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2. 发明专利

JP2018092960A 洗浄用組成物および洗浄方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018092960A
公开(公告)日：2018-06-14
申请号：JP2015077250
申请日：2015-04-03
申请人： JSR株式会社
发明人：亀井康孝 , 羽山孝弘 , 三ツ元清孝 , 三星蘭 , 藤山等 , 安藤紗季 , 篠村尚志 , 加茂理
IPC分类号： C11D7/26 , C11D7/32 , C11D7/22 , H01L21/304
CPC分类号： C11D7/22 , C11D7/26 , C11D7/32 , H01L21/304
摘要：【課題】配線基板上の金属酸化膜や有機残渣を効率的に除去することができる洗浄用組成物及びそれを用いた洗浄方法を提供する。【解決手段】式(1)及び式(2)で表される化合物よりなる群から選択される少なくとも1種類以上の化合物と、カルボキシル基、スルホ基、アミノ基よりなる群から選択される少なくとも1種の官能基を有する水溶性高分子を含む。【選択図】なし

3. 发明专利

JP2007525851A The cleaning composition of nano-electronics and micro-electronics 有权
公开(公告)号：JP2007525851A
公开(公告)日：2007-09-06
申请号：JP2007501798
申请日：2005-02-11
申请人：マリンクロッド・ベイカー・インコーポレイテッドMallinckrodt Baker, Inc.
发明人：チーン・ピン・シャーマン・シュ
IPC分类号： H01L21/304 , C11D3/04 , C11D3/39 , C11D3/395 , C11D3/43 , C11D7/18 , C11D7/22 , C11D7/26 , C11D7/32 , C11D7/34 , C11D7/38 , C11D7/50 , C11D11/00 , C11D17/00 , G03F7/42
CPC分类号： C11D11/0047 , C11D3/3947 , C11D3/3956 , C11D7/22 , C11D7/261 , C11D7/34 , C11D7/5004 , C11D7/5009 , C11D7/5022 , G03F7/422 , G03F7/425 , G03F7/426
摘要：ナノエレクトロニクスおよびマイクロエレクトロニクスの基板を超臨界流体状態条件下で洗浄するためのナノエレクトロニクスおよびマイクロエレクトロニクスの洗浄組成物、特に、二酸化ケイ素、繊細な低κまたは高κ誘電体および銅、タングステン、タンタル、ニッケル、金、コバルト、パラジウム、白金、クロム、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、ハフニウム、チタン、モリブデン、スズおよび他のメタライゼーションを特徴とするナノエレクトロニクスおよびマイクロエレクトロニクスの基板、並びにＡｌまたはＡｌ（Ｃｕ）メタライゼーションおよび先端的な相互接続技術の基板に有用であり、これらとの適合性が改善された洗浄組成物は、本発明のナノエレクトロニクスおよびマイクロエレクトロニクスの洗浄組成物を含むナノエレクトロニクスおよびマイクロエレクトロニクスの洗浄組成物により提供される。これらは、以下を含む組成物により提供される：（１）２５０℃の温度またはそれ以下、および６００バール（５９２.２気圧、８７０２.３ｐｓｉ）の圧力またはそれ以下で超臨界流体状態に達する超臨界主要流体、および（２）第２の流体として、以下の製剤から選択される修飾製剤：ａ）以下を含む製剤：酸化剤；アミド類、スルホン類、スルホレン類、セレノン類および飽和アルコール類からなる群から選択される極性有機溶媒；および、場合による他の成分；ｂ）以下を含む珪酸塩不含製剤：アミド類、スルホン類、セレノン類および飽和アルコール類からなる群から選択される極性有機溶媒；強アルカリ塩基；および場合による他の成分；ｃ）以下を含む製剤：約０.０５重量％ないし３０重量％の、非求核性の正荷電対イオンを含有する１種またはそれ以上の非アンモニウム産生強塩基；約０.５ないし約９９.９５重量％の、１種またはそれ以上の、腐食阻害性溶媒化合物、該腐食阻害性溶媒化合物は、金属と錯体化し得る少なくとも２個の部位を有する；および、場合による他の成分；ｄ）以下を含む製剤：約０.０５ないし２０重量％の、１種またはそれ以上の非アンモニウム産生、非ＨＦ産生フッ化物塩；約５ないし約９９.９５重量％の水、有機溶媒または水と有機溶媒の両方；および、場合による他の成分；並びにｅ）以下を含む製剤：約０.０５％ないし３０重量％の、非求核性の正荷電対イオンを含有する１種またはそれ以上の非アンモニウム産生強塩基；約５ないし約９９.９５重量％の、１種またはそれ以上の立体障害のあるアミド溶媒；および、場合による他の成分。

4. 发明专利

KR102231986B1 KR102231986B1 - Antimicrobial cleansing composition 有权
公开(公告)号：KR102231986B1
公开(公告)日：2021-03-25
申请号：KR1020200142900A
申请日：2020-10-30
申请人： 주식회사 클린씨
发明人： 진무두
IPC分类号： C11D3/16 , C11D3/10 , C11D3/20
CPC分类号： C11D3/162 , C11D3/10 , C11D3/2079 , C11D7/12 , C11D7/22 , C11D7/265
摘要： 본 발명은 친환경적이며 효과적인 오염된 기름 제거를 위한, 메타규산나트륨 1 내지 5 중량%, 과탄산염 1 내지 3 중량%, 구연산 1 내지 6 중량% 및 잔부의 물을 포함하며, pH가 4 내지 6로 조절된, 항균 세정용 조성물을 제공한다.

5. 发明专利

JP2018002828A 清浄化用皮膜形成剤およびこれを用いた清浄化処理方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018002828A
公开(公告)日：2018-01-11
申请号：JP2016129920
申请日：2016-06-30
申请人：ライオン株式会社
发明人：渡邊洋介 , 猪俣和也
IPC分类号： C11D3/37 , C11D3/43 , B08B3/08 , C11D17/00
CPC分类号： B08B3/08 , C11D7/22 , C11D7/26 , C11D7/50 , C11D17/00
摘要：【課題】清浄化対象面への皮膜形成および汚れの除去が行いやすく、強固に付着した汚れを取り除くことのできる清浄化用皮膜形成剤およびそれを用いた清浄化処理方法を提供する。【解決手段】(A)成分:(メタ)アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹脂、ウレタン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、およびポリビニルアセタール樹脂から選ばれる1種以上の高分子と、(B)成分:水と、(C)成分:溶解度パラメーター(SP値)が7.5〜11.0である有機溶剤と、を含有し、かつ前記(A)成分/前記(C)成分で表される質量比が30〜450である清浄化用皮膜形成剤およびそれを用いた清浄化処理方法である。【選択図】なし

6. 发明专利

JP2014218437A 皮膚洗浄剤組成物有权
标题翻译：皮肤清洁剂组合物
公开(公告)号：JP2014218437A
公开(公告)日：2014-11-20
申请号：JP2013096092
申请日：2013-04-30
申请人：花王株式会社 , Kao Corp
发明人： YAMADA KOHEI , TOMOKUNI ATSUSHI
IPC分类号： A61K8/31 , A61K8/02 , A61K8/33 , A61K8/81 , A61Q19/10 , C11D1/66 , C11D3/18 , C11D3/20 , C11D3/37 , C11D7/22 , C11D7/24 , C11D7/26 , C11D7/50 , C11D17/04
CPC分类号： A61K8/02 , A61K8/31 , A61K8/33 , A61K8/81 , A61Q19/10 , C11D1/66 , C11D17/04 , C11D3/18 , C11D3/20 , C11D3/37 , C11D7/22 , C11D7/24 , C11D7/26 , C11D7/50
摘要：【課題】ウォータープルーフマスカラなどの落ちにくいメイクも十分に落とすことができ、使用後の肌が吸いつくような感じとなり、その感じが持続する皮膚洗浄剤組成物を提供する。【解決手段】次の成分(A)、(B)、(C)及び(D):(A)25℃で液状のエーテル油 0.1〜25質量%、(B)アクリル酸又はメタクリル酸を構成単位として含む水溶性ポリマー 0.003〜1質量%、(C)30℃における粘度が15mPa・s以下の炭化水素油 1〜30質量%、(D)水 60〜95質量%を含有し、成分(A)及び(C)の質量割合(A)/((A)+(C))が、0.05〜0.9である皮膚洗浄剤組成物。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够充分除去不能容易地除去的防水睫毛膏等的皮肤洗涤剂组合物，并且在施用之后具有对皮肤的粘附感，同时保持感觉。溶液：皮肤洗涤剂组合物含有以下成分（A），（B），（C）和（D）：（A）在25℃下为0.1〜25质量％的液体，（B）0.003〜1质量％包含作为结构单元的丙烯酸或甲基丙烯酸的水溶性聚合物，（C）在30℃下粘度为15mPa·s以下的烃油的1-30质量％，（D）60〜（A）和（C），（A）/（（A）+（C））的质量比为95〜95质量％。

7. 发明专利

JP4335967B2 Injection molding machine for resin switching cleaning agents 有权
公开(公告)号：JP4335967B2
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：JP2008509869
申请日：2007-04-04
申请人：脩井澤
发明人：脩井澤
IPC分类号： B29C45/17 , B29C33/72 , C11D3/37
CPC分类号： C11D3/3749 , B29C33/722 , B29C45/1753 , C08L23/04 , C08L25/06 , C11D7/22 , C11D11/0041 , C08L25/00 , C08L2666/04

8. 发明专利

JPWO2017043500A1 組成物、コンタクトレンズコーティング剤、コンタクトレンズの製造方法及びコンタクトレンズ审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017043500A1
公开(公告)日：2018-06-28
申请号：JP2016076235
申请日：2016-09-07
申请人： JSR株式会社 , JSRライフサイエンス株式会社
发明人：磯和宏 , 日向寺慧
IPC分类号： C08L33/24 , C08L33/14 , C08L39/04 , C08F220/34 , C08F220/54 , C08F226/06 , C08K5/29 , C08L79/04 , G02C13/00 , G02C7/04 , C08L101/14
CPC分类号： C08L33/26 , A61K9/08 , A61K47/34 , A61L12/10 , C08F220/34 , C08F220/36 , C08F220/56 , C08L43/02 , C08L53/00 , C08L83/08 , C08L101/00 , C08L2203/02 , C09D201/00 , C11D3/0078 , C11D3/37 , C11D3/3719 , C11D3/373 , C11D3/3757 , C11D3/3769 , C11D3/3776 , C11D3/3784 , C11D3/48 , C11D7/22 , G02B1/043 , G02B1/18
摘要：本発明は、組成物、コンタクトレンズコーティング剤、コンタクトレンズの製造方法及びコンタクトレンズに関し、該組成物は、HLB値が14以上である繰り返し単位(A)とHLB値が1以上14未満である繰り返し単位(B)とを有する重合体、及び、カチオン性基を有する殺菌性化合物を含有する。

9. 发明专利

JP6005135B2 カルシウム封鎖組成物有权
标题翻译：钙螯合组合物
公开(公告)号：JP6005135B2
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：JP2014506592
申请日：2012-04-20
申请人：リバートツプ・リニユーアブルズ・インコーポレイテツド
发明人：スミス,タイラー・エヌ , シヤーリー・リチヤード
IPC分类号： C11D7/26 , C11D7/04 , C09K3/00
CPC分类号： C11D3/2086 , C11D3/046 , C11D3/2075 , C11D3/2079 , C11D3/2082 , C11D7/10 , C11D7/22 , C11D7/265

10. 发明专利

JP4633785B2 有权
公开(公告)号：JP4633785B2
公开(公告)日：2011-02-23
申请号：JP2007501798
申请日：2005-02-11
IPC分类号： H01L21/304 , C11D3/04 , C11D3/39 , C11D3/395 , C11D3/43 , C11D7/18 , C11D7/22 , C11D7/26 , C11D7/32 , C11D7/34 , C11D7/38 , C11D7/50 , C11D11/00 , C11D17/00 , G03F7/42
CPC分类号： C11D11/0047 , C11D3/3947 , C11D3/3956 , C11D7/22 , C11D7/261 , C11D7/34 , C11D7/5004 , C11D7/5009 , C11D7/5022 , G03F7/422 , G03F7/425 , G03F7/426

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