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1. 发明专利

JP2017090935A 基板処理装置、及び基板処理方法有权
公开(公告)号：JP2017090935A
公开(公告)日：2017-05-25
申请号：JP2017024851
申请日：2017-02-14
申请人：株式会社ニコン , Nikon Corp
发明人： SUZUKI TOMOYA , KIUCHI TORU , KATO MASANORI , KITO YOSHIAKI
IPC分类号： G03F7/24 , H01L21/68
CPC分类号： G03F7/24
摘要：【課題】マスクのパターンを高精度に基板に露光できる基板処理装置を提供する。【解決手段】円筒面に沿って保持されたマスクのパターンを、可撓性を有する帯状の基板の表面に形成された光感応層に形成する。円筒面に沿ってマスクを保持するマスク保持面を備え、所定の軸線周りに回転可能なマスク保持部と、基板を接触保持する基板保持面を有し、所定の軸線と略平行な軸線周りに回転する2つのローラーの間に掛け回されて、基板を帯状の方向に搬送する無端ベルトと、2つのローラーの間であって、無端ベルトの基板保持面の裏面で無端ベルトを平面状に支持する案内ステージと、無端ベルトの基板保持面と当接して軸線の回りに転動するようにマスク保持部の外周に沿って設けられた転動体によって、マスク保持面と基板保持面との間に所定量のギャップを形成するギャップ形成部と、を備える。【選択図】図1

2. 发明专利

JP2014086449A Transport device and substrate processing apparatus 审中-公开
标题翻译：运输设备和基板加工设备
公开(公告)号：JP2014086449A
公开(公告)日：2014-05-12
申请号：JP2012231875
申请日：2012-10-19
申请人： Nikon Corp , 株式会社ニコン
发明人： HORI MASAKAZU , SUZUKI TOMOYA
IPC分类号： H01L21/677 , H01L51/50 , H05B33/02 , H05B33/10
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To heighten substrate transport accuracy.SOLUTION: The transport device includes: a transport part that transports a band form sheet substrate; a detection part that detects part of the sheet substrate; and a drive part that moves the detection part in synchronization with a movement of the sheet substrate.
摘要翻译：要解决的问题：提高基板输送精度。解决方案：输送装置包括：输送带状基板的输送部; 检测部，检测所述片基材的一部分; 以及与片状基板的移动同步地移动检测部的驱动部。

3. 发明专利

JP2017090517A 円筒状マスク、露光装置及びデバイス製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017090517A
公开(公告)日：2017-05-25
申请号：JP2015216092
申请日：2015-11-02
申请人：株式会社ニコン , Nikon Corp
发明人： SUZUKI TOMOYA , KIUCHI TORU , MIYAJI AKIRA
IPC分类号： G03F7/20 , H05K3/00
摘要：【課題】種々の大きさの表示デバイスのパターンを基板に転写させることができる円筒状マスク、露光装置及びデバイス製造方法を提供する。【解決手段】所定の中心線から一定半径の円筒状の外周面に沿って形成され、デバイスパターンのうち少なくとも画素部に関わる第1パターンが、外周面の周方向と中心線の方向の各々に関して周期的に複数形成される繰返しパターン領域と、記外周面の周方向に関して繰返しパターン領域と隣接して配置され、外周面の周方向の一部分であって中心線の方向に沿って第1パターンと異なる第2パターンが形成される緩衝領域とを有し、繰返しパターン領域の2以上のn個が緩衝領域のn−1個を挟み込んで外周面の周方向に継ぎ合せたときの大きさを、被転写基板に転写されるデバイスパターンの全体の大きさに対応させる。【選択図】図8

4. 发明专利

JP2015018006A 基板処理装置、デバイス製造システム及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：基板处理设备，设备生产系统和设备生产方法
公开(公告)号：JP2015018006A
公开(公告)日：2015-01-29
申请号：JP2013142922
申请日：2013-07-08
申请人：株式会社ニコン , Nikon Corp
发明人： SUZUKI TOMOYA , KOMIYAMA HIROKI , KATO MASANORI , WATANABE TOMOYUKI , KITO YOSHIAKI , HORI MASAKAZU , HAYASHIDA YOSUKE
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , H01L51/50 , H05B33/10
摘要：【課題】露光ユニットに与えられる振動をより低減し、露光ユニットによる露光を好適に行うこと。【解決手段】設置面E上に設けられた除振台131と、除振台131上に設けられ、供給される基板Pに対して露光処理を行う露光ユニット121と、設置面E上に設けられると共に、露光ユニット121とは非接触となる独立状態で設けられ、露光ユニット121に対する処理を行う処理ユニットとしての位置調整ユニット120及び駆動ユニットと、を備えた。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：为了进一步减少施加到曝光单元的振动，并适当地进行曝光单元的曝光。解决方案：基板处理设备包括：设置在安装面E上的防振台131; 设置在防振台131上并对待供给的基板P进行曝光处理的曝光单元121; 作为处理单元的位置调节单元120，设置在安装面E上，设置在该单元不与曝光单元121接触的独立状态，并对曝光单元121进行处理; 和驱动单元。

5. 发明专利

JP2013112436A Substrate processing device 审中-公开
标题翻译：基板处理装置
公开(公告)号：JP2013112436A
公开(公告)日：2013-06-10
申请号：JP2011257873
申请日：2011-11-25
申请人： Nikon Corp , 株式会社ニコン
发明人： SUZUKI TOMOYA
IPC分类号： B65H20/32 , B65H23/188
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate processing device enabling a reduction in processing accuracy to be suppressed.SOLUTION: This substrate processing device includes a first processing device for performing a first processing to a substrate which is formed in a band shape and has flexibility, a second processing device for performing a second processing to the substrate to which the first processing has been applied, a conveying device which includes an unloading roller for unloading the substrate from the first processing device and a loading roller for loading the substrate unloaded by the unloading roller to the second processing device and conveys the substrate, and a vibration eliminating device which is provided between the first processing device and the second processing device and eliminates the vibration of the substrate to be conveyed by the conveying device.
摘要翻译：要解决的问题：提供能够抑制加工精度降低的基板处理装置。解决方案：该基板处理装置包括：第一处理装置，用于对形成为带状并具有柔性的基板执行第一处理;第二处理装置，用于对基板执行第一处理已经应用了一种输送装置，其包括用于从第一处理装置卸载基板的卸载辊和用于将由卸载辊卸载的基板装载到第二处理装置并输送基板的装载辊，以及减振装置，设置在第一处理装置和第二处理装置之间，并且消除由输送装置输送的基板的振动。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

6. 发明专利

JP2017090243A 回転円筒体の計測装置、基板処理装置及びデバイス製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017090243A
公开(公告)日：2017-05-25
申请号：JP2015220449
申请日：2015-11-10
申请人：株式会社ニコン , Nikon Corp
发明人： HORI MASAKAZU , HAYASHIDA YOSUKE , KITO YOSHIAKI , KATO MASANORI , SUZUKI TOMOYA
IPC分类号： G01B11/24 , G03F7/20
摘要：【課題】高い精度で外周面の回転方向の移動量を計測できること。【解決手段】所定の中心線から一定半径の外周面を有する円筒体を、中心線の回りに回転させたときの外周面の回転方向の移動量を計測する回転円筒体の計測装置であって、中心線の回りに円筒体と共に回転すると共に、中心線から所定の半径位置に回転方向に沿って所定間隔で目盛が形成されたスケール部材と、中心線からみて所定方向に配置されて、スケール部材の目盛の移動を検出して、円筒体の回転方向の変位を計測する第1計測装置と、円筒体の外周面の半径の方向に関する変位、又は回転方向に関する部分的な周長の変化を、第1計測装置により計測される回転方向の変位に対応させて、外周面の回転方向の全周に渡って検出することにより、中心線から一定半径の真円に対する外周面の形状誤差に関する情報を計測する第2計測装置と、を有する。【選択図】図5

7. 发明专利

JP2016004100A 基板処理装置、デバイス製造システム、デバイス製造方法、および、パターン形成装置审中-公开
公开(公告)号：JP2016004100A
公开(公告)日：2016-01-12
申请号：JP2014123088
申请日：2014-06-16
申请人： NIKON CORP
发明人： KATO MASANORI , SUZUKI TOMOYA , KOMIYAMA HIROKI , WATANABE TOMOYUKI , KITO YOSHIAKI , HORI MASAKAZU , HAYASHIDA YOSUKE , KIUCHI TORU
IPC分类号： G03F7/24 , H01L21/027 , H01L51/50 , H05B33/10
摘要：【課題】露光ユニットに与えられる振動をより低減し、露光ユニットによる露光を好適に行うこと。【解決手段】基板処理装置U3は、設置面E上に設けられた除振台131と、除振台131上に設けられ、供給される基板Pに対して露光処理を行う露光ユニット121と、設置面E上に設けられるとともに、露光ユニット121とは非接触となる独立状態で設けられ、露光ユニット121に対する処理を行う処理ユニットとしての位置調整ユニット120および駆動ユニットと、を備える。【選択図】図2

8. 发明专利

JP2019091076A 基板処理装置审中-公开
公开(公告)号：JP2019091076A
公开(公告)日：2019-06-13
申请号：JP2019028051
申请日：2019-02-20
申请人： NIKON CORP
发明人： HORI MASAKAZU , KITO YOSHIAKI , SUZUKI TOMOYA , WATANABE TOMOYUKI , HAYASHIDA YOSUKE , KATO MASANORI
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/677
摘要：【課題】円筒部材の周方向における位置を検出するにあたって、位置検出用の目盛に発生した誤差を補正する。【解決手段】回転ドラムと、処理部と、第1エンコーダヘッドと、第2エンコーダヘッドと、周方向に関して第1の方位と第2の方位との間であって、第2の方位に対して周方向に角度θsだけ回転した第3の方位にスケール目盛と対向するように配置され、スケール目盛を読み取る第3エンコーダヘッドと、第1エンコーダヘッドによる第1読み取り値をCm1、第2エンコーダヘッドによる第2読み取り値をCm4、第3エンコーダヘッドによる第3読み取り値をCm5としたとき、ΔMs=(Cm1+Cm4)/2−Cm5で算出される計測値ΔMsを、スケール目盛の一定角度αの回転毎に逐次記憶し、スケール目盛の全周に渡るピッチ誤差に関する誤差情報を記憶する記憶部と、を備える。【選択図】図25

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