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1. 发明专利

JPWO2017146177A1 コイルばね処理装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017146177A1
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：JP2017006940
申请日：2017-02-23
申请人：日本発條株式会社
发明人：岡田秀樹 , 横田大介 , 森山千里 , 秋山聡史 , 駒崎雅也 , 永安剛
IPC分类号： B24C3/24 , B24C9/00 , B24C1/10
CPC分类号： B24C1/10 , B24C3/24 , B24C9/00
摘要：コイルばね処置装置は、端末位置決め装置(30)と、ショットピーニング装置(50)と、制御部(98)とを含んでいる。端末位置決め装置(30)は、コイルばね(1)の端末(1c,1d)の位置決めをなす。ショットピーニング装置(50)は、ターンテーブル機構(52)と、加圧機構(93)と、コイルばね(1)を回転させる自転機構(100)と、ショットを投射する投射機構(57)とを含んでいる。保持機構(81,82)は、それぞれ、下側の位置ずれ防止治具(85)と、上側の位置ずれ防止治具(91)とを有している。制御部(98)は、第1の保持機構(81)と第2の保持機構(82)とをコイルばね(1)の座巻部(1a,1b)に応じた自転停止位置に停止させる。

2. 发明专利

JP6318048B2 インペラ昇降式ショットピーニング装置有权
公开(公告)号：JP6318048B2
公开(公告)日：2018-04-25
申请号：JP2014167758
申请日：2014-08-20
申请人：日本発條株式会社
发明人：森山千里 , 秋山聡史 , 駒崎雅也 , 永安剛 , 岡田秀樹 , 横田大介
IPC分类号： B24C3/24 , F16F1/02 , B24C1/10
CPC分类号： B24C1/10 , B24C3/24 , F16F1/02 , F16F1/04

3. 发明专利

JP2014176903A Shot treatment device 审中-公开
标题翻译： SHOT治疗装置
公开(公告)号：JP2014176903A
公开(公告)日：2014-09-25
申请号：JP2011158427
申请日：2011-07-19
申请人： Sintokogio Ltd , 新東工業株式会社
发明人： YAMAMOTO KAZUTOSHI
IPC分类号： B24C3/24 , B24C9/00
CPC分类号： B24C3/24
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a shot treatment device by which a total time for treatment can be shortened.SOLUTION: A rotating shaft member 46 provided at a ceiling portion 14U of a rotary 14 suspends and supports objects W to be treated in treatment chambers R1, and can revolve by rotation of the rotary 14 around a shaft line in a vertical direction of a device by a rotation drive mechanism 60 and rotate in a projection area 40B. The rotary 14 is halted by the rotation drive mechanism 60 at three positions of the projection area 40B as a position at which revolving of the objects W to be treated is stopped. Further, in the treatment chambers R1 are arranged side by side three chambers in the circumferential direction of the rotary 14. When the rotary 14 is halted at the position to stop the revolving, where projection is applied to the objects W to be treated, one chamber of the treatment chambers R1 is arranged in a carry-in area 40A and another chamber of the treatment chambers R1 is arranged in a carry-out area 40C.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种可以缩短治疗总时间的射击治疗装置。解决方案：设置在旋转体14的顶部14U处的旋转轴构件46悬挂并支撑待处理的待处理物体W R1，并且可以通过旋转驱动机构60围绕装置的垂直方向围绕轴线旋转旋转，并且在投影区域40B中旋转。旋转体14在投影区域40B的三个位置处被旋转驱动机构60停止，作为待处理物体W的旋转停止的位置。此外，处理室R1在旋转体14的圆周方向上并排配置三个室。当旋转体14在停止旋转的位置处停止时，向被处理物W施加投影，处理室R1的室被配置在搬运区域40A中，处理室R1的另一个室被配置在搬出区域40C中。

4. 发明专利

JPWO2017146173A1 ショットピーニング装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017146173A1
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：JP2017006931
申请日：2017-02-23
申请人：日本発條株式会社
发明人：岡田秀樹 , 横田大介 , 森山千里 , 秋山聡史 , 駒崎雅也 , 永安剛
IPC分类号： B24C3/24 , B24C9/00 , B24C1/10
CPC分类号： B24C1/10 , B24C3/24 , B24C3/32 , B24C9/00
摘要：ショットピーニング装置(50)は、公転軸(X1)を中心に回転するターンテーブル(79)と、ターンテーブル(79)と一体に移動する保持機構(81,82)と、コイルばね(1)を圧縮する加圧機構(93)と、コイルばね(1)を自転させる自転機構(100)と、圧縮されたコイルばね(1)に向けてショットを投射する投射機構(57)と、コイルばね(1)に加わる荷重を検出するロードセル(96,97)と、制御部(98)とを含んでいる。ロードセル(96,97)から出力される信号が制御部(98)に入力されることにより、ショットピーニング中にコイルばね(1)に負荷された荷重の経時的な変化が検出される。

5. 发明专利

JP2015077638A ショット処理装置及びショット処理方法审中-公开
标题翻译： SHOT加工设备和SHOT处理方法
公开(公告)号：JP2015077638A
公开(公告)日：2015-04-23
申请号：JP2012028952
申请日：2012-02-13
申请人：新東工業株式会社
发明人：山本万俊
IPC分类号： B24C9/00 , B24C3/24
CPC分类号： B24C3/20 , B21D31/06 , B24C1/00 , B24C1/10 , B24C3/08 , B24C3/24 , B24C9/00
摘要：【課題】被処理対象物を小テーブル(第二回転テーブル)と共に安定的に回転させながら当該被処理対象物に対して投射材を投射することができるショット処理装置を得る。【解決手段】回転可能な大テーブル30上には、回転可能な複数の小テーブル32が配置されており、小テーブル32上に被処理対象物12が載せられる。大テーブル30における投射範囲の上方側には、押さえ部48が設けられている。押さえ部48は、小テーブル32上の被処理対象物12の上方側に離間して配置される退避位置と、小テーブル32上の被処理対象物12を上方側から押さえる押さえ位置と、の間で昇降機構46により昇降される。また、押さえ部48は、第三駆動機構74によって、小テーブル32の回転軸33と同軸周りにかつ小テーブル32と同じ回転方向及び同じ回転速度で回転駆動させられる。【選択図】図6
摘要翻译：要解决的问题：获得能够将投影材料朝向被处理物体投影的投射处理装置，同时用小台（第二旋转台）稳定地旋转物体。解决方案：在可旋转的大工作台30上，多个设置有小的可旋转台32，并且处理对象12被放置在小桌子32上。在大台子30上的投影范围的上侧设置有按压部分48。按压部分48通过升降机构46在与小桌子32上的被处理物体12的上侧分开布置的退避位置和从上侧将加工对象12按压在小桌子32上的按压位置之间升高。此外，按压部48通过第三驱动机构74与小工作台32的旋转轴33同轴旋转驱动，与小台32相同的旋转方向和旋转速度相同。

6. 发明专利

JPWO2012060125A1 ショット処理装置有权
公开(公告)号：JPWO2012060125A1
公开(公告)日：2014-05-12
申请号：JP2012541763
申请日：2011-05-31
申请人：新東工業株式会社
发明人：万俊山本 , 万俊山本
IPC分类号： B24C3/24
CPC分类号： B24C1/10 , B24C3/24
摘要：ショット処理される被処理対象物の品質の安定性を維持しつつ、被処理対象物の処理待ち時間を抑えることができるショット処理装置を得る。投射範囲と非投射範囲とを含む位置には大テーブル30が配置されて回転可能となっている。また、大テーブル30上には複数の小テーブル32が配置されると共に、小テーブル32は大テーブル30の回転軸31と平行な回転軸33を備えて回転可能となっており、被処理対象物12が載せられる。そして、小テーブル32上の被処理対象物12に対しては、投射材が遠心式投射機20により遠心力で加速されて投射される。ここで、小テーブル32上の被処理対象物12は、押さえ機構46の押さえ部48によって上方側から押さえられる。また、押さえ部48は被処理対象物12と共に回転可能となっている。【選択図】図4

7. 发明专利

JP5742851B2 ショット処理装置有权
公开(公告)号：JP5742851B2
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：JP2012541763
申请日：2011-05-31
申请人：新東工業株式会社
发明人：山本万俊
IPC分类号： B24C3/24
CPC分类号： B24C1/10 , B24C3/24

8. 发明专利

JPWO2013005469A1 ショット処理装置有权
标题翻译：拍摄处理装置
公开(公告)号：JPWO2013005469A1
公开(公告)日：2015-02-23
申请号：JP2013522505
申请日：2012-04-25
申请人：新東工業株式会社
发明人：万俊山本 , 万俊山本
IPC分类号： B24C3/24 , B24C7/00 , B24C9/00
CPC分类号： B24C3/24
摘要：ショット処理装置(10)は、キャビネット(12)と、ロータリハンガ(20)と、ロータリハンガ(20)を回転させる公転駆動モータ(24)と、ロータリハンガ(20)上の複数の部屋(42)のうちキャビネット(12)の内部における投射材投射領域(18A〜18D)に位置された部屋(42)に設けられたハンガを自転させる自転駆動モータ(48)と、ロータリハンガ(20)を構成する回転盤(34)の径方向外側から複数の部屋(42)のうち投射材投射領域(18A〜18D)に位置された部屋(42)に投射材を投射してワーク(W)をショット処理する遠心投射機(52A〜52D)と、遠心投射機(52A〜52D)から投射された投射材を回収して水平方向に搬送する複数の下部スクリューコンベア(68A、68B)と、この下部スクリューコンベア(68A、68B)によって搬送された投射材を上方に搬送する複数のバケットエレベータ(70A、70B)と、を備えている。
摘要翻译：镜头处理单元（10）是机壳（12），旋转吊架（20），和旋转驱动电机，用于旋转所述旋转吊架（20）（24），在旋转衣架多个腔室（20）（42）上，以在旋转悬挂（20）的内部中旋转所述提供位置的房间（42）与突起构件突出区域（18A-18D）构成的机壳（12）的旋转衣架驱动马达（48）通过喷扫材料投射到位于房间拍摄媒体投影区域（18A-18D）出的旋转板（34）的多个径向外室（42）的（42）拍摄处理的工件（W）离心投影仪和（52A到52D），以及用于水平传送到从离心投影仪（52A〜52D）（68A，68B），下部螺旋式输送（恢复投射喷丸材料的多个下部螺旋式输送的包括68A，多个轮叶的电梯（70A用于传送已由68B向上输送投射材料），和70B）时，有。

9. 发明专利

JPWO2012042991A1 ショット処理装置有权
公开(公告)号：JPWO2012042991A1
公开(公告)日：2014-02-06
申请号：JP2012536254
申请日：2011-06-24
申请人：新東工業株式会社
发明人：山下　恭司 , 恭司山下 , ジョン・ヨンギョ , 鈴木　常俊 , 常俊鈴木 , 山本　卓司 , 卓司山本
IPC分类号： B24C3/14 , B24C5/06
CPC分类号： B24C3/24 , B24C9/00
摘要：本発明のショット処理装置10は、自転可能且つスライド可能とされ、自転軸線上にワーク12を保持する保持具14と、それぞれ回転可能な羽根車60を有し、それぞれの羽根車60の回転軸線Aが互いに平行とされると共に、互いに羽根車60の回転軸線方向にオフセットして配置され、且つ、各羽根車60の回転に伴ってワーク12に向けて並列して投射材を投射可能とされた一対の遠心式投射機22,24とを備えている。この構成によれば、一対の遠心式投射機22,24から投射材がそれぞれ投射された場合でも、一方の遠心式投射機22からの投射材と他方の遠心式投射機24からの投射材が相殺されることが抑制されるので、投射効率を向上させることができる。【選択図】図1

10. 发明专利

JPWO2015136737A1 ショット処理装置有权
公开(公告)号：JPWO2015136737A1
公开(公告)日：2017-04-06
申请号：JP2014558344
申请日：2014-08-29
申请人：新東工業株式会社
发明人：武志杉浦 , 武志杉浦 , 忠伸大山 , 忠伸大山
IPC分类号： B24C3/24
CPC分类号： B24C1/10 , B24C3/20 , B24C3/24
摘要：一側面に係るショット処理装置は、処理対象物に対して投射材を投射する投射機と、処理対象物を下方から支持すると共に、上下方向に沿って延びる軸線を中心に回転可能なセット台と、処理対象物を介してセット台に対向する押え部を有する押え機構であり、該押え部は軸線を中心に回転可能であると共に、軸線方向に沿って移動可能に構成される、該押え機構と、伝達機構を介して押え部に回転力を付与する回転力駆動部と、押え機構の上方において昇降可能な押圧ホルダを有し、該押圧ホルダが押え部と接触する基準高さよりも上方の位置にある場合には押え機構に離間すると共に、押圧ホルダが基準高さよりも下方の位置にある場合には押え機構と連結することで押え部を介して処理対象物に押圧力を付与する昇降機構と、を備える。

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