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    • 18. 发明授权
    • 히드리도실란의 제조 방법
    • 氢化硅烷的制备方法
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    • C01B33/107C01B33/04
    • C01B33/04C01B33/043C01B33/10773Y10T428/31663
    • 본발명은 a) i) 화학식 SiX(여기서, n≥3이고, X = F, Cl, Br 및/또는 I임)의 1종이상의할로실란과 ii) 화학식 NRR'R''Y의 1종이상의촉매 (여기서, a = 0 또는 1, b = 0 또는 1, c = 0 또는 1이고, [화학식 I]또는이고, 여기서, aa) R, R' 및/또는 R''은 -C-C-알킬, -C-C-아릴, -C-C-아르알킬, -C-C-아미노알킬, -C-C-아미노아릴, -C-C-아미노아르알킬이고/이거나, 2 또는 3개의 R, R' 및 R''기 (c = 0인경우)는함께 N을포함하는시클릭또는비시클릭, 헤테로지방족또는헤테로방향족계를형성하며, 단적어도하나의 R, R' 또는 R''기는 -CH이아니고/거나, bb) R 및 R' 및/또는 R'' (c = 1인경우)은 -C-C-알킬렌, -C-C-아릴렌, -C-C-아르알킬렌, -C-C-헤테로알킬렌, -C-C-헤테로아릴렌, -C-C-헤테로아르알킬렌및/또는 -N=이거나, cc) (a = b = c = 0인경우) R = ≡C-R''' (여기서, R''' = -C-C-알킬, -C-C-아릴및/또는 -C-C-아르알킬임)임)를반응시키는한편, 화학식 SiX(여기서, m > n이고, X = F, Cl, Br 및/또는 I임) 및 SiX(여기서, X = F, Cl, Br 및/또는 I임)의 1종이상의할로실란을포함하는혼합물을형성하고, b) 화학식 SiX의 1종이상의할로실란을수소화시켜화학식 SiH의히드리도실란을형성하는, 할로실란으로부터히드리도실란을제조하는방법에관한것이다. 본발명은또한상기방법에따라제조가능한히드리도실란및 그의용도에관한것이다.
    • I)一种或多种式SiX(其中n≥3且X = F,Cl,Br和/或I)的卤代硅烷和ii)式NRR'R' 其中R a,R'和/或R“独立地选自-CC-烷基,-OC-烷基, 氨基烷基,-CC-氨基芳烷基和/或两个或三个R,R'和R“基团(c = 0)一起形成含有N的环状或双环,杂脂族或杂芳族体系,条件是至少一个R,R'或R“基团不是-CH和/或bb)R和 R'和/或R“(其中c = 1)选自-CC-亚烷基,-CC-亚芳基,-CC-亚芳烷基,-CC-亚杂烷基, R'= C-R“',其中R”'= -CC-烷基, - (CH 2) CC-芳基和/或-CC-芳烷基) (X = F,Cl,Br和/或I)和SiX(其中X = F,Cl,Br和/或I) 为了形成包含硅烷的混合物,和b)氢化一种或多种式SiX的卤代硅烷以形成式SiH的氢化硅烷。 本发明还涉及可以根据该方法和它们的用途制备的氢化硅烷。