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1. 发明专利

JP5499399B2 Exposure apparatus and exposure method 有权
公开(公告)号：JP5499399B2
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：JP2009175732
申请日：2009-07-28
申请人： Nskテクノロジー株式会社
发明人：修作軽石 , 新一郎永井 , 慎一郎林 , 洋徳川島
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00

2. 发明专利

JP5084356B2 Exposure device substrate carrying mechanism and the substrate position adjusting method using the same 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP5084356B2
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：JP2007153966
申请日：2007-06-11
申请人： Nskテクノロジー株式会社
发明人：修作軽石 , 慎一郎林 , 禎後藤
IPC分类号： G03F7/20 , B65G49/06 , H01L21/027 , H01L21/68
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate transfer mechanism for an exposure apparatus, the mechanism saving a space as well as capable of transferring a substrate into an exposure region while keeping the positional accuracy by prealignment, and to provide a substrate position adjustment method using the mechanism. SOLUTION: A substrate transfer mechanism 20 is applied to a proximity scanning exposure apparatus 1 that irradiates an approximately rectangular substrate W with exposure light EL through a mask M to impart a pattern P of the mask M onto the substrate W; and the mechanism supports the substrate W by floating and transfers the substrate W in a prescribed direction. The substrate transfer mechanism 20 is equipped with a substrate prealignment mechanism 50, which is provided in a substrate carry-in region IA and performs prealignment of the substrate W waiting in the substrate carry-in region IA. The prealignment mechanism 50 includes reference pins 51, 52 placed near one side of opposing sides of the substrate W and capable of advancing and retreating in a vertical direction and push pins 53, 54 placed near the other side of the opposing sides and capable of advancing and retreating in a vertical direction and movable in a direction toward the substrate W. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：解决的问题：为了提供一种用于曝光装置的基板转印机构，该机构节省了空间，并且能够将基板转印到曝光区域中，同时通过预对准保持位置精度，并提供基板位置调整方法采用机制。解决方案：将基板转印机构20施加到接近扫描曝光装置1，其通过掩模M照射具有曝光光EL的大致矩形的基板W，以将掩模M的图案P赋予到基板W上; 并且该机构通过浮动并沿着规定方向传送基板W来支撑基板W. 衬底传送机构20装备有衬底预对准机构50，衬底预对准机构50设置在衬底输入区域IA中，并且执行在衬底输入区域IA等待的衬底W的预对准。预对准机构50包括设置在基板W的相对侧的一侧附近的基准销51,52，其能够在垂直方向上前进和后退，并且推动放置在相对侧的另一侧附近并能够前进的销53,54 并且在垂直方向上退回并且可以朝向衬底W的方向移动。版权所有：（C）2009，JPO和INPIT

3. 发明专利

JP5089257B2 Proximity scanning exposure apparatus 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP5089257B2
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：JP2007154203
申请日：2007-06-11
申请人： Nskテクノロジー株式会社
发明人：修作軽石 , 慎一郎林 , 禎後藤
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a proximity scanning exposure apparatus that can reduce the cost of manufacturing a mask or the entire apparatus, achieves efficient exposure and is easy for maintenance. SOLUTION: The proximity scanning exposure apparatus 1 irradiates a substrate W transferred in an X direction while approaching a plurality of masks M, with exposure light EL through the plurality of masks M to impart patterns P of the plurality of masks M onto the substrate by exposure. The proximity scanning exposure apparatus 1 includes: a plurality of mask holding sections 71, which respectively hold the plurality of masks M and are arranged in a staggered manner along a Y direction; and a plurality of irradiating sections 80, which are respectively arranged on upper portions of the mask holding sections 71 and irradiate the masks with exposure light EL. The plurality irradiating sections 80 can move in the X direction between an exposure position EP placed above the mask holding sections 71 and a retreat position RP out of the exposure position EP. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：为了提供能够降低制造掩模或整个装置的成本的接近扫描曝光装置，实现有效的曝光并且易于维护。解决方案：接近扫描曝光装置1在接近多个掩模M的同时照射在X方向上传送的基板W，其中曝光光EL通过多个掩模M以将多个掩模M的图案P赋予到底物曝光。接近扫描曝光装置1包括：多个掩模保持部71，其分别保持多个掩模M并沿着Y方向以交错的方式布置; 以及多个照射部分80，其分别设置在掩模保持部分71的上部并且用曝光光EL照射掩模。多个照射部分80可以在放置在掩模保持部分71之上的曝光位置EP和曝光位置EP之外的退避位置RP之间沿X方向移动。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

4. 发明专利

JP5089255B2 Exposure device 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP5089255B2
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：JP2007153965
申请日：2007-06-11
申请人： Nskテクノロジー株式会社
发明人：修作軽石 , 慎一郎林 , 禎後藤
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027

5. 发明专利

JP5057382B2 Exposure apparatus and a method of manufacturing a substrate 有权
公开(公告)号：JP5057382B2
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：JP2007326093
申请日：2007-12-18
申请人： Nskテクノロジー株式会社
发明人：洋徳川島 , 禎後藤 , 修作軽石
IPC分类号： G03F7/20

6. 发明专利

JP5645126B2 露光装置及び露光方法有权
标题翻译：曝光装置及曝光方法
公开(公告)号：JP5645126B2
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：JP2011013245
申请日：2011-01-25
申请人： Nskテクノロジー株式会社
发明人：修作軽石 , 修作軽石
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027

7. 发明专利

JP5105167B2 Proximity exposure apparatus and a proximity exposure system for mask adapter 有权
公开(公告)号：JP5105167B2
公开(公告)日：2012-12-19
申请号：JP2007335072
申请日：2007-12-26
申请人： Nskテクノロジー株式会社
发明人：修作軽石
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/683

8. 发明专利

JP5099318B2 Exposure apparatus and exposure method 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP5099318B2
公开(公告)日：2012-12-19
申请号：JP2007149340
申请日：2007-06-05
申请人： Nskテクノロジー株式会社
发明人：修作軽石 , 慎一郎林 , 禎後藤
IPC分类号： G03F7/20 , B65G49/07 , H01L21/677

9. 发明专利

JP5279207B2 Exposure device substrate transport mechanism 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP5279207B2
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：JP2007153967
申请日：2007-06-11
申请人： Nskテクノロジー株式会社
发明人：修作軽石 , 慎一郎林 , 禎後藤
IPC分类号： G03F7/20 , B65G49/06 , H01L21/677 , H01L21/68
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To execute a maintenance work of an auxiliary machine mounted on a substrate transfer mechanism relatively easily. SOLUTION: The substrate transfer mechanism 20 used for an exposing device 1 for exposing a pattern P of a mask M on a substrate W by directing an exposing light EL via the mask M to the substrate W lifts up and supports the substrate W and conveys the same in the X direction. The substrate transfer mechanism 20 comprises frames 5, 6, 7 made of a plurality of rectangular pipes 180, 181 elongating in the horizontal direction or vertical direction on a device base 2 of the exposing device 1 for sectioning a space 182 through in the X direction and the Y direction, and a plurality of air pads 23, 24, 25a, 25b provided on the upper surface side of the frames 5, 6, 7 for lifting up and supporting the substrate W. Various auxiliary machines mentioned above are mounted on the frames 5, 6, 7 between the adjacent air pads 23, 24, 25a, 25b without projecting from the upper surface of the air pads, 23, 24, 25a, 25b. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：相对容易地执行安装在基板传送机构上的辅助机器的维护工作。解决方案：通过将曝光光EL经由掩模M引导到基板W，用于曝光装置1的用于曝光基板W上的掩模M的图案P的基板传送机构20提升并支撑基板W 并在X方向传送。基板传送机构20包括由在曝光装置1的装置底座2上沿水平方向或垂直方向延伸的多个矩形管道180,181制成的框架5,6,7，用于在X方向上分隔空间182 和Y方向，以及设置在框架5,6,7的上表面侧的多个气垫23,24,25a，25b，用于提升和支撑基板W.上述各种辅助机器安装在相邻的气垫23,24,25a，25b之间的框架5,6,7没有从气垫23,24,25a，25b的上表面突出。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

10. 发明专利

JPWO2011096365A1 露光装置用光照射装置及びその点灯制御方法、並びに露光装置、露光方法及び基板审中-公开
公开(公告)号：JPWO2011096365A1
公开(公告)日：2013-06-10
申请号：JP2011507480
申请日：2011-01-31
申请人： Nskテクノロジー株式会社
发明人：洋徳川島 , 洋徳川島 , 修作軽石 , 修作軽石 , 新一郎永井 , 新一郎永井 , 智紀原田 , 智紀原田
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2008 , G03F7/7005 , G03F7/7035
摘要：光源部の交換時間及び装置のダウンタイムを短縮することができる露光装置用光照射装置及びその点灯制御方法、並びに露光装置、露光方法及び基板を提供する。光照射装置80は、ランプ71とランプ71から発生された光に指向性をもたせて射出する反射鏡72をそれぞれ含む複数の光源部73と、所定数の光源部73をそれぞれ取り付け可能な複数のカセット81と、複数のカセット81を取り付け可能な支持体82と、を備える。

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