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1. 发明专利

JP2015148483A 分光器有权
标题翻译：光谱仪
公开(公告)号：JP2015148483A
公开(公告)日：2015-08-20
申请号：JP2014020652
申请日：2014-02-05
申请人：浜松ホトニクス株式会社
发明人：能野隆文 , 柴山勝己
IPC分类号： G01J3/24
CPC分类号： G01J3/0208 , G01J3/0224 , G01J3/0256 , G01J3/0291 , G01J3/18 , G01J3/1838 , G01J3/24 , G01J3/2803
摘要：【課題】検出精度の低下を抑制しつつ小型化を図ると共に検出作業の効率化を図ることができる分光器を提供する。【解決手段】分光器1Aは、分光ユニット2A,2B,2Cを備える。分光ユニット2Aが有する光通過部21A、反射部11A、共通反射部12、分光部40A及び光検出部22Aは、Z軸方向から見た場合に、基準線RL1に沿って並んでいる。分光ユニット2Bが有する光通過部21B、反射部11B、共通反射部12、分光部40B及び光検出部22Bは、Z軸方向から見た場合に、基準線RL2に沿って並んでいる。分光ユニット2Cが有する光通過部21C、反射部11C、共通反射部12、分光部40C及び光検出部22Cは、Z軸方向から見た場合に、基準線RL3に沿って並んでいる。基準線RL1は、基準線RL2,RL3と交差している。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供能够在抑制检测精度下降的同时能够进行小型化的光谱仪，并且还能够提高检测工作的效率。解决方案：光谱仪1A包括光谱单元2A，2B，2C。当从Z轴的方向观察时，分光单元2A具有的光通过部分21A，反射部分11A，共同反射部分12，光谱部分40A和光检测部分22A沿参考线RL1并置。当从Z轴的方向观察时，分光单元2B具有的光通过部分21B，反射部分11B，共同反射部分12，分光部分40B和光检测部分22B与基准线RL2并列。分光单元2C具有的光通路部分21C，反射部分11C，共同反射部分12C，光检测部分22C和从Z轴的方向观察时沿基准线RL3并置。参考线RL1与参考线RL2和RL3相交。

2. 发明专利

JP2015535342A ハイパースペクトルイメージングシステム、モノリシック分光計及びモノリシック分光計を作製する方法审中-公开
标题翻译：使得高光谱成像系统，单片式光谱仪和光谱仪整体的方法
公开(公告)号：JP2015535342A
公开(公告)日：2015-12-10
申请号：JP2015539828
申请日：2013-10-25
申请人：コーニングインコーポレイテッド , コーニングインコーポレイテッド
发明人：エルジンセカンドコムストック，ロヴェル , エルジンセカンドコムストック，ロヴェル , リントンウィギンス，リチャード , リントンウィギンス，リチャード
IPC分类号： G01J3/18 , B23B1/00 , B23B27/20 , G01J3/04 , G01J3/40
CPC分类号： G01J3/2823 , G01J3/0208 , G01J3/021 , G01J3/0229 , G01J3/0259 , G01J3/18 , G01J3/24 , G01J2003/2826 , Y10T29/4998
摘要：ハイパースペクトルイメージングシステム、モノリシックオフナー分光計及びモノリシックオフナー分光計を作製するための2つの方法が明細書に説明される。一実施形態において、モノリシックオフナー分光計102は、(1)不透明材料が被着されている入光面−不透明材料からはスリット108を形成する領域が除去されている、(2)第1ミラー114を形成するために第1の反射性コーティングが施されている第1の表面、(3)回折格子120を形成するために第2の反射性コーティングが施されている第2の表面、(4)第2ミラー124を形成するために第3の反射性コーティングが施されている第3の表面、及び(5)出光面130を有する、透光性材料101を有する。必要に応じて、透光性材料は第1折返しミラー105’を形成するために第4の反射性コーティングが施されている第4の表面111’も有することができる。さらに、透光性材料は第2折返しミラー140”を形成するために第5の反射性コーティングが施されている第5の表面144”も有することができる。
摘要翻译：用于生产高光谱成像系统的两种方法，单片欧浮纳分光计和单片欧浮纳分光计，在本说明书中描述。在一个实施例中，单片欧浮纳分光计102（1）光入射面的不透明材料被沉积 - 用于形成不透明材料的缝隙108的区域被除去，（2）所述第一反射镜第一表面第一反射涂层，以形成114被施加，（3）所述第二反射涂层被施加，以形成衍射光栅120的第二表面，（ 4）第三第三表面反射涂层，以形成第二反射镜124，和（5）的光出射面130，光透射性材料101施加。如果必要的话，光透射性材料还可以有一个“第四表面111第四反射涂层被施加到形成”第一折叠式反射镜105。此外，半透明的材料也可以具有第二折叠式反射镜140“第五第五表面144反射涂层以形成一个施加”。

3. 发明专利

JPWO2004027493A1 回折格子を用いた分光装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2004027493A1
公开(公告)日：2006-01-19
申请号：JP2004538010
申请日：2003-09-22
申请人：日本板硝子株式会社 , 独立行政法人産業技術総合研究所
发明人：西井　準治 , 準治西井 , 中澤　達洋 , 達洋中澤 , 橘高　重雄 , 重雄橘高 , 常友　啓司 , 啓司常友 , 大家　和晃 , 和晃大家
IPC分类号： G01J3/18 , G01R31/28 , G01J3/24 , G02B5/18 , G02B6/34 , G06F11/22
CPC分类号： G01J3/1804 , G01J3/0208 , G01J3/0218 , G01J3/18 , G01J3/24 , G02B5/1866 , G02B6/29311
摘要：複数の波長成分を含んでいてガウシアンビームで近似される光束を出射する入射側光導波路と、入射側光導波路の出射側に設置され、入射側光導波路から出射されたガウシアンビームで近似される光束を、略平行光束に変換するコリメートレンズとを有する光入射部と、コリメートレンズにより略平行光束に変換された光束が入射され、波長ごとに出射方向の異なる光束を出射することで光束を分光する、表面に溝を有する回折格子と、回折格子によって分光された各光束をそれぞれ集光する、複数の集光レンズを有する光出射部とを備えている。

4. 发明专利

JPWO2012108457A1 光学素子及びその製造方法有权
公开(公告)号：JPWO2012108457A1
公开(公告)日：2014-07-03
申请号：JP2012556911
申请日：2012-02-08
申请人：浜松ホトニクス株式会社
发明人：隆文能野 , 隆文能野 , 柴山　勝己 , 勝己柴山
IPC分类号： G02B5/18 , G02B5/10
CPC分类号： G02B5/0808 , B29C43/021 , B29C43/36 , B29D11/00769 , B29L2011/0016 , G01J3/18 , G01J3/24 , G02B5/00 , G02B5/10 , G02B5/18 , G02B5/1814 , G02B5/1852 , G02B5/1861 , Y10T428/24521
摘要：光学素子1は、表面2aに凹部3が形成された基材2と、基材2上に配置された成形層4と、を備えている。成形層4は、凹部3の深さ方向から見た場合に凹部3内に位置する本体部5、及び本体部5と繋がった状態で基材2の表面2a上に位置する乗上げ部6を有している。本体部5において凹部3の底面3bと対向する曲面4bには、光学機能部10が設けられている。

5. 发明专利

JP2013186023A Spectrum measurement device, image evaluation device and image formation device 有权
标题翻译：光谱测量装置，图像评估装置和图像形成装置
公开(公告)号：JP2013186023A
公开(公告)日：2013-09-19
申请号：JP2012052478
申请日：2012-03-09
申请人： Ricoh Co Ltd , 株式会社リコー
发明人： KAMIJO TADAHIRO , SHINPO KOHEI , KUBOTA YOICHI , SEO MANABU
IPC分类号： G01J3/50 , G03G15/00 , G03G15/01
CPC分类号： G01J3/42 , G01J3/0208 , G01J3/0229 , G01J3/024 , G01J3/0262 , G01J3/0297 , G01J3/18 , G01J3/24 , G01J3/2823 , G01J3/50 , G01J2003/503 , G03G15/00 , G03G15/5062
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a spectrum measurement device that allows a wavelength spectrum of reflection light from an object to be stably measured with high accuracy.SOLUTION: A spectrum measurement device 10 comprises: a light source unit 11 that irradiates a recording paper P with light; an aperture element 13 that is arranged on an optical path of reflection light from the recording paper P and provided with a plurality of apertures; a diffraction element 15 that is arranged on optical paths of a plurality of pieces of light which, out of the reflection light, have passed through a plurality of apertures; a mask element 17 that includes a plurality of passage parts allowing a plurality of +1-order diffraction images, out of a plurality of diffraction images of the plurality of pieces of light formed by the diffraction element 15, to individually pass through, and a light shield part shielding diffraction images in orders other than +1-order; and a linear sensor 16 that includes a plurality of spectrum sensors individually receiving the plurality of +1-order diffraction images passing through the plurality of passage parts.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种允许以高精度稳定地测量来自物体的反射光的波长谱的光谱测量装置。解决方案：光谱测量装置10包括：光源单元11，其照射记录纸P 与光; 光圈元件13，其设置在来自记录纸P的反射光的光路上并且设置有多个孔; 配置在多个光的光路上的衍射元件15，其在反射光中已经通过多个孔; 掩模元件17，其包括多个通过衍射元件15形成的多个光的多个衍射图像中的多个+1阶衍射图像的通过部分，以分别通过，屏蔽部分屏蔽除+ 1级以外的顺序的衍射图像; 以及线性传感器16，其包括分别接收通过多个通道部分的多个+ 1级衍射图像的多个频谱传感器。

6. 发明专利

JP2004110699A Method and device for evaluating semiconductor integrated device system 审中-公开
公开(公告)号：JP2004110699A
公开(公告)日：2004-04-08
申请号：JP2002275518
申请日：2002-09-20
申请人： Matsushita Electric Ind Co Ltd , 松下電器産業株式会社
发明人： TAKEMURA KAZUYOSHI
IPC分类号： G01R31/28 , G01J3/18 , G01J3/24 , G02B6/34 , G06F11/22
CPC分类号： G01J3/1804 , G01J3/0208 , G01J3/0218 , G01J3/24
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To flexibly constitute a system without remaking evaluation bases even when change/modification exists in system configuration. SOLUTION: Reusability of the evaluation bases is enhanced and the evaluation bases are flexibly constituted by separating a CPU evaluation base 101, a memory evaluation base 110 and a peripheral circuit evaluation base 116 from one another, mutually connecting them by a hub 109, etc. by using standard network technology (such as TCP/IP and Ethernet) and providing them with consistency by protocol converters 104, 112, 118 which convert a bus protocol and a network protocol. COPYRIGHT: (C)2004,JPO

7. 发明专利

JP6177153B2 分光器有权
公开(公告)号：JP6177153B2
公开(公告)日：2017-08-09
申请号：JP2014020652
申请日：2014-02-05
申请人：浜松ホトニクス株式会社
发明人：能野隆文 , 柴山勝己
IPC分类号： G01J3/24
CPC分类号： G01J3/0208 , G01J3/021 , G01J3/0224 , G01J3/0256 , G01J3/0291 , G01J3/0294 , G01J3/18 , G01J3/1838 , G01J3/24 , G01J3/2803

8. 发明专利

JP6051543B2 分光計測装置、画像評価装置及び画像形成装置有权
公开(公告)号：JP6051543B2
公开(公告)日：2016-12-27
申请号：JP2012052478
申请日：2012-03-09
申请人：株式会社リコー
发明人：上条直裕 , 新保晃平 , 窪田陽一 , 瀬尾学
IPC分类号： G03G15/00 , G03G15/01 , G01J3/50
CPC分类号： G01J3/42 , G01J3/0208 , G01J3/0229 , G01J3/024 , G01J3/0262 , G01J3/0297 , G01J3/18 , G01J3/24 , G01J3/2823 , G01J3/50 , G03G15/00 , G03G15/5062 , G01J2003/503

9. 发明专利

JP5767882B2 分光器有权
公开(公告)号：JP5767882B2
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：JP2011163638
申请日：2011-07-26
申请人：浜松ホトニクス株式会社
发明人：能野隆文 , 柴山勝己 , 廣瀬真樹 , 加藤勝彦
IPC分类号： G01J3/02
CPC分类号： G01J3/0205 , G01J3/0202 , G01J3/0256 , G01J3/0262 , G01J3/0291 , G01J3/1838 , G01J3/24 , G01J3/2803 , G01J2003/1852

10. 发明专利

JP2014520285A Method of producing a diffraction grating 审中-公开
$Method of producing a diffraction grating$
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP2014520285A
公开(公告)日：2014-08-21
申请号：JP2014514829
申请日：2012-06-07
申请人：ネーデルランツオルガニサティーフォールトゥーゲパストナトゥールヴェテンシャッペリークオンデルズークテーエンオー , スティッチングスロンネザーランズインスティチュートフォースペースリサーチ
发明人：ヨハンネスぺトルスフィンク，ヘンリ , フィッセル，ホイベルト , アメロンゲン，アールデルトヒデファン
IPC分类号： G02B5/18
CPC分类号： G02B27/4244 , G01J3/18 , G01J3/1804 , G01J3/24 , G02B5/008 , G02B5/1828 , G02B5/1852 , G02B5/1857 , G02B5/1866 , H01S3/08009 , H01S3/092 , H01S3/0933 , H01S3/1636
摘要：格子に投射する光の角分散のための格子の製造方法が開示される。格子は、テーパ構造と、キャビティとを含む。キャビティ幅および／または波形振幅は、所望の格子効率を計算に従って達成するために変更される。可変のキャビティ幅および／または波形振幅を備える格子を便利に作製するための方法が開示される。本方法は、格子マスタに溝パターンを異方性エッチングするステップを含む。任意選択で、格子マスタに相補的なレプリカが生産される。エッチングレジストのパターンの変化によって、格子のキャビティ幅が変更でき、種々の効率目標に向けた最適化が可能になる。
【選択図】図８
摘要翻译：公开了用于影响光栅的光的角度色散的光栅。光栅包括锥形结构和空腔。改变腔宽以实现所需的光栅效率。公开了一种方便地创建具有可变腔宽度的光栅的方法。该方法包括将凹槽图案各向异性蚀刻成光栅母板的步骤。可选地，产生与光栅母板互补的复制品。通过蚀刻抗蚀剂图案的变化，可以改变光栅的腔宽度，从而实现不同效率目标的优化。

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