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    • 2. 发明专利
    • チタン合金材、セパレータ、セル、および燃料電池
    • JPWO2017169712A1
    • 2018-08-09
    • JP2017010087
    • 2017-03-14
    • 新日鐵住金株式会社
    • 正木 康浩西山 佳孝今村 淳子上仲 秀哉
    • H01M8/0208H01M8/0228C23C8/16C23C8/10C22C14/00
    • C22C14/00C22F1/00C22F1/18C23C8/12C23C8/16C23C8/80C23C28/04H01M8/0202H01M8/10
    • 母材(1)、および母材(1)上に形成される第1の酸化物層(2)を備えるチタン合金材。母材(1)は、V、Ta、およびNbからなる群から選択される1種以上の元素Mを含むチタン合金からなる。第1の酸化物層(2)は、TiO x (1≦x y (1≦y≦2.5)を含み、第1の酸化物層(2)の厚みは、1〜100nmである。母材(1)における元素Mの含有量は、0.6質量%以上、10質量%以下である。このチタン合金材は、第1の酸化物層(2)上に形成される第2の酸化物層(3)をさらに備えてもよい。第2の酸化物層(3)は、Ti 1-z M z O 2 (0




      (51)Int.Cl. FI テーマコード(参考) H01M 8/10 (2016.01) H01M 8/10 101 (81)指定国 AP(BW,GH,GM,KE,LR,LS,MW,MZ,NA,RW,SD,SL,ST,SZ,TZ,UG,ZM,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,RU,T J,TM),EP(AL,AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,R O,RS,SE,SI,SK,SM,TR),OA(BF,BJ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GQ,GW,KM,ML,MR,NE,SN,TD,TG),AE,AG,AL,AM,AO,AT,AU,AZ, BA,BB,BG,BH,BN,BR,BW,BY,BZ,CA,CH,CL,CN,CO,CR,CU,CZ,DE,DJ,DK,DM,DO,DZ,EC,EE,EG,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM,G T,HN,HR,HU,ID,IL,IN,IR,IS,JP,KE,KG,KH,KN,KP,KR,KW,KZ,LA,LC,LK,LR,LS,LU,LY,MA,MD,ME,MG,MK,MN,MW,MX,MY ,MZ,NA,NG,NI,NO,NZ,OM,PA,PE,PG,PH,PL,PT,QA,RO,RS,RU,RW,SA,SC,SD,SE,SG,SK,SL,SM,ST,SV,SY,TH,TJ,TM,TN, TR,TT,TZ (72)発明者 上仲 秀哉 東京都千代田区有楽町一丁目7番1号 日鉄住金テクノロジー株式会社内 Fターム(参考) 5H126 AA12 BB06 DD05 DD14 DD18 EE03 EE22 EE43 GG08 GG12 GG13 JJ03 JJ05 (注)この公表は、国際事務局(WIPO)により国際公開された公報を基に作成したものである。なおこの公表に 係る日本語特許出願(日本語実用新案登録出願)の国際公開の効果は、特許法第184条の10第1項(実用新案法 第48条の13第2項)により生ずるものであり、本掲載とは関係ありません。
    • 6. 发明专利
    • Oxidizing method and oxidizing apparatus of workpiece, and storage medium
    • 工作的氧化方法和氧化装置和储存介质
    • JP2005311301A
    • 2005-11-04
    • JP2005032341
    • 2005-02-08
    • Tokyo Electron Ltd東京エレクトロン株式会社
    • SUZUKI KEISUKEIKEUCHI TOSHIYUKIAOKI KIMIYA
    • H01L21/31C23C8/12C23C8/16C23C16/00H01L21/316H01L21/469
    • C23C8/12C23C8/16H01L21/02164H01L21/0223H01L21/02238H01L21/02255H01L21/31662
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an oxidizing method of a workpiece which can selectively oxidize a surface of different material sufficiently exposing on a surface, and moreover can keep uniformity in the film thickness high among the films.
      SOLUTION: In the oxidizing method of selectively oxidizing the surface of the workpiece in an atmosphere, having oxygen active species and hydroxyl group active species which are generated by supplying an oxidizing gas and a reducing gas in a treatment vessel 22, and by reacting both the gases in such a manner that a plurality of workpiece W, in which silicon layer and silicon nitride layer are exposed on the surface, are accommodated in the treatment vessel 22, which has a designated length and can execute vacuum processing. The oxidizing gas and reducing gas are supplied from one end side of the treatment vessel in the longitudinal direction, and the oxidizing gas is further supplied in auxiliary, at a partway location of the treatment vessel in the longitudinal direction.
      COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
    • 要解决的问题:提供能够选择性地氧化表面上充分暴露的不同材料的表面的工件的氧化方法,并且还可以使膜中的膜厚度均匀化。 解决方案:在气氛中选择性氧化工件表面的氧化方法中,具有通过在处理容器22中供应氧化气体和还原气体而产生的氧活性种类和羟基活性物质,以及由 使两种气体以使得表面上露出硅层和氮化硅层的多个工件W容纳在具有指定长度并可执行真空处理的处理容器22中。 从处理容器的长度方向的一端侧供给氧化气体和还原气体,在处理容器的长度方向的中途位置进一步供给氧化气体。 版权所有(C)2006,JPO&NCIPI