01N1/38 , G01N1/40

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