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1. 发明专利

JP6647269B2 溶剤組成物有权
公开(公告)号：JP6647269B2
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：JP2017245071
申请日：2017-12-21
申请人：株式会社ENEOSサンエナジー
发明人：伊藤秀樹
IPC分类号： C09D7/20 , C11D7/50 , C23G5/02 , C23G5/024 , C23G5/032 , B08B3/08 , C09D11/00 , C11D7/24 , C11D7/26 , C09D201/00

2. 发明专利

JP2019118847A 被洗浄物の洗浄方法及びその装置审中-公开
公开(公告)号：JP2019118847A
公开(公告)日：2019-07-22
申请号：JP2017252954
申请日：2017-12-28
申请人：ジャパン・フィールド株式会社 , 内野正英
发明人：内野正英
IPC分类号： B08B3/02 , C23G5/02 , B08B3/08
摘要：【課題】洗浄溶剤中への浸漬洗浄の洗浄効果を高めることができるとともに、洗浄槽内の洗浄溶剤を二液以上の洗浄溶剤を混合したものであった場合でも、この洗浄溶剤の成分を一定に保持可能にする。【解決手段】洗浄槽1内に収納した洗浄溶剤2を沸騰させるとともに、上記洗浄槽1に連通して設けた冷却槽8内に上記洗浄槽1内の洗浄溶剤2と同じ成分の洗浄溶剤2を収納して冷却し、上記洗浄槽1内で沸騰した洗浄溶剤2内に被洗浄物22を浸漬して被洗浄物22の浸漬洗浄を行った後、この被洗浄物22を洗浄槽1内の洗浄溶剤2の液面24から取り出すとともに、この被洗浄物22に、上記冷却槽8内の冷却された洗浄溶剤2を洗浄槽1内に移送して噴射し、この噴射によって冷却された被洗浄物22に、洗浄槽1内で発生させた洗浄溶剤2の洗浄蒸気を接触させることにより、この被洗浄物22の表面で洗浄蒸気を凝縮液化させる蒸気洗浄を行う。【選択図】図1

3. 发明专利

JP2019112490A 溶剤組成物审中-公开
公开(公告)号：JP2019112490A
公开(公告)日：2019-07-11
申请号：JP2017245071
申请日：2017-12-21
申请人：株式会社ENEOSサンエナジー
发明人：伊藤秀樹
IPC分类号： C11D7/50 , C23G5/02 , C23G5/024 , C23G5/032 , B08B3/08 , C09D7/40 , C09D11/00 , C11D7/24 , C11D7/26 , C09D201/00
摘要：【課題】環境性・安全性に優れ、塗料や印刷インクの希釈用途などで十分な性能を発揮しつつ、凍結することもなく乾燥性も良好な溶剤組成物を提供する。【解決手段】本発明に係る溶剤組成物は、炭酸ジメチルと、イソヘキサンと、アルコールとが混合されて合計で100重量%となる溶剤組成物において、炭酸ジメチル50重量%未満と、イソヘキサン50重量%未満と、アルコールとが混合されてなることを特徴とする。【選択図】なし

4. 发明专利

JPWO2017126652A1 重質炭化水素又は分子に極性を与える元素を含む系に生成したスラッジ及び硬質化皮膜除去用の洗浄液組成物、ならびにそれを用いた洗浄方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017126652A1
公开(公告)日：2019-01-31
申请号：JP2017001921
申请日：2017-01-20
申请人：日揮プラントイノベーション株式会社 , 三菱ケミカル株式会社
发明人：伊藤祐二 , 橋田英樹 , 国府田満 , 荒木秀暢 , 志賀浩二
IPC分类号： C11D7/06 , C11D7/32 , C11D7/50 , B08B9/032 , B08B3/08 , C23G1/19 , C23G5/02 , C11D7/34
摘要：ジメチルスルホキシド、水酸化カリウム、及び水を含む、重質炭化水素又は分子に極性を与える元素を含む系に生成したスラッジ及び硬質化皮膜除去用の洗浄液組成物。

5. 发明专利

JP6306257B1 グリースが付着した被洗浄物の汚染グリース除去洗浄方法有权
公开(公告)号：JP6306257B1
公开(公告)日：2018-04-04
申请号：JP2017180210
申请日：2017-09-20
申请人：内野正英 , ジャパン・フィールド株式会社
发明人：内野正英
IPC分类号： B08B3/04 , B08B3/08 , C23G5/02 , C23G5/028 , B08B3/10
摘要：【課題】被洗浄物に付着した大量の汚染グリースを、容易且つ確実に除去する。【解決手段】被洗浄物5,25のオーバーホール時に、この被洗浄物5,25に付着した汚染グリースを滴点以上に加熱することにより、被洗浄物5,25から汚染グリースを液化除去する方法であって、この汚染グリースの滴点以上の加熱は、汚染グリースの滴点以上の沸点を有する完全フッ素化液、加熱油、又はグリースを汚染グリースの滴点以上に加熱して加熱液体4,24とし、この加熱液体4,24又は加熱液体4,24から発生する洗浄蒸気26を、汚染グリースが付着した被洗浄物5,25に接触させて行う。【選択図】図1

6. 发明专利

JP6149936B2 再生合金材料の製造方法および再生アモルファス合金リボンの製造方法有权
公开(公告)号：JP6149936B2
公开(公告)日：2017-06-21
申请号：JP2015539297
申请日：2014-09-25
申请人：日立金属株式会社
发明人：宮野興平 , 黒木守文
IPC分类号： B03C1/00 , B02C18/14 , C22B7/00 , C23G5/02 , B09B3/00
CPC分类号： C22C1/002 , B03C1/02 , B03C1/30 , B22D11/001 , B22D11/0611 , B22F8/00 , C21D9/52 , C22B1/005 , C22B7/001 , C22B7/005 , C22C1/02 , C22C45/02 , C23G5/04 , B22F2998/10 , C21D2201/03 , C22C2202/02 , Y02P10/214 , Y02P10/24 , Y02W30/541

7. 发明专利

JP2017059773A 基板処理装置及び基板処理方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017059773A
公开(公告)日：2017-03-23
申请号：JP2015185751
申请日：2015-09-18
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：水谷信崇 , 岩下光秋 , 田中崇
IPC分类号： H01L21/3213 , H01L21/768 , H01L21/3205 , H01L23/532 , H01L21/308 , H01L21/3065 , C23G1/20 , C23G1/10 , C23G1/00 , C23G5/02 , C23F4/00 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/76814 , C23C18/1633 , H01J37/32009 , H01J37/3244 , H01L21/67051 , H01L21/76843 , H01L21/76879 , H01L23/5226 , H01L23/53238 , C23C18/1619 , H01J2237/334
摘要：【課題】有機エッチングガス、例えば、メタンガス、CF系ガス、メチル基を含むカルボン酸系ガス、及びアルコール系ガスから選択される1種又は2種以上の有機エッチングガスを使用するドライエッチング処理により形成された銅配線を有する基板から、基板の表面に付着する、ドライエッチング処理において生じた有機エッチングガス由来の有機ポリマーを除去できる基板処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】基板処理装置(1)において、第1処理部(4)は、過酸化水素を含む薬液及び極性有機溶媒を含む薬液から選択される第1洗浄液(L1)を供給する第1洗浄液供給部(43a)を備え、基板(W1)に対して、第1洗浄液供給部(43a)により第1洗浄液(L1)を供給する。【選択図】図3

8. 发明专利

JP2014200726A 揮発性有機溶剤を使用した洗浄装置审中-公开
标题翻译：使用挥发性有机溶剂洗涤设备
公开(公告)号：JP2014200726A
公开(公告)日：2014-10-27
申请号：JP2013077677
申请日：2013-04-03
申请人：小島産業株式会社 , Kojima Sangyo Kk
发明人： ITO MICHINOBU , NAKAGAWA EIJI
IPC分类号： B08B3/08 , B08B3/10 , C23G5/02 , C23G5/024 , C23G5/032 , C23G5/036 , C23G5/04 , H01L21/304
摘要：【課題】揮発性有機溶剤の揮発放散量を低減可能な洗浄装置を提供する。【解決手段】上面に開口を有する洗浄容器10と、洗浄容器10内を上下昇降可能な載置台11と、載置台11と一体的に昇降する中蓋12とを有する。洗浄容器10内は、揮発性有機溶剤が貯留された浸漬室10aと、浸漬室10aの上方に連続する冷却室10bとからなる。バスケット30に収容した洗浄対象物を浸漬室10aにおいて揮発性有機溶剤に浸漬洗浄した後、冷却室10bにおいて洗浄対象物へ冷却流体を吹き付ける。洗浄対象物を浸漬洗浄する状態以外では、浸漬室10aが中蓋12によって閉塞されている。揮発性有機溶剤は、ヒータ22によって沸点未満で加熱されている。冷却流体としては、揮発性有機溶剤や真水を使用できる。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供可以降低挥发性有机溶剂的挥发和扩散量的洗涤设备。溶液：洗涤设备包括在其顶面上具有开口的洗涤容器10，可在洗涤物中垂直移动的平台11 容器10以及与平台11一体地垂直移动的内盖12.清洗容器10包括其中积聚挥发性有机溶剂的浸没室10a和在浸没室10中连续的冷却室10b 位于浸渍室10的上方。将待洗涤并接收在筐30中的物体浸入并洗涤在浸没室10a中的挥发性有机溶剂中之后，将冷却流体吹送到冷却室10b中待清洗的物体。除了要洗涤的物体被浸洗的状态之外，浸没室10a被内盖12封闭。挥发性有机溶剂被加热器22加热到低于沸点的温度。挥发性有机溶剂或淡水可用作冷却液。

9. 发明专利

JP2014109038A Metal surface cleaning device and metal surface cleaning method 有权
标题翻译：金属表面清洁装置和金属表面清洁方法
公开(公告)号：JP2014109038A
公开(公告)日：2014-06-12
申请号：JP2012262361
申请日：2012-11-30
申请人： Fuji Heavy Ind Ltd , 富士重工業株式会社
发明人： IMAI TOMOYA , TOMII YUICHIRO , KAJIYAMA TSUTOMU
IPC分类号： C23G5/02 , B05D3/10 , B08B3/08
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a metal surface cleaning device and a metal surface cleaning method which allow further suppression of painting defect by efficiently removing contaminant adhering to a surface of a worked metal product.SOLUTION: A metal surface cleaning device 10 comprises a nozzle 21 for cleaning an automobile body 1 by spraying a cleaning oil, and an oil dipping tank 31 with a cleaning oil stored therein for dipping and cleaning the automobile body 1 to which the cleaning oil has been sprayed by the nozzle 21. Viscosities of both the cleaning oil sprayed from the nozzle 21 and the cleaning oil stored in the oil dipping tank 31 are set higher than a viscosity of an oil (a press working oil) adhering to the automobile body 1.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种金属表面清洁装置和金属表面清洁方法，其通过有效地去除附着在加工金属制品的表面上的污染物，进一步抑制涂漆缺陷。解决方案：金属表面清洁装置10包括喷嘴 21，用于通过喷射清洁油清洁汽车车体1;以及油浸槽31，其中存储有清洁油，用于浸渍和清洁由喷嘴21喷射了清洁油的汽车车身1。两者的粘度将从喷嘴21喷射的清洗油和存储在吸油槽31中的清洗油设定为高于粘附在汽车车体1上的油（冲压加工油）的粘度。

10. 发明专利

JP2012248738A Surface treatment agent composition for silicon wafer 审中-公开
标题翻译：硅砂表面处理剂组合物
公开(公告)号：JP2012248738A
公开(公告)日：2012-12-13
申请号：JP2011120337
申请日：2011-05-30
申请人： Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd , 第一工業製薬株式会社
发明人： KIKAZAWA SHIGERU , NABESHIMA TOSHIICHI , NAKAGAWA KAZUNORI , HORIE TAKUYA
IPC分类号： H01L21/304 , B08B3/08 , C11D1/68 , C11D1/72 , C23G5/02 , H01L31/04
CPC分类号： Y02E10/50
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface treatment agent composition for a silicon wafer, having good cleaning performance to coolants, abrasive-grains or silicon powders and also being capable of making a wafer surface allowing formation of good texture in a subsequent etching process.SOLUTION: The composition comprises the components (a) to (d): (a) 0.1 to 40 wt.% of an ether type nonionic surfactant and R-O-(AO)n-H, where R represents a straight or branched aliphatic hydrocarbon group having a carbon number of 8 to 24, AO represents an oxyalkylene group having a carbon number of 2 to 4, and n represents 1 to 100; (b) 5 to 40 wt.% of alkyl polyglycoside and R-O-(G)n-H, where R represents a straight or branched alkyl group having a carbon number of 1 to 22, G represents a reduction sugar having a carbon number of 5 to 6, and n represents 1 to 5; (c) 1 to 30 wt.% of an alkaline agent; and (d) water which is the residual of the total amount 100 wt.% including the components (a), (b) and (c).
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于硅晶片的表面处理剂组合物，对冷却剂，磨料颗粒或硅粉末具有良好的清洁性能，并且还能够使晶片表面允许在随后的形成良好的质地蚀刻工艺。组合物包含组分（a）至（d）：（a）0.1至40重量％的醚型非离子表面活性剂和RO-（AO）nH，其中R表示直链或支链脂族烃碳数为8〜24的基团，AO表示碳数为2〜4的氧化烯基，n表示1〜100; （b）5〜40重量％的烷基多糖苷和RO-（G）nH，其中R表示碳数为1〜22的直链或支链烷基，G表示碳原子数为5〜 6，n表示1〜5; （c）1〜30重量％的碱性试剂; 和（d）包含组分（a），（b）和（c）的总量为100重量％的残余物的水。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

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