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1. 发明专利

JPWO2008044737A1 静電噴霧装置及び静電噴霧方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2008044737A1
公开(公告)日：2010-02-18
申请号：JP2008538755
申请日：2007-10-11
申请人：株式会社フューエンス , 株式会社フューエンス , 独立行政法人理化学研究所
发明人：仲神　竜一 , 竜一仲神 , 善章冨永 , 善章冨永 , 幹夫竹澤 , 幹夫竹澤 , 光弘高橋 , 光弘高橋 , 弘良青木 , 弘良青木 , 努原 , 努原 , 麻理子東條 , 麻理子東條 , 山形　豊 , 豊山形
IPC分类号： B05B5/08 , B05D1/04 , B05D1/32 , G01N1/00 , G01N37/00
CPC分类号： B05B5/0255 , B05B5/0533 , B05B5/0537 , B05B15/0437 , B05D1/04 , B05D1/045 , B05D1/32
摘要：生物活性物質を絶縁性の基板1上に所望の形状で付着させる静電噴霧を用いた方法において、基板1上に所望の形状の導電層2を形成し、基板1と所定の距離をおいて配置される内部に電極線を有するキャピラリ40と、当該電極線に所定の高電圧を印加して生物活性物質を静電噴霧するための高圧電源15と、基板1とキャピラリ40との間に基板1と所定の距離を有し導電層2の形状と対応する貫通孔を有するカバー10と、を備え、導電層2上に生物活性物質を付着させるべき部分に対応してカバー10の位置合わせをして、所望のパターン形状の生物活性物質を静電噴霧により形成する。

2. 发明专利

JP2018510056A 調節可能な分離縁を備えたコーティング装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018510056A
公开(公告)日：2018-04-12
申请号：JP2017546587
申请日：2016-03-01
申请人：ヨセフシーレオーハーゲー
发明人：シーレ、シュテファン
IPC分类号： B05B12/16 , B05B14/00 , B05B16/00 , B05D1/02 , B05D1/32
CPC分类号： B05B12/22 , B05B13/0207 , B05B14/40 , B05B15/0437 , B05D1/02
摘要：本発明は、ワーク(3)のコーティング面(15)にコーティングを適用する少なくとも1つのコーティング手段(2)が設けられたコーティング室(17)を有し、ワーク(3)が、コーティング室(17)を移送方向(X)に沿って移動し、コーティング室(17)に負圧が行き渡り、コーティング面(15)が、分離縁(18)を有する少なくとも1つの工具(6、7)により区切られ、コーティング室(17)が、入口金型および出口金型(11)により区切られたコーティング装置(1)に関する。さらに本発明は、分離縁(18)を有する少なくとも1つの工具(6、7)により区切られたワーク(3)のコーティング面(15)をコーティング手段(2)によりコーティングする方法に関する。

3. 发明专利

JP2013216978A Vapor deposition mask, method for manufacturing vapor deposition mask device, and method for manufacturing organic semiconductor element 有权
标题翻译：蒸气沉积掩模，制造蒸气沉积掩模装置的方法和制造有机半导体元件的方法
公开(公告)号：JP2013216978A
公开(公告)日：2013-10-24
申请号：JP2013117238
申请日：2013-06-03
申请人： Dainippon Printing Co Ltd , 大日本印刷株式会社
发明人： HIROBE YOSHINORI , MATSUMOTO YUTAKA , USHIKUSA MASATO , TAKEDA TOSHIHIKO , NISHIMURA SUKEYUKI , OBATA KATSUYA , TAKEKOSHI TAKASHI
IPC分类号： C23C14/04 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC分类号： B05B15/0437 , B05C21/005 , B32B37/182 , B32B38/0008 , B32B2310/0843 , B32B2311/00 , B32B2398/00 , C23C14/042 , H01L51/0011 , H01L51/5012 , H01L51/56
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: a vapor deposition mask capable of satisfying both high definition and reduced weight even when the size is increased; a method for manufacturing a vapor deposition mask device, by which the vapor deposition mask can be accurately positioned on a frame; and a method for manufacturing an organic semiconductor element, by which a high-definition organic semiconductor element can be manufactured.SOLUTION: A metal mask on which slits are disposed and a resin mask which is positioned on the surface of the metal mask and on which openings corresponding to a pattern formed by means of vapor deposition are horizontally and vertically arranged in a plurality of rows are laminated.
摘要翻译：要解决的问题：提供：即使尺寸增加，也能够同时满足高清晰度和减轻重量的气相沉积掩模; 蒸镀掩模装置的制造方法，能够将气相沉积掩模精确地定位在框架上; 以及制造有机半导体元件的方法，通过该方法制造高分辨率有机半导体元件。解决方案：设置狭缝的金属掩模和位于金属掩模表面上的树脂掩模，对应于通过气相沉积形成的图案的开口被水平和垂直排列成多行。

4. 发明专利

JP2013537719A Long life deposition ring 审中-公开
公开(公告)号：JP2013537719A
公开(公告)日：2013-10-03
申请号：JP2013525923
申请日：2011-07-25
申请人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated
发明人：ララホリルチャック
IPC分类号： H01L21/205 , C23C16/44 , C23C16/458 , H01L21/683
CPC分类号： B05B15/0437 , C23C16/4585 , H01L21/68735
摘要：半導体処理チャンバのためのプロセスキットが提供され、プロセスキットは環状デポジションリング本体を備え、該本体は、内壁と、外壁と、少なくともリング本体の上面の一部を規定する傾斜上部壁と、上部壁と、下部壁と、傾斜上部壁と内壁との間のリング本体の上面に陥凹したトラフ部とを含み、トラフ部の最も低い位置が、上部壁と下部壁との間の距離の少なくとも半分まで延びている。
【選択図】図１

5. 发明专利

JP6165770B2 リキャプチャ用噴霧器シェル有权
公开(公告)号：JP6165770B2
公开(公告)日：2017-07-19
申请号：JP2014547448
申请日：2012-12-13
申请人：ゲンズコーポレイション , GENZ CORP.
发明人：ジョンソン,リチャード
IPC分类号： A01M7/00 , B05B1/28
CPC分类号： B05B15/0437 , A01C23/047 , A01M7/0014 , A01M7/0067 , B05B12/22

6. 发明专利

JP2006167716A Surface coating apparatus and surface coating method 审中-公开
标题翻译：表面涂层装置和表面涂层方法
公开(公告)号：JP2006167716A
公开(公告)日：2006-06-29
申请号：JP2005356150
申请日：2005-12-09
申请人： Nanoworld Ag , ナノワールドアーゲー
发明人： HARTMANN THEO , SULZBACH THOMAS , RICHTER CHRISTOPH , LUDGE HANS-JURGEN , KRAUSE OLIVER
IPC分类号： B05B15/04 , B05B13/04 , B05B15/06 , B05C5/00 , B05C5/02 , B05C9/08 , B05D1/02
CPC分类号： B05B15/0425 , B05B15/0437 , B05B15/62
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a coating apparatus and method in which the re-deposition of a sprayed coating material and the soiling by the sprayed coating material on the surface of a coated processed product are suppressed. SOLUTION: The coating apparatus 1 has a coating nozzle 2 for applying the coating material on the surface of the processed product 3 and a suction apparatus for sucking coating material vapor and/or air containing the sprayed coating material. The coating nozzle 2 and the processed product 3 are relatively moved. A suction bell 4 arranged to cover an opening part 9 of the coating nozzle 2 is firmly connected to a nozzle wall 14 of the spray nozzle 2. The suction bell 4 is constituted so as to include an inner bell 5 and an outer bell 6 and is arranged with a slight distance from the processed good 3. The outer bell 6 is arranged to cover the inner bell 5 to keep a separated state from the inner bell 5. The inner bell 5 forms a spray chamber 7 and a suction chamber 8 having a suction port 10 between the outer bell 6 and the inner bell 5 is formed by the outer bell 6 and the inner bell 5. COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提供一种涂覆装置和方法，其中抑制喷涂涂层材料的再沉积和喷涂涂层材料在被涂覆的处理产品的表面上的污染。解决方案：涂覆设备1具有涂覆喷嘴2，用于将涂料施加到加工产品3的表面上，以及用于吸取包含喷涂涂料的涂料蒸气和/或空气的抽吸装置。涂布喷嘴2和加工品3相对移动。布置成覆盖喷嘴2的开口部9的吸入口4牢固地连接到喷雾喷嘴2的喷嘴壁14.吸入钟4构成为包括内钟5和外钟6，被布置成与处理好的物品3稍微距离。外钟6布置成覆盖内钟5以保持与内钟5分离的状态。内钟5形成喷雾室7和吸入室8，吸入室8具有通过外钟6和内钟5形成外钟6和内钟5之间的吸气口10.（C）2006，JPO＆NCIPI

7. 发明专利

JPS59112861A Coating apparatus 失效
标题翻译：涂装装置
公开(公告)号：JPS59112861A
公开(公告)日：1984-06-29
申请号：JP22428282
申请日：1982-12-20
申请人： Matsushita Electric Ind Co Ltd
发明人： SHIRAISHI TAKESHI , IWAMA TOSHIAKI , MORI KAZUHIRO
IPC分类号： B05B15/04
CPC分类号： B05B15/0437
摘要： PURPOSE:To use wide width paper to attain cost reduction, by preventing a coating liquid from penetrating in a part to be masked while recovering masking paper after spraying is completed. CONSTITUTION:Masking papers 16, 17 each having a width larger than the length in the supply direction of a material 26 to e coated are supplied from a direction at a right angle to the supply direction of said material 26 to be coated and sharply folded by wedge shaped blocks 24, 25 to form lines while the material 26 to be coated is raised by a press apparatus 27. After a part to be masked is protected so as not to receive the penetration of a coating liquid, said coating liquid is sprayed and, after spraying is completed, the material 26 to be coated is lowered and recovered after separated from the masking papers 16, 17.
摘要翻译：目的：通过在喷涂完成后，通过防止涂布液在一部分被遮蔽的同时回收掩模纸而使用宽幅纸来降低成本。构成：具有大于被涂覆材料26的供给方向长度的宽度的遮蔽纸16,17从与待涂覆的所述材料26的供给方向成直角的方向供应，并被急剧地折叠楔形块24,25以形成管线，同时待涂覆的材料26被压制装置27升高。待被遮蔽的部分被保护以不受到涂覆液体的渗透之后，喷涂所述涂覆液体喷涂完成后，从掩蔽纸16,17分离后，待涂层的材料26降低并恢复。

8. 发明专利

JP6209867B2 樹脂板付き金属マスク有权
公开(公告)号：JP6209867B2
公开(公告)日：2017-10-11
申请号：JP2013117238
申请日：2013-06-03
申请人：大日本印刷株式会社
发明人：廣部吉紀 , 松元豊 , 牛草昌人 , 武田利彦 , 西村祐行 , 小幡勝也 , 竹腰敬
IPC分类号： H01L51/50 , H05B33/10 , C23C14/04
CPC分类号： B05B15/0437 , B05B12/22 , B05C21/005 , B32B37/182 , B32B38/0008 , C23C14/042 , H01L51/0011 , H01L51/56 , B32B2310/0843 , B32B2311/00 , B32B2398/00 , H01L51/5012

9. 发明专利

JP2015530915A 熱的及び／又は動的なコーティングシステムのための可動のマスク审中-公开
标题翻译：掩模可动用于热和/或动态涂层系统
公开(公告)号：JP2015530915A
公开(公告)日：2015-10-29
申请号：JP2015523441
申请日：2013-07-10
申请人：ヴィーラントウェルケアクチーエンゲゼルシャフトWieland−Werke Aktiengesellschaft , ヴィーラントウェルケアクチーエンゲゼルシャフトWieland−Werke Aktiengesellschaft
发明人：ウォルフラムシリンガー , ウォルフラムシリンガー , トーマスクラッセン , トーマスクラッセン , カースティン‐ラファエラアーンスト , カースティン‐ラファエラアーンスト
IPC分类号： B05B15/04 , B05B7/22 , B05D1/32 , C23C14/04
CPC分类号： B05C21/005 , B05B15/0437 , B05C5/025 , B05D1/02 , B05D1/32
摘要：本発明は、コーティング材料の材料流にさらされる作業側を有するコーティングされるべき基層におけるコーティングされるべきでない範囲の被覆装置を備えたコーティングシステムのためのマスクであって、前記コーティングされるべきでない範囲の前記被覆装置が少なくとも1つの回転可能なディスクで構成されており、該ディスクのディスク上側が前記コーティング材料の材料流に対して垂直である前記マスクに関するものである。本発明の別の態様は、少なくとも1つの噴射装置を有する熱的及び/又は動的なコーティングシステムと、コーティングされる基層の対応する製造方法とを含むものである。【選択図】図2
摘要翻译：本发明提供了包含在不于基础层进行包衣的范围内的涂敷装置的涂敷系统的掩模被涂覆有暴露于涂层材料的材料流动的工作侧，它不应该是涂覆涂覆设备的范围是由至少一个可旋转磁盘构成，本发明涉及掩模垂直于涂层材料的磁盘材料流的光盘上侧。本发明的另一方面包括具有至少一个喷射装置和用于制造待涂覆基底的相应方法的热和/或动态涂层系统。 .The

10. 发明专利

JP2015501725A リキャプチャ用噴霧器シェル有权
标题翻译：雾化器外壳为夺回
公开(公告)号：JP2015501725A
公开(公告)日：2015-01-19
申请号：JP2014547448
申请日：2012-12-13
申请人：ゲンズコーポレイションGenz Corp. , ゲンズコーポレイションGenz Corp.
发明人：ジョンソン，リチャード
IPC分类号： B05B1/28 , A01M7/00 , B05B15/04
CPC分类号： B05B15/0437 , A01C23/047 , A01M7/0014 , A01M7/0067
摘要：本開示は、対象物体を噴霧するためのシステムおよび方法に関するものである。リキャプチャシェルは、対象物体を部分的に閉じ込め、スプレーしぶきの拡散を軽減することができる。周囲圧力よりも圧力が高い前方側と、周囲圧力よりも圧力が低い後方側が作り出され、リキャプチャシェルの対象空間内の再循環する空気を部分的に隔離して、噴霧液の適用範囲を高めるとともに、噴霧液の損失を軽減する。本開示の実施形態は、噴霧液を放出し、閉じ込め、および/またはリキャプチャするために、農業用、自動車用、宇宙空間用、および他の用途に使用することができる。【選択図】図1
摘要翻译：本公开涉及一种系统和方法，用于喷射目标对象。再捕获壳目标对象部分密闭空间，所以可以减小过度喷涂的扩散。和前侧压力比环境压力高，由后端比环境压力低的压力，以重新捕获壳的对象空间内的空气再循环部分地隔离创建的，增加喷雾的覆盖率在一起，以减少喷雾液的损失。本公开的实施方案中，喷雾液排出，遏制，和/或重新捕获，农业，汽车，它可以用于空间，以及用于其它应用。点域1

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