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1. 发明专利

JP2018065721A ガラス基板の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018065721A
公开(公告)日：2018-04-26
申请号：JP2016205140
申请日：2016-10-19
申请人：日本電気硝子株式会社
发明人：池田昌彦
IPC分类号： B08B11/04 , B41J2/01 , B05D7/00 , B05D3/04 , B05D3/06 , B05D5/12 , C03C23/00
CPC分类号： B05D3/04 , B05D3/06 , B05D5/12 , B05D7/00 , B08B11/04 , B41J2/01 , C03C23/00
摘要：【課題】静電吸引方式の塗布装置によりパターン形成を行う場合に、パターン周辺にインクが飛散することを防止する。【解決手段】ガラス基板の製造方法は、無アルカリガラスよりなるガラス基板Gの表面に帯電防止剤Wを塗布する塗布工程S31と、塗布工程S31後に、ガラス基板Gを常温乾燥させる乾燥工程S33と、乾燥工程S33後に、ガラス基板Gの表面にプラズマ照射処理又は紫外線照射処理を施す照射処理工程S34と、を備える。【選択図】図4

2. 发明专利

JP2016040642A 気相加工眼科デバイス用の装置有权
标题翻译：用于蒸气相加工眼镜装置的装置
公开(公告)号：JP2016040642A
公开(公告)日：2016-03-24
申请号：JP2015253606
申请日：2015-12-25
申请人：ジョンソン・アンド・ジョンソン・ビジョン・ケア・インコーポレイテッド , Johnson & Johnson Vision Care, Inc.
发明人：エンス・ジョン・ビー , ウィドマン・マイケル・エフ , ウッド・ジョー・エム , パウエル・ピー・マーク , キンド−ラーセン・トゥーレ
IPC分类号： G02C7/04
CPC分类号： B29D11/00865 , B05D3/04 , B05D3/0433 , B05D3/0453 , B29D11/00009 , B29D11/00923 , G02C7/04 , B33Y80/00
摘要：【課題】眼科レンズ前駆体を気相中で処理するための方法に関する。【解決手段】本発明は、レンズ前駆体(201)、レンズ前駆体形態及び眼科レンズのうちの1つ以上を加工する装置を開示する。装置は、マンドレル(212)と、レンズ前駆体の周りの気相環境を封じ込めるチャンバ(203)とを備える。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供在气相中治疗眼镜片前体的方法。解决方案：本发明公开了一种用于处理透镜前体（201），透镜前体形式和眼科镜片中的一种或多种的装置。该设备包括心轴（212）和围绕透镜前体的气相环境的腔室（203）。选择的图示：图2

4. 发明专利

JP2009075583A Production method of silica aerogel film, anti-reflection coating and optical element 有权
标题翻译：二氧化硅气膜，抗反射涂层和光学元件的生产方法
公开(公告)号：JP2009075583A
公开(公告)日：2009-04-09
申请号：JP2008220339
申请日：2008-08-28
申请人： Hoya Corp , Hoya株式会社 , Kri Inc , 株式会社Kri
发明人： SUZUKI MINEHIRO , SHIOKAWA TAKANOBU , YAMADA KAZUHIRO , NAKAYAMA HIROYUKI , YAMAGUCHI HIDEKI , MARUTA AYAKO
IPC分类号： G02B1/11 , G02B1/111 , G02B1/14
CPC分类号： B05D3/04 , C01B33/148 , C01B33/1585 , C09D5/00 , C09D183/02 , C09D183/04 , G02B1/111 , G02B2207/107 , G02B2207/109 , Y10T428/31507 , Y10T428/31667
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing efficiently a silica aerogel film having a low refractive index and excellent scratch resistance, an anti-reflection coating formed by such silica aerogel, and an optical element having such anti-reflection coating. SOLUTION: A method for producing a silica aerogel film includes processes to prepare an alkaline sol by hydrolyzing and polymerizing alkoxysilane in the presence of a base catalyst, adding an acid catalyst to the alkaline sol to carry out further hydrolysis and polymerization to prepare a first acidic sol, hydrolyzing and polymerizing alkoxysilane in the presence of an acid catalyst to prepare a second acidic sol, applying a mixture of the first and second acidic sols to a substrate, and drying it. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：解决问题的方案：提供一种有效地生产具有低折射率和优异耐划伤性的二氧化硅气凝胶膜的方法，由这种二氧化硅气凝胶形成的抗反射涂层和具有这种防反射涂层的光学元件。解决方案：二氧化硅气凝胶膜的制造方法包括在碱催化剂的存在下水解和聚合烷氧基硅烷来制备碱性溶胶的方法，向碱性溶胶中加入酸催化剂进行进一步的水解和聚合以制备第一酸性溶胶，在酸催化剂的存在下水解和聚合烷氧基硅烷，以制备第二酸性溶胶，将第一和第二酸性溶胶的混合物施加到基材上，并将其干燥。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

5. 发明专利

JP2004526578A Microfabricated elastomer valve and pump system 审中-公开
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP2004526578A
公开(公告)日：2004-09-02
申请号：JP2002545596
申请日：2001-11-28
申请人：カリフォルニアインスティチュートオブテクノロジー
发明人：マークエル．アダムス， , マークエイ．アンガー， , スティーブンアール．クエイク， , アクセルシェラー， , トッドエイ．ソーセン， , ホウ−プチョウ， , カールエル．ハンセン， , ジアンリウ，
IPC分类号： B01L3/00 , B01L7/00 , B01L9/00 , B67D99/00 , B81B1/00 , B81B3/00 , B81C1/00 , C12Q1/68 , F04B43/04 , F15C5/00 , F16K7/00 , F16K31/126 , F16K99/00
CPC分类号： B05D3/04 , B01J2219/00355 , B01J2219/00378 , B01J2219/00396 , B01J2219/00398 , B01J2219/00439 , B01J2219/005 , B01J2219/00527 , B01J2219/00605 , B01J2219/00612 , B01J2219/00621 , B01J2219/00659 , B01J2219/00707 , B01J2219/00722 , B01J2219/00725 , B01L3/502707 , B01L3/50273 , B01L3/502738 , B01L7/54 , B01L9/527 , B01L2200/025 , B01L2200/027 , B01L2200/0605 , B01L2200/10 , B01L2300/0681 , B01L2300/0861 , B01L2300/0887 , B01L2300/123 , B01L2300/14 , B01L2300/18 , B01L2400/046 , B01L2400/0481 , B01L2400/06 , B01L2400/0655 , B01L2400/0688 , B32B2037/1081 , B65B31/00 , B81B2201/036 , B81B2201/054 , B81C1/00119 , B81C2201/019 , C12Q1/6832 , C12Q1/6874 , C30B29/54 , F04B43/043 , F15C1/06 , F15C3/00 , F15C5/00 , F16K99/0001 , F16K99/0015 , F16K99/0046 , F16K99/0051 , F16K99/0059 , F16K2099/0074 , F16K2099/0076 , F16K2099/0078 , F16K2099/008 , F16K2099/0084 , F16K2099/0094 , Y10T137/0324 , Y10T137/0379 , Y10T137/0424 , Y10T137/206 , Y10T137/2082 , Y10T137/2164 , Y10T137/2169 , Y10T137/2174 , Y10T137/2202 , Y10T137/2224 , Y10T137/3084 , Y10T137/7837 , Y10T137/86027 , Y10T156/10 , Y10T428/24479 , Y10T428/24612 , C12Q2535/125
摘要：エラストマー構造を製作する方法は：第一微細製作モールドの頂部上で第一エラストマー層を形成する工程であって、該第一微細製作モールドが、該第一エラストマー層の底部表面に沿って延びる第一凹部を形成する第一隆起突出部を有する、工程；第二エラストマー層を第二微細製作モールドの頂部上に形成する工程であって、該第二微細製作モールドが、該第二エラストマー層の底部表面に沿って延びる、第二凹部を形成する第二隆起突出部を有する工程；該第二エラストマー層の底部表面を、該第一エラストマー層の頂部表面上へ結合し、その結果、制御チャネルが、該第一および第二エラストマー層の間の第二凹部中に形成される工程；および平坦基板の頂部上の該第一エラストマー層を位置決めし、その結果、フローチャネルが該第一エラストマー層と該平坦基板との間の該第一凹部中に形成される工程、を包含する。
摘要翻译：一种制造弹性体结构的方法，包括：在第一微加工模具的顶部上形成第一弹性体层，所述第一微加工模具具有形成沿所述第一弹性体层的底表面延伸的第一凹槽的第一凸起突起; 在第二微加工模具的顶部上形成第二弹性体层，所述第二微加工模具具有第二凸起突起，所述第二凸起突起形成沿所述第二弹性体层的底表面延伸的第二凹槽; 将第二弹性体层的底表面粘合到第一弹性体层的顶表面上，使得控制通道在第一和第二弹性体层之间的第二凹部中形成; 以及将第一弹性体层定位在平面基底的顶部上，使得流动通道在第一弹性体层和平面基底之间的第一凹部中形成。

7. 发明专利

JP2016109364A 容器内部乾燥装置及び容器内部乾燥方法有权
标题翻译：干燥装置中的集装箱和干燥方法中的容器
公开(公告)号：JP2016109364A
公开(公告)日：2016-06-20
申请号：JP2014247881
申请日：2014-12-08
申请人：東洋製罐株式会社
发明人：岡田芳明 , 宮崎知之 , 丹生啓佑
IPC分类号： B05D3/04 , F26B9/00
CPC分类号： B05D3/04 , F26B9/00 , B05C9/12
摘要：【課題】簡単な構成で設置スペースが小さく、乾燥時間を短縮することが可能であり、容器変形を生じることなく、充填ライン全体の効率を向上することができる容器内部乾燥装置及び容器内部乾燥方法を提供すること。【解決手段】容器口部から容器内部に挿入可能な気体噴出ノズル110と、容器口部に対向可能な吸引機構120と、気体噴出ノズル110に気体を供給する気体供給ユニット130とを備え、気体噴出ノズル110から容器内部に気体を噴出するとともに、容器口部に対向して配置された吸引機構120によって容器口部から気体を吸引すること。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：为了提供容器内部干燥装置和容器内部干燥方法，具有结构简单的安装空间小，能够缩短干燥时间，并且能够在不产生容器变形的情况下提高整个灌装线的效率。解决方案：干燥装置内的容器包括：能够从容器口部插入容器内部的气体注入喷嘴110; 能够面对容器口部的吸引机构120; 以及向气体注入喷嘴110供给气体的气体供给部130.容器内部的干燥装置从气体喷射喷嘴110将气体喷射到容器的内部，并且通过相对配置的吸引机构120从容器口部吸入气体到容器口部分。选择图：图2

8. 发明专利

JP2015531706A 結合剤が不足したスリップコーティングによる物品とその製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2015531706A
公开(公告)日：2015-11-05
申请号：JP2015528562
申请日：2013-08-20
申请人：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー , スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー
发明人：ジェイ．ダークスクリストファー , ジェイ．ダークスクリストファー , ダブリュ．ハーゲンジェフリー , ダブリュ．ハーゲンジェフリー , イー．ロックリッジジェイムズ , イー．ロックリッジジェイムズ , エー．ピーターソンジェフリー , エー．ピーターソンジェフリー , エー．ヘッディングブレント , エー．ヘッディングブレント
IPC分类号： B32B3/30 , B29C47/02 , B29C47/06 , B32B7/06 , B32B27/20
CPC分类号： G02B1/12 , B05D1/265 , B05D3/04 , B05D3/12 , B29K2995/0072 , B29K2995/0074 , B32B7/12 , B32B27/08 , B32B27/20 , B32B27/36 , B32B2255/10 , B32B2255/26 , B32B2264/025 , B32B2307/412 , B32B2307/702 , B32B2307/746 , G02B1/105 , G02B1/14 , Y10T428/2495 , Y10T428/24975
摘要： (1)1つ以上の層を含み、第1の主表面を有する、コア部材と、(2)第1の主表面の少なくとも一部の上に配置されたスリップ制御層であって、(i)コア部材の第1の主表面の少なくとも一部の上に配置された基礎層と、(ii)基礎層の上に配置された結合剤層と、(iii)結合剤層と基礎層の中に配置されてそこから突き出している粒子の配列とを含み、粒子の平均径が、基礎層と結合剤層の合計の厚さより大きい、スリップ制御層と、を含む、シート。このようなシートを作製する方法は、(1)コア部材を提供することと、(2)コア部材の第1の主表面の少なくとも一部の上に基礎層を形成することであって、基礎層は粘弾性であって、コア部材の第1の主表面におけるポリマーのTg又はTmより低いTgを有し、(3)フィルム形成ポリマーと粒子とを含む結合剤組成物を基礎層の表面に塗布することと、(4)この集合体を十分に加熱した状態で幅出しし、粒子が基礎層に沈み込むように基礎層を軟化することとを含み、粒子の平均径は基礎層と結合剤層の合計の厚さよりも大きい。

9. 发明专利

JP5766336B1 銅ペーストの焼成方法有权
标题翻译：铜膏的烧制法
公开(公告)号：JP5766336B1
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：JP2014123799
申请日：2014-06-16
申请人：株式会社マテリアル・コンセプト
发明人：小池淳一 , 須藤祐司 , 安藤大輔
IPC分类号： H01B13/00 , H01B5/14 , H01B5/02 , B05D3/04 , B05D3/02 , H05K3/12 , B22F3/10
CPC分类号： B05D3/02 , B05D3/04 , B22F3/10 , H01B13/00 , H01B5/02 , H01B5/14 , H05K3/12 , H01B1/00 , H01B1/22
摘要：【課題】電気伝導率を低減した銅配線を形成するために、銅粒子の焼結性を向上させる銅ペーストの焼成方法を提供すること。【解決手段】基板上に銅ペーストを塗布する塗布工程と、前記塗布工程の後、体積比で500ppm以上、2000ppm以下の酸化性ガスを含有する窒素ガス雰囲気において前記基板を加熱し、前記銅ペースト中の銅粒子を酸化焼結する第一の加熱工程と、前記第一の加熱工程の後、体積比で1%以上の還元性ガスを含有する窒素ガス雰囲気において前記基板を加熱し、前記酸化焼結された銅酸化物を還元する第二の加熱工程と、を含む銅ペーストの焼成方法。【選択図】なし
摘要翻译：甲以形成具有降低的导电性的铜布线，以提供用于烧制铜膏，以改善铜粒子的烧结的方法。施加的铜膏在基板上，涂覆步骤之后，超过按体积计500ppm的，并且在氮气气氛中含有较少氧化剂气体2000ppm的加热衬底，铜膏的涂布工序在氧化烧结铜颗粒，所述第一加热步骤之后，在含有1％的氮气气氛下加热衬底或多个体积减少气体的第一加热步骤中，氧化铜膏的烧成方法，其包括第二加热步骤中，减少所述烧结铜氧化物。系统技术领域

10. 发明专利

JPWO2012060325A1 プラズマアニール方法及びその装置有权
公开(公告)号：JPWO2012060325A1
公开(公告)日：2014-05-12
申请号：JP2012541852
申请日：2011-10-31
申请人：日産化学工業株式会社
发明人：古性　均 , 均古性
IPC分类号： H01L21/20 , H01L21/324 , H05H1/24
CPC分类号： B05D3/04 , H01L21/02532 , H01L21/02689 , H01L21/326
摘要：【課題】基板上の膜(被膜)を処理して膜の結晶構造を変化させることができ、かつ生産性に優れたプラズマアニール装置を提供する。【解決手段】基板上の膜に大気圧プラズマを照射する工程(A)を含む膜の構成物質の結晶構造を変化させる膜の製造方法。工程(A)が10ヘルツ〜100メガヘルツの周波数と、60ボルト〜100万ボルトの電圧により大気圧でプラズマを生成し、そのプラズマを直接に基板上の膜に照射するものである。(A)工程を含む膜の構成物質の結晶構造を変化させる方法。(A)工程の膜の形成方法に用いられるプラズマ発生装置。(A)工程を経て製造された電子デバイス。【選択図】図1

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