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1. 发明专利

JP2010108886A Membrane-electrode assembly, electrolyte membrane, and fuel cell using the same 审中-公开
标题翻译：膜电极组件，电解质膜和使用其的燃料电池
公开(公告)号：JP2010108886A
公开(公告)日：2010-05-13
申请号：JP2008282643
申请日：2008-11-03
申请人： Waseda Univ , Xnet Corp , 学校法人早稲田大学 , 株式会社エックスネット
发明人： WASHIO MASAKAZU , OSHIMA AKIHIRO , SHIRAKI FUMIYA , OSHIMA YUJI , TAWARA TAKASHI
IPC分类号： H01M8/02 , H01M8/10
CPC分类号： Y02E60/521
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a fuel cell that improves power generation performance by preventing the flooding. SOLUTION: A membrane-electrode assembly 12 includes an anode electrode 15 to which a fuel gas is supplied, a cathode electrode 16 to which an oxidizer gas is supplied, an electrolyte membrane 17 arranged between both electrodes 15, 16 and made of a conductive polymer material including an ion exchange group for conducting protons from the anode electrode 15 to the cathode electrode 16, and binder layers 18, 19 including the ion exchange group and connecting between both electrodes 15, 16 and the electrolyte membrane 17. Concentration of the ion exchange group at a cathode electrode 16 side is set up to be higher than that of the ion exchange group at an anode electrode 15 side regarding the electrolyte membrane 17 and/or the binder layers 18, 19. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种通过防止淹水来提高发电性能的燃料电池。解决方案：膜电极组件12包括供给燃料气体的阳极电极15，供给氧化剂气体的阴极电极16，布置在两个电极15,16之间的电解质膜17，并由包括用于将质子从阳极电极15传导到阴极电极16的导电聚合物材料，以及包含离子交换基团的粘合剂层18,19以及两个电极15,16和电解质膜17之间的连接。阴极电极16侧的离子交换基团被设定为高于在电解质膜17和/或粘合剂层18,19的阳极电极15侧的离子交换基团的离子交换基团。 C）2010，JPO＆INPIT

2. 发明专利

JP2012004069A Photocathode high frequency electron gun and electron beam apparatus including photocathode high frequency electron gun 有权
标题翻译：光电高频电子枪和电子束装置，包括光电子高频电子枪
公开(公告)号：JP2012004069A
公开(公告)日：2012-01-05
申请号：JP2010140546
申请日：2010-06-21
申请人： Waseda Univ , 学校法人早稲田大学
发明人： SAKAGAMI KAZUYUKI , WASHIO MASAKAZU
IPC分类号： H01J37/073 , H01J37/06 , H05H7/08 , H05H7/18
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photocathode high frequency electron gun and an electron beam apparatus including the photocathode high frequency electron gun capable of easily changing a time width of an electron beam.SOLUTION: A photocathode high frequency electron gun 1 includes: a cathode part 3; a laser irradiation port 4 irradiating an laser beam 8 to the cathode part 3; an acceleration cavity part 5 accelerating electrons 9 radiated from the cathode part 3; and a high frequency wave introduction part 15 introducing high frequency wave inside the acceleration cavity part 5. The acceleration cavity part 5 includes: two or more basic cells 10; a basic iris 12 provided between both of the basic cells 10; and a final cell 11 communicating to an exit of the basic cells 10 through a final iris 13. The thickness of the final iris 13 is different from the thickness of the basic iris 12.
摘要翻译：解决的问题：提供一种光电阴极高频电子枪和包括能够容易地改变电子束的时间宽度的光电阴极高频电子枪的电子束装置。解决方案：光电阴极高频电子枪1包括：阴极部分3; 将激光束8照射到阴极部3的激光照射口4; 加速腔部5，其加速从阴极部3照射的电子9; 以及在加速空腔部5内引入高频波的高频波导入部15。加速腔部5包括：两个以上的基电池10; 设置在两个基本单元10之间的基本虹膜12; 以及通过最终光圈13与基本单元10的出口通信的最终单元11.最终光圈13的厚度与基本虹膜12的厚度不同。（C）2012，JPO和INPIT

3. 发明专利

JP2011184626A Method for forming micro structure of polymer material and microstructure body 有权
标题翻译：形成聚合物材料和微结构体微结构的方法
公开(公告)号：JP2011184626A
公开(公告)日：2011-09-22
申请号：JP2010053172
申请日：2010-03-10
申请人： Japan Atomic Energy Agency , Waseda Univ , 学校法人早稲田大学 , 独立行政法人日本原子力研究開発機構
发明人： NAGASAWA NAOTANE , OSHIMA AKIHIRO , TAGAWA SEIICHI , WASHIO MASAKAZU , OKUBO SATOSHI , TAMADA MASAO
IPC分类号： C08J7/00 , B23K15/00 , B81C1/00 , H01J37/317
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a microstructure composed of a polymer material having low heat resistance.
SOLUTION: First, a thin film layer of PLLA is formed (thin film formation step). Then a FIB (Focused Ion Beam) processing is performed for the thin film layer of PLLA (processing step). In the thin film formation step, first, a coating liquid produced by dissolving PLLA in a solvent and diluting the solution is produced (coating liquid preparation: S1). Then a substrate is coated with the coating liquid by rotary coating (rotary coating: S2). Then, the thin film of PLLA on the substrate is irradiated with focused ion beam by using an FIB apparatus (FIB processing: S3). In the operation, the thickness of the thin film layer 12 of PLLA is set ≤1 μm and an electric current of ion beam is set ≤1 nA.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供由耐热性低的聚合物材料构成的微结构。解决方案：首先，形成PLLA的薄膜层（薄膜形成步骤）。然后对PLLA的薄膜层进行FIB（聚焦离子束）处理（处理步骤）。在薄膜形成工序中，首先，通过将PLLA溶解在溶剂中并稀释溶液而制造的涂布液（涂布液的制备：S1）。然后通过旋涂（旋转涂层：S2）将涂布液涂布在基材上。然后，使用FIB装置（FIB处理：S3），用聚焦离子束照射基板上的PLLA薄膜。在该操作中，PLLA的薄膜层12的厚度设定为≤1μm，离子束的电流设定为≤1nA。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

4. 发明专利

JP2014218086A 積層体およびその製造方法有权
标题翻译：层压体及其制造方法
公开(公告)号：JP2014218086A
公开(公告)日：2014-11-20
申请号：JP2014149147
申请日：2014-07-22
申请人：大日本印刷株式会社 , Dainippon Printing Co Ltd , 学校法人早稲田大学 , Waseda Univ
发明人： YAGI IZUMI , UEKI TAKAYUKI , ITO TAKESHI , WASHIO MASAKAZU
IPC分类号： B32B9/00 , B32B27/00 , B32B27/32 , B32B37/16
CPC分类号： B32B27/00 , B32B27/32 , B32B9/00
摘要：【課題】ガスバリア性保護層を含む積層フィルムとポリオレフィンフィルムとを接着剤を使用せずに接着した積層体であって、異物や残留溶剤等が滲出することがなく耐候性にも優れた積層体を提供する。【解決手段】アルコキシシランを含む層と、ポリオレフィン樹脂フィルムとが積層された積層体であって、前記アルコキシシランを含む層および前記ポリオレフィン樹脂フィルムの少なくとも一部で、前記アルコキシシランを含む層中のケイ素原子と、前記ポリオレフィン樹脂フィルム中の炭素原子との間に共有結合が形成されており、前記アルコキシシランを含む層および前記ポリオレフィン樹脂フィルムとが接着剤を介さずに接着されている。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供一种层叠体，其通过将不含有异物，残留溶剂等而不渗出并具有优异耐候性的粘合剂粘合到包含阻气保护层和聚烯烃膜的层叠膜而形成解决方案：提供一种层压体，其中层压有含有烷氧基硅烷和聚烯烃树脂膜的层，至少部分地在聚烯烃树脂膜中含有烷氧基硅烷和碳原子的层中的硅原子之间形成共价键含有烷氧基硅烷和聚烯烃树脂膜的层和含有烷氧基硅烷和聚烯烃树脂膜的层粘合而不用粘合剂。

5. 发明专利

JP2012187779A Microstructure, and its manufacturing method 有权
标题翻译：微结构及其制造方法
公开(公告)号：JP2012187779A
公开(公告)日：2012-10-04
申请号：JP2011052359
申请日：2011-03-10
申请人： Waseda Univ , Osaka Univ , Japan Atomic Energy Agency , 国立大学法人大阪大学 , 学校法人早稲田大学 , 独立行政法人日本原子力研究開発機構
发明人： OSHIMA AKIHIRO , TAGAWA SEIICHI , WASHIO MASAKAZU , OYAMA TOMOKO , TAKAHASHI TOMOHIRO , OKUBO SATOSHI , KOBAYASHI AKINOBU , NAGASAWA NAOSANE , TAGUCHI MITSUMASA
IPC分类号： B29C59/02 , B29C33/38 , B29C33/42 , B29K101/10 , B29K101/12 , H01L21/027
CPC分类号： B29C35/0866 , B29C39/026 , B29C39/38 , B29C2035/0844 , B29C2035/085 , B29C2035/0872 , B29C2035/0877 , B29C2035/0883 , B29K2027/18 , B29L2031/767 , B81C99/0085 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , Y10T428/24479
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a microstructure that can transfer an irregular pattern of a mold by curing a pattern formation layer by using a novel technique which has not been employed hitherto, and its manufacturing method.SOLUTION: The pattern formation layer 2a can be cured by irradiating an ionization radiation to the pattern formation layer 2a which is formed on the irregular pattern of the mold 5 by using a PTFE dispersant to the pattern formation layer 2a being a transfer part 2. Therefore, this manufacturing method of the microstructure 1 is an imprint method which hardens the pattern formation layer 2a by the ionization radiation R which is completely different from a thermal imprint method and an optical imprint method, and can transfer the irregular pattern of the mold 5 by curing the pattern formation layer 2a by the novel technique which has not been employed hitherto.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种可通过使用迄今尚未使用的新技术固化图案形成层而能够转移模具的不规则图案的微结构及其制造方法。解决方案：图案形成层2a可以通过使用PTFE分散剂向形成在模具5的不规则图案上的图案形成层2a照射电离辐射而固化到作为转印部分的图案形成层2a 因此，微结构1的这种制造方法是通过与热压印法和光学印记法完全不同的电离辐射R来使图案形成层2a硬化的压印方法，并且可以将不规则图案模具5通过使用迄今尚未使用的新技术固化图案形成层2a。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

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