专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

JPWO2004078703A1 酸発生剤、スルホン酸、スルホニルハライド化合物および感放射線性樹脂組成物有权
公开(公告)号：JPWO2004078703A1
公开(公告)日：2006-06-08
申请号：JP2005503005
申请日：2004-02-20
申请人： Jsr株式会社 , Jsr株式会社
发明人：江幡　敏 , 敏江幡 , 勇王 , 勇王 , 西村　功 , 功西村
IPC分类号： C07C317/06 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C309/23 , C07C381/12 , C07D207/46 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/075 , H01L21/027
CPC分类号： C07C309/19 , C07C309/17 , C07C309/23 , C07C381/12 , C07C2602/42 , C07C2603/86 , C07D207/46 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/115 , Y10S430/122 , Y10S430/126
摘要：燃焼性や人体蓄積性に問題がなく、発生する酸の酸性度および沸点が高く、レジスト被膜中での酸の拡散長が適度に短く、マスクパターンの疎密度への依存性が小さく、平滑性に優れたレジストパターンを形成しうる新規な酸発生剤、該酸発生剤から発生するスルホン酸、該酸発生剤を合成する原料等として有用なスルホニルハライド化合物、並びに該酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。酸発生剤は、下記一般式(I)で表される構造を有する。〔但し、R1はアルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルコキシスルホニル基等の1価の置換基を示し、R2〜R4は水素原子またはアルキル基を示し、kは0以上の整数、nは0〜5の整数である。〕感放射線性樹脂組成物は、前記酸発生剤以外に、ポジ型では酸解離性基含有樹脂を含有し、ネガ型ではアルカリ可溶性樹脂と架橋剤を含有する。

2. 发明专利

JP3826777B2 Radiation-sensitive resin composition 有权
公开(公告)号：JP3826777B2
公开(公告)日：2006-09-27
申请号：JP2001371311
申请日：2001-12-05
申请人： Jsr株式会社
发明人：努下川 , 晴生岩沢 , 明弘林
IPC分类号： G03F7/075 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C309/23 , C07C381/12 , C07D333/46 , C07D333/78 , C07D335/02 , C07D347/00 , C08G77/14 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C309/23 , C07C381/12 , C07C2602/42 , C07C2603/86 , C07D333/46 , C07D333/78 , C07D335/02 , C07D347/00 , G03F7/0392 , G03F7/0757 , Y10S430/106 , Y10S430/122 , Y10S430/126
摘要： A radiation-sensitive resin composition comprising (A) an acid-dissociable group-containing polysiloxane and (B) a photoacid generator containing trifluoromethane sulfonic acid or a compound which generates an acid of the following formula (I), wherein Rf individually represents a fluorine atom or a trifluoromethyl group, and Ra represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a linear or branched alkyl group having 1-20 carbon atoms, or a linear or branched fluoroalkyl group having 1-20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted monovalent cyclic hydrocarbon group having 3-20 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted monovalent cyclic fluoro-hydrocarbon group having 3-20 carbon atoms. The radiation-sensitive resin composition of the present invention exhibits superior resolution, while maintaining high transparency to radiations and high dry etching resistance. The resin composition thus can greatly contribute to the lithography process that will become more and more minute in the future.

3. 发明专利

JP2005508317A Hydroxy Eiko Sen acid analogues 审中-公开
公开(公告)号：JP2005508317A
公开(公告)日：2005-03-31
申请号：JP2003528488
申请日：2002-09-09
申请人：ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム , 大正製薬株式会社
发明人：ジョン・アール・フォーク , 茂奥山 , 則之宮田 , 直哉小野 , 仁美平野 , 嘉久戸田 , 亨田名見 , 具通長南
IPC分类号： C07D277/20 , A61K31/047 , A61K31/08 , A61K31/16 , A61K31/18 , A61K31/185 , A61K31/201 , A61K31/231 , A61K31/275 , A61K31/41 , A61K31/426 , A61P1/02 , A61P1/04 , A61P1/16 , A61P1/18 , A61P7/02 , A61P9/00 , A61P9/10 , A61P11/00 , A61P11/06 , A61P11/08 , A61P13/12 , A61P15/00 , A61P15/06 , A61P17/02 , A61P17/06 , A61P19/00 , A61P19/02 , A61P27/02 , A61P29/00 , A61P31/00 , A61P31/04 , A61P37/02 , A61P37/06 , A61P43/00 , C07C33/04 , C07C33/044 , C07C33/42 , C07C59/01 , C07C59/42 , C07C59/46 , C07C59/60 , C07C69/708 , C07C69/732 , C07C235/28 , C07C255/15 , C07C255/16 , C07C259/06 , C07C309/08 , C07C309/10 , C07C309/20 , C07C309/23 , C07C309/24 , C07C309/68 , C07C311/04 , C07C311/17 , C07C311/51 , C07C317/44 , C07C323/52 , C07C323/66 , C07D257/04 , C07D277/34
CPC分类号： C07D257/04 , C07C33/044 , C07C33/423 , C07C33/426 , C07C59/42 , C07C59/46 , C07C59/60 , C07C69/708 , C07C235/28 , C07C255/15 , C07C259/06 , C07C309/10 , C07C309/20 , C07C309/23 , C07C309/24 , C07C309/68 , C07C311/17 , C07C311/51 , C07C317/44 , C07C323/52 , C07C323/66 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07D277/34
摘要：以下の式（Ｉ）で示されるヒドロキシエイコセン酸類似体、またはその薬学的に許容される塩若しくは水和物。
【化１】

（式中、
結合【化２】

はシスビニレン基またはエチニレン基を示し；
ＹはＣＨ
2 、ＯまたはＳ(Ｏ)
p を示し、ここでｐは０、１または２であり；
ｍは１〜４の整数を示し、ｎは０〜３の整数を示し、ｍとｎとの和は３〜７の整数であり；
Ｒ
1 はＣ
1-4 アルキル基またはＣ
3-8 シクロアルキル基を示し；
Ｒ
2 は水素原子またはメチル基を示し；
Ｒ
3 はＣＯＲ
4 、ニトリル基、ハロゲン原子、テトラゾール基またはチアゾリジンジオン基を示し；
Ｒ
4 はＯＲ
6 、ＮＨＲ
6 、Ｎ(ＯＨ)Ｒ
6 、ＮＨＳＯ
2 Ｒ
5 、グリセロールまたは機能性グリセロールを示し；
Ｒ
5 はＣ
1-15 アルキル基、Ｃ
6-10 アリール基、またはアルキル基、ハロゲンまたはアミノ基で置換されているＣ
7-14 アリール基を示し；
Ｒ
6 は水素原子、Ｃ
1-10 アルキル基、またはヒドロキシ基で置換されているＣ
1-10 アルキル基を示す）。本発明の化合物は、エラスターゼ放出阻害剤として有用である。

4. 发明专利

JP2018025789A レジスト材料及びパターン形成方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018025789A
公开(公告)日：2018-02-15
申请号：JP2017149258
申请日：2017-08-01
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：畠山潤 , 大橋正樹
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , C07C309/12 , C07C309/17 , C08F220/10 , G03F7/20 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C69/63 , C07C303/32 , C07C309/04 , C07C309/06 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C309/23 , C07C309/24 , C08F212/02 , C08F220/18 , C08F220/22 , C08F220/24 , C08F220/28 , C08F220/38 , C08F224/00 , C08F228/02 , C08F2220/185 , C08F2220/1866 , C08F2220/281 , C08F2220/282 , C08F2220/283 , C08F2220/303 , C08F2220/382 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2004 , G03F7/2006 , G03F7/2037 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/38
摘要：【課題】ポジ型レジスト材料においてもネガ型レジスト材料においても、高感度かつLWRやCDUが小さいレジスト材料、及びこれを用いるパターン形成方法を提供する。【解決手段】ベースポリマー、及び下記式(1−1)で表されるスルホニウム塩又は下記式(1−2)で表されるヨードニウム塩を含む酸発生剤を含むレジスト材料。【選択図】なし

5. 发明专利

JP2018022103A ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018022103A
公开(公告)日：2018-02-08
申请号：JP2016154694
申请日：2016-08-05
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：増永恵一 , 渡邉聡 , 小竹正晃 , 山田健司 , 大橋正樹
IPC分类号： G03F7/038 , C07C381/12 , G03F7/20 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C69/753 , C07C303/32 , C07C309/04 , C07C309/06 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C309/23 , C07C309/24 , C07C309/29 , C07C309/30 , C07C309/31 , C07C309/32 , C07C309/35 , C07C309/44 , C07C309/58 , C08F212/02 , C08F220/22 , C08F220/24 , C08F220/30 , C08F220/38 , C08F222/10 , C08F224/00 , C08F228/02 , C08F2220/283 , C08F2220/303 , C08F2220/382 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/2037 , G03F7/322 , G03F7/38
摘要：【課題】パターン形成時の解像性を向上し、かつ、ラインエッジラフネスの低減されたパターンを得ることができるネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)下記式(A)で表されるスルホニウム化合物、及び(B)側鎖にヒドロキシ芳香族環を有する繰り返し単位を含むポリマーを含むベースポリマーを含むネガ型レジスト組成物。【選択図】なし

6. 发明专利

JP2012136507A Base reactive photoacid generator and photoresist comprising the same 审中-公开
标题翻译：基础反应光电发生器和包含该光电发生器的光电发生器
公开(公告)号：JP2012136507A
公开(公告)日：2012-07-19
申请号：JP2011249714
申请日：2011-11-15
申请人： Rohm & Haas Electronic Materials Llc , ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
发明人： AQAD EMAD , LI MINGQI , XU CHENG-BAI , WANG DEYAN , LIU CONG , OH JOON SEOK , YAMADA SHINTARO
IPC分类号： C07C381/12 , C07C309/17 , C08F20/00 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： C07C381/12 , C07C63/72 , C07C303/32 , C07C309/04 , C07C309/06 , C07C309/08 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C309/20 , C07C309/23 , C07C309/24 , C07C2602/42 , C08F220/22 , C08F228/02 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , G03F7/38
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide new photoacid generator compounds and photoresist compositions that comprise the compounds, especially to provide photoacid generator compounds that comprise base-cleavable groups.SOLUTION: Disclosed are the photoresist compositions comprising the photoacid generator compounds that are shown by compounds obtained by the following reactions.
摘要翻译：要解决的问题：提供新的光酸产生剂化合物和包含该化合物的光致抗蚀剂组合物，特别是提供包含基础可裂解基团的光致酸产生剂化合物。解决方案：公开了包含通过以下反应获得的化合物显示的光酸产生剂化合物的光致抗蚀剂组合物。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

7. 发明专利

JP2015194703A 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物审中-公开
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物，形成耐药性图案的方法，辐射敏感酸发生器和化合物
公开(公告)号：JP2015194703A
公开(公告)日：2015-11-05
申请号：JP2015002710
申请日：2015-01-08
申请人： JSR株式会社
发明人：齊藤隆一 , 生井準人
IPC分类号： G03F7/039 , H01L21/027 , C07C309/19 , C07C309/23 , C07C381/12 , C09K3/00 , C08F20/12 , C08F12/22 , C07D493/08 , C07D495/08 , C07D309/10 , C07D307/33 , C07D317/72 , G03F7/004
CPC分类号： C07C309/19 , C07C309/23 , C07D307/33 , C07D317/72 , C07D327/04 , C07D333/50 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要：【課題】LWR性能、CDU性能、解像性、断面形状の矩形性、焦点深度、露光余裕度、MEEF性能及び感度に優れる感放射線性樹脂組成物の提供を目的とする。【解決手段】本発明は、酸解離性基を含む構造単位を有する重合体、及び感放射線性酸発生剤を含有し、上記感放射線性酸発生剤が下記式(A)で表される化合物を含む感放射線性樹脂組成物である。式(A)中、R x は、脂環式炭化水素基、上記脂環式炭化水素基の炭素−炭素間に−O−、−COO−、−OCOO−、−S−、−SO 2 O−、−NHCOO−、−SiR S 2 −を含む脂肪族複素環基、又は上記脂環式炭化水素基及び上記脂肪族複素環基が有する水素原子を−OH、−CN、炭化水素基、オキシ炭化水素基、ハロゲン原子で置換した基であり、R t 及びR y は、R x の環構造上の同一炭素原子又は互いに隣接する2つの炭素原子にそれぞれ結合している。M + は、感放射線性オニウムカチオンである。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：为了提供LWR（线宽粗糙度）性能优异的辐射敏感性树脂组合物，CDU（临界尺寸均匀性）性能，分辨率，截面轮廓的矩形度，焦深，曝光宽容度，MEEF（掩模误差增强因子）性能和灵敏度。解决方案：辐射敏感性树脂组合物包含具有含有酸解离基团的结构单元的聚合物和辐射敏感性酸发生剂。辐射敏感发生器包含由下式（A）表示的化合物。在式（A）中，R代表脂环族烃基，在碳 - 碳上含有-O-，-COO-，-OCOO-，-S-，-SOO - ， - NHCOO-或-SiR-的脂族杂环基或上述脂环族烃基或上述脂肪族杂环基的氢原子取代-OH，-CN，烃基，羟基烃基或卤原子取代的基团; Rand Rare各自键合到相同的碳原子上或分别键合在R的环状结构中的相邻的两个碳原子上; 并且M表示辐射敏感的阳离子。

8. 发明专利

JP2013522259A Compositions containing a dibenzoylmethane type screening agent and a hydrophilic or water-soluble merocyanine uv blockers, and methods of light stabilizing a dibenzoylmethane type screening agent 审中-公开
公开(公告)号：JP2013522259A
公开(公告)日：2013-06-13
申请号：JP2012557477
申请日：2011-03-07
申请人：ロレアル
发明人：エルヴェ・リシャール , ブノワ・ミュラー
IPC分类号： A61K8/35 , A61K8/41 , A61K8/46 , A61K8/49 , A61Q17/04
CPC分类号： A61K8/35 , A61K8/40 , A61K8/41 , A61K8/44 , A61K8/46 , A61K8/466 , A61K8/49 , A61K8/4926 , A61Q17/04 , C07C229/30 , C07C229/46 , C07C255/30 , C07C255/31 , C07C309/12 , C07C309/14 , C07C309/15 , C07C309/22 , C07C309/23 , C07C317/48 , C07C2601/16 , C07D211/46 , C07D263/14 , C07D277/10
摘要：本発明は、i)ジベンゾイルメタン誘導体型の少なくとも1種の遮断剤と、ii)少なくとも1種の特定の親水性又は水溶性のメロシアニン系UV遮断剤、特に、下記の式(I)又は(II):

(式中、基のうち少なくとも1つ又は2つは、
- その酸若しくは塩化形態のアルキルスルホネート基、
- 又は1つ若しくは2つのヒドロキシル基のいずれかを含有する)
のうちの1つに相当するものとの組合せを含有する化粧品組成物に関する。
本発明はさらに、ジベンゾイルメタン誘導体型の少なくとも1種の遮断剤を、有効量の少なくとも1種の特定の親水性又は水溶性のメロシアニン系UV遮断剤、特に、式(I)又は(II)のうちの1つに相当するもので照射光安定化させる方法にも関する。

9. 发明专利

JP2005503412A Hydroxy aliphatic sulfonic acid analogues 审中-公开
公开(公告)号：JP2005503412A
公开(公告)日：2005-02-03
申请号：JP2003528770
申请日：2002-09-09
申请人：ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム , 大正製薬株式会社
发明人：ジョン・アール・フォーク , 茂奥山 , 則之宮田 , 直哉小野 , 仁美平野 , 嘉久戸田 , 亨田名見 , 具通長南
IPC分类号： C07D277/20 , A61K31/047 , A61K31/08 , A61K31/16 , A61K31/18 , A61K31/185 , A61K31/201 , A61K31/231 , A61K31/275 , A61K31/41 , A61K31/426 , A61P1/02 , A61P1/04 , A61P1/16 , A61P1/18 , A61P7/02 , A61P9/00 , A61P9/10 , A61P11/00 , A61P11/06 , A61P11/08 , A61P13/12 , A61P15/00 , A61P15/06 , A61P17/02 , A61P17/06 , A61P19/00 , A61P19/02 , A61P27/02 , A61P29/00 , A61P31/00 , A61P31/04 , A61P37/02 , A61P37/06 , A61P43/00 , C07C33/04 , C07C33/044 , C07C33/42 , C07C59/01 , C07C59/42 , C07C59/46 , C07C59/60 , C07C69/708 , C07C69/732 , C07C235/28 , C07C255/15 , C07C255/16 , C07C259/06 , C07C309/08 , C07C309/10 , C07C309/20 , C07C309/23 , C07C309/24 , C07C309/68 , C07C311/04 , C07C311/17 , C07C311/51 , C07C317/44 , C07C323/52 , C07C323/66 , C07D257/04 , C07D277/34
CPC分类号： C07D257/04 , C07C33/044 , C07C33/423 , C07C33/426 , C07C59/42 , C07C59/46 , C07C59/60 , C07C69/708 , C07C235/28 , C07C255/15 , C07C259/06 , C07C309/10 , C07C309/20 , C07C309/23 , C07C309/24 , C07C309/68 , C07C311/17 , C07C311/51 , C07C317/44 , C07C323/52 , C07C323/66 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07D277/34
摘要：以下の式（Ｉ）で示されるヒドロキシ脂肪族スルホン酸類似体、またはその薬学的に許容される塩若しくは水和物。
【化１】

（式中、
Ｘはエチレン基、ビニレン基またはエチニレン基を示し；
Ｙはエチレン基、ビニレン基、エチニレン基、ＯＣＨ
2 またはＳ(Ｏ)
p ＣＨ
2 を示し、ここでｐは０、１または２であり；
ｍは１〜５の整数を示し；
ｎは０〜４の整数を示し；
Ｒ
1 はＣ
1-8 アルキル基、Ｃ
3-8 シクロアルキル基、Ｃ
3-8 シクロアルキル基で置換されたＣ
1-4 アルキル基、アリ−ル基で置換されたＣ
1-4 アルキル基またはアリールオキシ基で置換されたＣ
1-4 アルキル基を示し；
Ｒ
2 は水素原子またはメチル基を示し；
Ｒ
1 およびＲ
2 は、それらが結合している炭素原子と一緒になってＣ
3-8 シクロアルキル基を形成していてもよい；
Ｒ
3 は水素原子またはＣ
2-8 アシル基を示し；
Ｒ
4 はＯＲ
5 またはＮＨＲ
6 （ここでＲ
5 は水素原子、Ｃ
1-4 アルキル基、アルカリ金属、アルカリ土類金属またはアンモニウム基を示し、そしてＲ
6 は水素原子またはＣ
1-4 アルキル基を示す）を示す）。本発明の化合物は、エラスターゼ放出阻害剤として有用である。

10. 发明专利

JP2018516891A S−ケタミンの(S)−CSA塩、S−ケタミンの(R)−CSA塩、及びS−ケタミンの調製プロセス审中-公开
公开(公告)号：JP2018516891A
公开(公告)日：2018-06-28
申请号：JP2017558956
申请日：2016-05-13
申请人：ヤンセンファーマシューティカエヌ.ベー.
发明人：シェン,チェンイ , フローゲル,オリバー , ジャスタス,マイケル , マウラー,アドリアン , ロイター,カール , シュトリットマター,トビアス , ウェデル,トビアス
IPC分类号： C07C221/00 , C07C309/19 , A61K31/13 , A61P9/12 , A61P11/00 , A61P25/00 , A61P25/04 , A61P25/24 , C07C225/20
CPC分类号： C07C309/23 , C07B2200/07 , C07B2200/13 , C07C225/20 , C07C309/19 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , H05K999/99
摘要：本発明は、エスケタミンの調製プロセスを目的とする。本発明は更に、ラセミ体、つまり、エナンチオ濃縮された混合物であるケタミンから、S−ケタミンを分割するプロセスを目的とする。本発明は更に、S−ケタミンの(S)−CSA塩、より具体的にはS−ケタミンの(S)−CSA塩の一水和物形態、及びR−ケタミンの(R)−CSA塩を目的とする。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式