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    • 4. 发明专利
    • 洗浄水溶液
    • 清洗液
    • JP2017025326A
    • 2017-02-02
    • JP2016167460
    • 2016-08-30
    • ラム リサーチ コーポレーションLAM RESEARCH CORPORATION
    • コリクス・アートゥアレデカー・フリッツ
    • H01L21/304C11D3/28C11D17/08C11D7/26C11D3/20C11D7/34C11D7/32
    • H01L21/02057C09K13/00C11D11/0047C11D3/0073C11D3/0084C11D7/16C11D7/261C11D7/3281C11D7/34
    • 【課題】電子デバイスの製造に関し、メタライゼーション構造を形成するためにキャップおよび誘電体を備えた金属線を有する基板のための新規な洗浄溶液配合に関する。 【解決手段】腐食防止剤と、可溶化剤と、脱酸素剤と、pとしても機能する錯化剤とを含む洗浄溶液。亦はpH調整剤と、随意的な錯化剤と、腐食防止剤とを含む洗浄溶液。可溶化剤を好ましくは有してもよく、更に好ましくは界面活性剤を有してもよく、その上誘電体エッチャントを望ましくは有してもよい洗浄溶液。腐食防止剤がトルオールトリアゾール又はベンゾトリアゾールである、洗浄溶液。腐食防止剤がトリオールトアゾール又はベンゾトリアゾールを含むことが好ましく、その上、好ましくは0.1〜10000ppm更に好ましくは、100〜2000ppmのトリアゾール化合物を含有し、腐食防止剤が、0.1〜10000ppm、より好ましくは、100〜2000ppmである、洗浄液。 【選択図】なし
    • A涉及电子器件的制造中,一种新型的清洗液制剂具有含一个盖和一个电介质,以形成金属化结构的金属线的基材。 A和腐蚀抑制剂,含有增溶剂,脱氧剂,和络合剂,其也用作p洗涤溶液。 或洗涤溶液包含pH调节剂,和任选的络合剂和腐蚀抑制剂。 它可以优选具有增溶剂,更优选为可具有表面活性剂的洗涤溶液它们在所述电介质蚀刻剂理想地可以具有。 腐蚀抑制剂是甲苯三唑或苯并三唑,洗涤溶液中。 缓蚀剂优选包括三奥尔特唑或苯并三唑,在其上,优选进一步优选为0.1至10000ppm,含有100的三唑化合物至2000ppm,腐蚀抑制剂,0.1〜10000 ppm,更优选 它是一个100〜2000ppm的,清洗溶液中。 系统技术领域