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1. 发明专利

JP2018524178A 複数ビーム付加的製造审中-公开
公开(公告)号：JP2018524178A
公开(公告)日：2018-08-30
申请号：JP2017564000
申请日：2016-06-10
申请人：アイピージーフォトニクスコーポレーション
发明人：ジョセフ・ダラローサ , ウィリアム・オニール , マーティン・スパークス , アンドリュー・ペイン
IPC分类号： B29C64/277 , B29C64/153 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B29C64/30 , C23C26/00 , B23K26/064 , B23K26/342
CPC分类号： B23K26/342 , B22F3/1055 , B22F2003/1056 , B23K26/0604 , B23K26/0626 , B23K26/073 , B23K26/082 , B23K26/0869 , B23K2103/08 , B29C64/153 , B29C64/20 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y50/02 , Y02P10/295
摘要：複数ビーム付加的製造のためのシステム及び方法は、光(例えばレーザー光)の複数ビームを使用して、選択領域内の粉体材料の層を、粉体材料が融合してボクセルを形成するまで露光し、ボクセルは3次元構造の構築層を形成する。複数ビームが、粉体領域を融合するために、光学ヘッドによって複数ビーム順次露光(例えば事前加熱、溶融及び制御冷却を有する)を提供する同じ領域に順次向けられるように、光が選択された光源から発生され、少なくとも1つの直線内の光学ヘッドに配置された出力端を有する光ファイバーのアレイ内に結合される。複数順次ビームは、複数の融合領域が各構築層を形成するように、様々な技術(例えば光学ヘッドを移動することによる)を用いて、様々な走査パターンに従って移動されうる。

3. 发明专利

JP6359643B2 表面下の孔隙を除去する方法审中-公开
公开(公告)号：JP6359643B2
公开(公告)日：2018-07-18
申请号：JP2016512066
申请日：2014-05-02
申请人：ユナイテッドテクノロジーズコーポレイション , UNITED TECHNOLOGIES CORPORATION
发明人：オニール,クリストファー,エフ.
IPC分类号： B22F3/105 , B22F3/16 , B23K15/00 , B23K26/00 , B28B1/30 , B33Y10/00 , B29C64/135
CPC分类号： B23K26/0604 , B22F3/1055 , B23K26/342 , B29C64/153 , B29C64/386 , B29K2105/251 , B33Y10/00

4. 发明专利

JP2018514940A 偏光制御レーザーライン投射器审中-公开
公开(公告)号：JP2018514940A
公开(公告)日：2018-06-07
申请号：JP2017546084
申请日：2016-02-23
申请人：コヒーレントレーザーシステムズゲーエムベーハーウントコンパニーカーゲー
发明人：ジモーン, フランク , ヴェンツェル, トーマス , シュヴェンガー, ルートヴィヒ , ファンデアヴィルト, パウル
IPC分类号： H01L21/268 , G02B5/30 , G02B13/14 , G02B27/28 , H01L21/20
CPC分类号： G02B27/285 , B23K26/0604 , B23K26/0608 , B23K26/0648 , B23K26/067 , B23K26/0738 , B23K2203/56 , G02B27/0905 , G02B27/286 , H01L21/02532 , H01L21/02678 , H01L21/02686 , H01L27/1285
摘要：レーザーライン投射装置(10)において、6つの間隔を空けられた非偏光レーザービームは、薄膜偏光子(14)、リフレクタ(18)、および2つの偏光回転子(20A、20B)の組み合わせによって、低損失で平面偏光させられる。2つのビームは、3つの偏光配向の各々において偏光させられる。偏光配向のうちの2つは、P配向およびS配向において互いに直交して整列させられる。他の偏光配向は、中間配向において非直交で整列させられる。ビームは、強度均質化され、放射のラインに投射される。放射のライン上の任意の点は、Sから中間配向を通じてPへ、そして中間配向を通じてSに戻る、偏光配向の角度分布を有する光線から形成される。

5. 发明专利

JP2017194686A レーザ装置有权
公开(公告)号：JP2017194686A
公开(公告)日：2017-10-26
申请号：JP2017083240
申请日：2017-04-19
申请人：リモパテントフェルヴァルトゥングゲーエムベーハーウントコー.カーゲー , LIMO Patentverwaltung GmbH & Co.KG
发明人：ミトラ,トーマス , ドメルス−フェルケル,ザビーネ
IPC分类号： H01S5/022 , H01S5/40 , G02B5/04 , G02B5/30 , G02B27/28
CPC分类号： G02B27/126 , B23K26/0604 , B23K26/0608 , B23K26/0652 , G02B27/0905 , G02B27/0972 , G02B27/10 , G02B27/144 , G02B27/283 , H01S5/4012 , H01S5/4087 , G02B1/11 , G02B27/1006
摘要：【課題】少なくとも2つの、異なって直線偏光されるレーザビームの偏光結合を可能にするレーザ装置を提供する。【解決手段】レーザ装置1の偏光結合手段は、光入射面80と、反射面81と、光出射面82とを有する偏光結合プリズム8として形成される。第1レーザユニット2のレーザビーム5は、光入射面80を通過して、偏光結合プリズム8内に入射可能である。第1レーザユニット2のレーザビーム5は、内部全反射の臨界角よりも大きな角度で反射面81上にぶつかる。第1レーザユニット2のレーザビーム5は、反射面81における内部全反射の後に、そこを通過して、偏光結合プリズム8から出射可能であり、そこで屈折可能である。第2レーザユニット3のレーザビーム6は、光出射面82で、第1レーザユニット2の、光出射面82で屈折されたレーザビーム5の伝播方向に対応する方向に反射可能であるようにぶつかる。【選択図】図1

6. 发明专利

JP2017514990A 加工物の表面をレーザ硬化するための方法及びシステム审中-公开
公开(公告)号：JP2017514990A
公开(公告)日：2017-06-08
申请号：JP2016555828
申请日：2015-02-11
申请人：イーティーエックスイー−ティーエーアール、エス.エー. , イーティーエックスイー−ティーエーアール、エス.エー.
发明人：ドミンゲス、ジーザス , サンチョ、ポーラ , ビルバオ、オラツ
IPC分类号： C21D1/09 , B23K26/064 , B23K26/08 , C21D9/30 , F16C3/04
CPC分类号： C21D10/005 , B23K26/0604 , B23K26/082 , B23K26/0823 , B23K26/083 , B23K26/0869 , B23K26/352 , B23K37/0235 , B23K2201/005 , B23K2203/04 , C21D1/06 , C21D1/09 , C21D9/30
摘要：クランク軸のジャーナルの表面などの、加工物の表面領域をレーザ硬化する方法であって、レーザスポットが表面領域の複数の異なる部分上に続いて投射されることを可能にすべく、加工物の表面とレーザ源との間で相対運動を生成する段階であって、相対運動している間に、表面領域上に2次元の同等の有効レーザスポット(5)を生成するように、レーザビーム(2)を繰り返し走査する、段階を備える。走査パターンは、レーザスポットが特定の順序でたどる、ほぼ平行である少なくとも3つの線を含み得る。加工物が複数の異なる幅を有する多数のジャーナルを備える場合、2つのレーザ源(1、1A)がより広い複数のジャーナルの表面領域を硬化するのに用いられ得る。

7. 发明专利

JP2017511754A 小さな孔を穿孔するシステム、孔を穿孔する方法、穿孔するための製品、およびさらなる穿孔の方法有权
公开(公告)号：JP2017511754A
公开(公告)日：2017-04-27
申请号：JP2016536740
申请日：2014-12-03
申请人：マイクロルーション・インコーポレイテッドMicrolution Inc. , マイクロルーション・インコーポレイテッドMicrolution Inc.
发明人：アンドリュー・ホネッガー , アンドリュー・フィリップ , オニク・バッタチャリヤ , グジェゴシュ・ノウォビルスキー
IPC分类号： B23B41/00 , B23B35/00 , B23K26/382 , B23P23/04 , F02M61/18
CPC分类号： B23K26/388 , B23K26/0093 , B23K26/0604 , B23K26/382 , B23K26/384 , B23K26/389 , B23P23/04 , Y10T408/05
摘要：本願は、小さな孔を対象とする小スケールかつ高精度のドリル動作を行う工作機械に向けられる。工作機械が設計される小さな孔の用途は、1つ又は複数の直径を有する孔を含む。部品は、大きな直径の孔と小さな直径の孔とを有し、大きな直径の孔は、部品の厚みの一部を貫通し、小さな直径の孔は、大きな直径の孔の底部から部品の厚みの残りの部分を貫通する。さらに、工作機械は、以下の任意のカテゴリのパーツとともに構成される;カテゴリ(i)ステップホールとフローホールの両方が工作機械を用いて生成される:カテゴリ(ii)ステップホールは上流プロセスにより生成され、工作機械は部品を受け入れ、ステップホールを測定し、フローホールを生成する:カテゴリ(iii)ステップホールは使用されておらず、工作機械は部品を受け入れ、原表面を測定し、フローホールを生成する。

8. 发明专利

JPWO2014136237A1 レーザアニール装置、半導体装置の製造方法有权
标题翻译：激光退火装置，一种制造半导体器件的方法
公开(公告)号：JPWO2014136237A1
公开(公告)日：2017-02-09
申请号：JP2015504066
申请日：2013-03-07
申请人：三菱電機株式会社
发明人：和徳金田 , 和徳金田 , 忠玄湊 , 忠玄湊 , 川瀬　祐介 , 祐介川瀬
IPC分类号： H01L21/268 , H01L21/265
CPC分类号： H01L21/268 , B23K26/0604 , B23K26/0622 , B23K26/0732 , B23K26/082 , B23K26/0853 , H01L21/324 , H01L29/66333
摘要：本願の発明にかかるレーザアニール装置は、被加熱物をのせるステージと、第1連続レーザ光を放射する第1レーザ素子と、該第1連続レーザ光を該被加熱物へ導き、該被加熱物に第1照射領域を形成する第1光学系と、該第1連続レーザ光よりも波長の短い第2連続レーザ光を放射する第2レーザ素子と、該第2連続レーザ光を該被加熱物へ導き、該被加熱物に第2照射領域を形成する第2光学系と、該被加熱物の各部分について該第2照射領域が走査する前に該第1照射領域の少なくとも一部が走査するように、該第1照射領域と該第2照射領域を走査させるシステムコントローラと、を備えたことを特徴とする。
摘要翻译：根据本发明的激光退火装置包括一台用于放置被加热物，并且发出第一连续的激光束，引导第一激光装置，所述第一连续激光束加热的材料，被加热的用于形成第一照射区域的对象的第一光学系统，并且比用于发射第二连续激光更短的波长的第一连续的激光束，第二激光元件，被加热的所述第二连续激光束导致的物体，以及用于形成第二照射区域的第二光学系统到所述加热的，至少一个第二照射区域之前第一照射区域的一部分进行扫描以加热的产品的每个部分以扫描，其特征在于包括一个系统控制器，以扫描第一照射区域和第二照射区域。

9. 发明专利

JP2016531062A コーティングを備えた基材の製造方法审中-公开
标题翻译：用于制备具有涂层的基板的方法
公开(公告)号：JP2016531062A
公开(公告)日：2016-10-06
申请号：JP2016514465
申请日：2014-05-21
申请人：サン−ゴバングラスフランス , サン−ゴバングラスフランス
发明人：ナドーニコラ , ナドーニコラ , ミムンエマニュエル , ミムンエマニュエル , デュボストブリス , デュボストブリス
IPC分类号： C03C17/09
CPC分类号： C22F1/183 , B23K26/0006 , B23K26/0066 , B23K26/0604 , B23K26/0624 , B23K26/0626 , B23K26/064 , B23K26/0738 , B23K26/08 , B23K26/352 , B23K2203/50 , C03C17/09 , C03C2217/258 , C03C2218/328 , C21D1/34 , C21D9/0068
摘要：本発明は、コーティングを備えた基材を製造するための方法に関するものであり、このコーティングは当該コーティングの少なくとも一つの特性が空間的に部分変更されているパターンを含み、当該方法は基材上に被着した連続的なコーティングをレーザー放射により熱処理する工程を含む。この熱処理の工程は、少なくとも一本のレーザー線の形態をとってコーティングに集束させたレーザー光線を、連続コーティングを維持しつつ且つコーティングを溶融させずに基材に照射し、そして基材とコーティングに集束させたレーザー線とを、レーザー線の長手方向(Y)を横切る方向(X)に相対的に移動させ、この相対的な移動の間レーザー線の出力(Plas)を、相対的な移動の速度(v)と相対的移動の方向(X)におけるパターンの寸法とに応じて時間的に変化させるものである。
摘要翻译：本发明涉及一种用于制造具有涂层的基板的方法，该涂层包括该涂层的至少一个特征的图案在空间上部分地改变，所述方法在基材上连续涂层沉积包括通过激光辐射加热处理的步骤。该热处理的步骤中，激光束聚焦在至少一个激光束的形式的涂层被照射到衬底而不熔化和涂层，同时保持连续的涂层，和在基底和涂层和激光线被聚焦，则相对移动的方向（X）垂直于纵向方向的激光束的（Y），移动（PLA）中的激光束之间的相对的输出，该相对运动它旨在时间取决于在相对移动（X）的速度（v）和方向的图案的尺寸而变化。

10. 发明专利

JP2015163412A 溶接方法有权
标题翻译：焊接方法
公开(公告)号：JP2015163412A
公开(公告)日：2015-09-10
申请号：JP2014260806
申请日：2014-12-24
申请人：トヨタ自動車株式会社
发明人：梅山浩哉 , 平川靖 , 播磨幸男
IPC分类号： B23K26/21 , B23K26/00
CPC分类号： B23K26/206 , B23K26/0604 , B23K26/082 , B23K26/24 , H01M2/0426 , H01M2/0439
摘要：【課題】ボイドの発生を抑制することで、かかるボイドに起因する溶接強度の低下を抑制し、高い溶接強度を実現し得る溶接方法を提供すること。【解決手段】第1部材10の幅広面に、キーホールを発生させ得る強度の第1レーザ光1を第1接合面12に沿って照射し、第1レーザ光により溶融されてなる第1溶融池14を形成すること、ここで第1溶融池は前記第2部材に亘って形成される;および第2部材の側面部に、キーホールを発生させ得るよりも低い強度の第2レーザ光2を第2接合面22に沿って照射し、第2レーザ光により溶融されてなる第2溶融池24を形成すること、ここで前記第2溶融池は前記第1部材に亘って形成される;を包含する。そして、第1溶融池と第2溶融池とは、互いに一体化されて溶融池を形成し、第1部材と第2部材とを溶融池が凝固してなる溶接部により溶接する。【選択図】図2A
摘要翻译：要解决的问题：提供一种焊接方法，其可以通过抑制空隙的产生来抑制由空隙产生的焊接强度的降低而获得高的焊接强度。解决方案：具有能够产生锁眼的强度的第一激光1被辐射沿着第一接合面12到达第一构件10的宽宽面，形成通过用第一激光照射而熔融形成的第一熔池14。这里，第一熔池形成在第二部件上，强度低于能产生锁孔的第二激光2沿着第二接合面22向第二部件的侧面部辐射，第二熔池 24由第二激光熔化形成。这里，第二熔池形成在第一部件上。然后，将第一熔池和第二熔池相互一体化，形成熔池，第一部件和第二部件通过熔融凝固而形成的焊接部彼此焊接。

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