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1. 发明专利

KR20210025715A KR20210025715A - Image-forming optical system, exposure apparatus, and device producing method 审中-公开
公开(公告)号：KR20210025715A
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：KR1020217006064A
申请日：2010-11-24
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 히데키 고마츠다
IPC分类号： G02B17/06 , G02B5/08 , G02B13/14 , G02B13/22 , G02B13/24 , G02B17/08 , G03B27/32 , G03B27/54 , G03F7/20
CPC分类号： G02B17/0657 , G03F7/702 , G02B13/14 , G02B13/22 , G02B13/24 , G02B17/08 , G02B5/08 , G03B27/32 , G03B27/54 , G03F7/20 , G03F7/70033 , G03F7/70091 , G03F7/70233 , G03F7/7025
摘要： 본 발명은, 예컨대 EUV 광을 이용하는 노광 장치에 적용 가능한 반사 광학계로서, 광속의 광로 분리를 가능하게 하면서 개구수의 증대를 도모할 수 있는 결상 광학계를 제공한다. 제1면(4)의 이미지를 제2면(7) 상에 형성하는 반사 결상 광학계(6)는, 제2면 상의 제1 방향(X 방향)에 관한 제2면 측의 개구수는 제2면 상에 있어서 제1 방향과 교차하는 제2 방향(Y 방향)에 관한 제2면 측의 개구수의 1.1배보다 크다. 반사 결상 광학계는 제2면 측의 개구수를 규정하는 개구 조리개(AS)를 구비하고, 개구 조리개는 타원형의 개구부를 가지며, 이 타원형의 개구부의 장경 방향(X 방향)의 치수는 단경 방향(Y 방향)의 치수의 1.1배보다 크다.

2. 发明专利

KR102223843B1 KR102223843B1 - Image-forming optical system, exposure apparatus, and device producing method 有权
公开(公告)号：KR102223843B1
公开(公告)日：2021-03-08
申请号：KR1020207003079A
申请日：2010-11-24
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 히데키 고마츠다
IPC分类号： G02B17/06 , G02B5/08 , G02B13/14 , G02B13/22 , G02B13/24 , G02B17/08 , G03B27/32 , G03B27/54 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B13/14 , G02B13/22 , G02B13/24 , G02B17/0657 , G02B17/08 , G02B5/08 , G03B27/32 , G03B27/54 , G03F7/20 , G03F7/70033 , G03F7/70091 , G03F7/70233 , G03F7/7025
摘要： 본 발명은, 예컨대 EUV 광을 이용하는 노광 장치에 적용 가능한 반사 광학계로서, 광속의 광로 분리를 가능하게 하면서 개구수의 증대를 도모할 수 있는 결상 광학계를 제공한다. 제1면(4)의 이미지를 제2면(7) 상에 형성하는 반사 결상 광학계(6)는, 제2면 상의 제1 방향(X 방향)에 관한 제2면 측의 개구수는 제2면 상에 있어서 제1 방향과 교차하는 제2 방향(Y 방향)에 관한 제2면 측의 개구수의 1.1배보다 크다. 반사 결상 광학계는 제2면 측의 개구수를 규정하는 개구 조리개(AS)를 구비하고, 개구 조리개는 타원형의 개구부를 가지며, 이 타원형의 개구부의 장경 방향(X 방향)의 치수는 단경 방향(Y 방향)의 치수의 1.1배보다 크다.

3. 发明专利

JPWO2015056628A1 光学測定装置及び光学系を備える装置有权
公开(公告)号：JPWO2015056628A1
公开(公告)日：2017-03-09
申请号：JP2015542590
申请日：2014-10-09
申请人：国立研究開発法人産業技術総合研究所
发明人：川手　悦男 , 悦男川手
IPC分类号： G01N21/47 , G01N21/01
CPC分类号： G01N21/47 , F21V7/0025 , F21V7/08 , G01N21/474 , G01N21/65 , G01N2021/556 , G01N2201/0637 , G01N2201/065 , G02B17/0615 , G02B17/0657 , G02B19/0085
摘要：試料からの散乱光の光強度とその空間分布を測定可能な、感度の優れた光学測定装置や光学系を備える装置を提供する。装置において、第1の物体から放射された光が、第2の物体に達する間に、2回以上の偶数回、楕円面鏡で反射される構造とすることにより、像の歪みを抑制する。2つの楕円面鏡を、互いの1つの焦点を共通焦点として、残りの2つの焦点が前記共通焦点に対して互いに反対側で一列に並ぶ配置とし、共通焦点をブランクにして、第1の物体を一方の焦点に、第2の物体を他方の焦点に配置することにより、像の歪みを抑制する。

4. 发明专利

JP2016176914A 空輸システム周囲の気流における光学波面撹乱測定用の航空波機器审中-公开
标题翻译：用于测量AIRBORNE系统中的气流中的光波前干扰的AERO-WAVE INSTRUMENT
公开(公告)号：JP2016176914A
公开(公告)日：2016-10-06
申请号：JP2015185422
申请日：2015-09-18
申请人：ザ・ボーイング・カンパニー , The Boeing Company
发明人：ケルクナー, ブライアンリー , ジャーカティス, ケネス , ホームズ, リチャードブルックス , マックナーニ, ニコラウス , ドナルドソン, ジェド
IPC分类号： B64D47/00 , G01M11/02
CPC分类号： G01S3/786 , B64C30/00 , G01C19/04 , G01J9/00 , G01M9/06 , G02B17/061 , G02B17/0657 , G02B17/0663 , G02B23/08 , G02B26/0816 , G02B26/105 , G02B7/1821 , H04N7/183 , G02B27/14
摘要：【課題】航空機に搭載する波面測定システムを提供する。【解決手段】航空機は、胴体及び少なくとも1つの空気力学的な接合面を含む。航空機は、発光源から光ビームを受け取り、光ビームを第1の潜望鏡折り畳みミラーに反射するための、ジンバルによって支持されるミラーを含むジンバル式ミラーシステムを更に含む。波面測定システムは、光ビームを高速ステアリングミラーに反射する少なくとも5つの反射ミラーを含む。高速ステアリングミラーは、光ビームをビームスプリッターに直接反射し、光ビームは、光ビームの送信部分と反射部分とに分割される。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种机载波前测量系统。解决方案：飞机包括机身和至少一个空气动力界面。飞机还包括万向平台反射镜系统，其包括由万向节支撑的反射镜，以接收来自发光源的光束并将光束反射到第一潜望镜折射镜。波前测量系统包括将光束反射到快速转向镜的至少五个反射镜。快速转向镜将光束直接反射到分束器，其中光束被分裂成光束的透射部分和反射部分。选择图：无

5. 发明专利

JP5885098B2 マイクロリソグラフィ用の掩蔽瞳を有する投影対物系有权
标题翻译：具有微光刻遮蔽瞳孔投影物镜系统
公开(公告)号：JP5885098B2
公开(公告)日：2016-03-15
申请号：JP2010525251
申请日：2008-09-18
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：クレーマーダニエル , ドドックアウレリアン , マンハンスユールゲン , グルナートラルフ
IPC分类号： G02B5/00 , G02B17/08 , H01L21/027
CPC分类号： G02B5/003 , G02B17/0657 , G02B27/0018 , G02B5/005 , G03F7/70233

6. 发明专利

JP2016001308A 結像光学系、露光装置、およびデバイス製造方法有权
标题翻译：成像光学系统，曝光装置和装置的制造方法
公开(公告)号：JP2016001308A
公开(公告)日：2016-01-07
申请号：JP2015124424
申请日：2015-06-22
申请人：株式会社ニコン
发明人：小松田秀基
IPC分类号： G03F7/20 , G02B17/00
CPC分类号： G02B17/0657 , G03F7/70091 , G03F7/70233 , G03F7/7025
摘要：【課題】EUV光を用いる露光装置に適用可能な反射光学系であって、光束の光路分離を可能にしつつ開口数の増大を図ることのできる結像光学系の提供。【解決手段】第1面4の像を第2面7上に形成する反射結像光学系は、第2面上の第1方向(X方向)に関する第2面側の開口数は、第2面上において第1方向と交差する第2方向(Y方向)に関する第2面側の開口数の1.1倍よりも大きい。【選択図】図3
摘要翻译：要解决的问题：提供一种成像光学系统，其是可应用于使用EUV光的曝光装置的反射光学系统，并且可以实现增加的数值孔径，同时实现光通量的光路分离。解决方案：在反射图像中，在第二表面7上形成第一表面4的图像的形成光学系统，在第二表面上相对于第一方向（X方向）的第二表面侧的数值孔径大于第二表面上的数值孔径的1.1倍相对于在第二表面上与第一方向相交的第二方向（Y方向）的第二表面侧。

7. 发明专利

JP5762579B2 遮光瞳を有する高開口率対物光学系有权
标题翻译：具有遮光瞳高开口率物镜光学系统
公开(公告)号：JP5762579B2
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：JP2014001941
申请日：2014-01-08
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：マンハンス−ユルゲン , シェイファーデイヴィッド , ウルリッヒヴィルヘルム
IPC分类号： G02B17/08 , G03F7/20 , H01L21/027 , G02B17/06
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B13/143 , G02B17/0657 , G03F7/70225

9. 发明专利

JP5552140B2 How to configure the optical mechanism and the optical mechanism of Euv for lithography 有权
公开(公告)号：JP5552140B2
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：JP2012136845
申请日：2012-06-18
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：クラウスヴィルフリード
IPC分类号： H01L21/027 , C03B20/00 , C03C3/06 , C03C17/10 , G02B19/00 , G03F7/20
CPC分类号： G21K1/062 , B82Y10/00 , G02B7/008 , G02B17/0657 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K2201/067

10. 发明专利

JP2014112706A Optical mechanism for euv lithography and method for configuring optical mechanism 有权
标题翻译：用于EUV光刻的光学机构和配置光学机制的方法
公开(公告)号：JP2014112706A
公开(公告)日：2014-06-19
申请号：JP2014013669
申请日：2014-01-28
申请人： Carl Zeiss Smt Gmbh , カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人： CLAUSS WILFRIED
IPC分类号： H01L21/027 , C03B25/02 , C03C3/06 , C03C3/076 , G02B5/08 , G02B7/182 , G02B19/00 , G03F1/22 , G03F1/60
CPC分类号： G21K1/062 , B82Y10/00 , G02B7/008 , G02B17/0657 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K2201/067
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical mechanism for EUV lithography and a method for configuring the optical mechanism in which deformation due to an influence of temperature is reduced.SOLUTION: A reflective coating 31 is applied to a substrate 32, the reflective coating having a plurality of individual layers that alternately consist of materials having different refractive indices. The reflective coating can also comprise an intermediate layer for preventing diffusion and a capping layer 31a for preventing oxidation or corrosion. The substrate 32 is applied to a carrier 33, in which a plurality of heating elements 33a in the form of Peltier elements are provided; and these elements serve for homogeneously heating the substrate 32 to a use temperature. A temperature sensor 35 is provided laterally on the substrate 32 and is connected to a control device for controlling the temperature of the substrate 32 to the use temperature by a closed loop. Deformations and/or changes in a length of the substrate 32 caused by temperature fluctuations are avoided by controlling the use temperature to correspond as exactly as possible to the zero crossing temperature of the coefficient of thermal expansion of the substrate 32.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于EUV光刻的光学机构和一种用于配置由于温度影响而导致的变形的光学机构的方法。解决方案：将反射涂层31施加到基板32，反射涂层具有由折射率不同的材料交替组成的多个单独的层。反射涂层还可以包括用于防止扩散的中间层和用于防止氧化或腐蚀的覆盖层31a。衬底32被施加到载体33上，其中提供了多个形式为珀尔帖元件的加热元件33a; 并且这些元件用于将基板32均匀加热至使用温度。温度传感器35横向设置在基板32上，并连接到控制装置，用于通过闭环控制基板32的温度达到使用温度。通过控制使用温度与基板32的热膨胀系数的过零点温度尽可能对应来避免由温度波动引起的基板32的长度的变形和/或变化。

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