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1. 发明专利

JP2014095032A Conductive polymer composition 有权
标题翻译：导电聚合物组合物
公开(公告)号：JP2014095032A
公开(公告)日：2014-05-22
申请号：JP2012247188
申请日：2012-11-09
申请人： Kumamoto Prefecture , 熊本県 , Kumamoto Univ , 国立大学法人熊本大学 , Sumitomo Seika Chem Co Ltd , 住友精化株式会社
发明人： HORIKAWA MAKI , NAGAOKA SHOJI , SHIROSAKI TOMOHIRO , IHARA HIROTAKA , TAKATO MAKOTO , SAKURAI HIDEO , YAMAMOTO KATSUMASA , AKEMI HIDEHIKO
IPC分类号： C08L65/00 , C07D519/00 , C08B5/14 , C08B31/06 , C08G61/12 , C08L1/16
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive material that can be formed into a film by a simple method and also has good conductivity.SOLUTION: A complex obtained by complexing of polythiophene having a repeating unit represented by the formula (1), and anionic polysaccharide is superior in film forming properties and conductivity, and can be used as conductive materials.
摘要翻译：要解决的问题：提供可以通过简单的方法形成膜的导电材料并且还具有良好的导电性。溶液：通过使具有由式（1）表示的重复单元的聚噻吩和阴离子多糖的成膜性和导电性优异，可以用作导电材料。

2. 发明专利

JP2012012476A Stabilizer for synthetic resin, synthetic resin composition containing the stabilizer, and resin member 有权
标题翻译：合成树脂稳定剂，含稳定剂和树脂成分的合成树脂组合物
公开(公告)号：JP2012012476A
公开(公告)日：2012-01-19
申请号：JP2010149790
申请日：2010-06-30
申请人： Sumitomo Seika Chem Co Ltd , 住友精化株式会社
发明人： FUJIMOTO KOJI , YAMAMOTO KATSUMASA , AKEMI HIDEHIKO , MASUHARA YUSAKU , NISHIGUCHI HIDEAKI
IPC分类号： C08K5/34 , C07D277/82 , C08K5/46 , C08L33/06 , C08L63/00 , C08L69/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a stabilizer for a synthetic resin which enhances thermostability and photostability to a wide range of synthetic resins, in which the enhanced effect is exhibited by adding a small amount, and by which transparent synthetic resins can be obtained, a synthetic resin composition containing the same, and a resin member obtained form the resin composition.SOLUTION: A compound represented by a formula (1) is used (wherein Y, Y, Y, and Yare each independently NH, NR, oxygen or sulfur; and M represents a metal atom).
摘要翻译：要解决的问题：为了提供一种用于合成树脂的稳定剂，其可以通过添加少量而增强效果而提供对广泛范围的合成树脂的热稳定性和光稳定性，并且透明合成树脂可以是得到含有该合成树脂组合物的合成树脂组合物和由树脂组合物获得的树脂构件。
解决方案：使用由式（1）表示的化合物（其中Y 1 ，Y 2 SP POS =“POST”> 3 ，Y 4 分别为NH，NR 5 ，氧气或硫; M表示金属原子）。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

3. 发明专利

JP2008189612A Method for producing alkanedisulfonyl halide 有权
标题翻译：生产烷基芳烃的方法
公开(公告)号：JP2008189612A
公开(公告)日：2008-08-21
申请号：JP2007027445
申请日：2007-02-07
申请人： Sumitomo Seika Chem Co Ltd , 住友精化株式会社
发明人： TAKEUCHI TAKESHI , HIYAMA TAKEHIRO , AKEMI HIDEHIKO , KAGANO HIROKAZU
IPC分类号： C07C303/02 , C07C309/80
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for industrially easily producing an alkanedisulfonyl halide. SOLUTION: The method for producing an alkanedisulfonyl halide represented by formula (2) (R 1 and R 2 are each a hydrogen atom or a 1-4C alkyl group; n is an integer of 1-4; X is a halogen atom) comprises reacting an alkanedisulfonic acid with a phosphorus halide (V) by using a phosphoryl halide as a reaction solvent. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译：待解决的问题：提供工业上易于制备烷二磺酰卤的方法。解决方案：由式（2）表示的链烷二磺酰卤（R 1 SP 1和R 2 SP 2）的制备方法各自为氢原子或1-4C烷基 n为1-4的整数，X为卤原子）包括通过使用磷酰卤作为反应溶剂使烷二磺酸与卤化磷（V）反应。版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

4. 发明专利

JP2015048369A 硬化性樹脂組成物及びその硬化物有权
标题翻译：可固化树脂组合物及其固化产品
公开(公告)号：JP2015048369A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：JP2013179275
申请日：2013-08-30
申请人：住友精化株式会社 , Sumitomo Seika Chem Co Ltd
发明人： YAMAMOTO KATSUMASA , AKEMI HIDEHIKO , FUKUDA NORIAKI
IPC分类号： C08G59/68 , C08G65/26
摘要：【課題】高屈折率及び高接着力を有するとともに、硬化性に優れる硬化性樹脂組成物及びその硬化物を提供すること。【解決手段】(A)特定のビニルスルフィド化合物と、(B)エポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物と、(C)オニウムイオン及びボレートアニオンからなり、前記ボレートアニオンがホウ素原子及び該ホウ素原子に結合し置換基を有していてもよい4つのフェニル基を有している、オニウム塩と、を含有する硬化性樹脂組成物。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种具有高折射率和高粘合强度并且固化性优异的固化性树脂组合物及其固化物。溶解性：固化性树脂组合物含有（A）某种乙烯基硫醚化合物（B ）具有环氧基或氧杂环丁烷基的化合物，和（C）由鎓离子和硼酸根阴离子组成的鎓盐，其中硼酸根阴离子具有硼原子和可以与硼原子结合并具有取代基的4个苯基组。

5. 发明专利

JP2011038014A Photoacid generator and photoreactive composition 有权
标题翻译：光电发生器和光电组合物
公开(公告)号：JP2011038014A
公开(公告)日：2011-02-24
申请号：JP2009187610
申请日：2009-08-13
申请人： Sumitomo Seika Chem Co Ltd , 住友精化株式会社
发明人： YAMAGUCHI HIROSHI , YAMAMOTO KATSUMASA , AKEMI HIDEHIKO , NISHIGUCHI HIDEAKI
IPC分类号： C09K3/00 , G03F7/004
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photoacid generator and a photoreactive composition; wherein the photoacid generator is useful for a printing platemaking material, various resists and ultraviolet curable paint, etc., very highly sensitive in near-ultraviolet region of around 300-400 nm and capable of fully enhancing reaction rate, and the photoreactive composition takes a very short reaction time under near-ultraviolet irradiation.
SOLUTION: The photoacid generator contains a specific dithienyl sulfide sulfonium salt compound and a specific acyl phosphine oxide compound while the photoreactive composition contains the photoacid generator and an acid reactive compound.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供光致酸产生剂和光反应性组合物; 其中光致酸发生器可用于印刷制版材料，各种抗蚀剂和紫外线固化涂料等，其在约300-400nm的近紫外区域非常高度敏感并能够完全提高反应速率，并且光反应组合物需要在近紫外线照射下反应时间非常短。解决方案：光致酸产生剂含有特定的二噻吩基硫化锍盐化合物和特定的酰基氧化膦化合物，而光反应性组合物含有光酸产生剂和酸反应性化合物。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

6. 发明专利

JP2009102617A Substituted benzene dithiol metal complex and light-absorbing coloring matter composition containing the same 审中-公开
标题翻译：取代的苯并噻唑金属复合物和含有其的吸光颜料组合物
公开(公告)号：JP2009102617A
公开(公告)日：2009-05-14
申请号：JP2008232364
申请日：2008-09-10
申请人： Sumitomo Seika Chem Co Ltd , 住友精化株式会社
发明人： NISHIGUCHI HIDEAKI , KAGANO HIROKAZU , FUJIMOTO KOJI , AKEMI HIDEHIKO , MASUHARA YUSAKU
IPC分类号： C09B67/00 , C07D211/54 , C07D295/08 , C07F1/08 , C07F15/04 , C09B67/20
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a neutral substituted benzine dithiol metal complex functioning as a coloring matter stabilizer. SOLUTION: The substituted benzine dithiol metal complex is expressed by a general formula (1), wherein R 1 and R 2 independently represent a 1-6C alkyl group, a 1-8C alkylamino, a morpholino group that may have a substituent, a piperidino group that may have a substituent, a pyrrolidino group that may have a substituent, a thiomorpholino group that may have a substituent, a piperazino group that may have a substituent or a phenyl group that may have a substituent, and M represents a transition metal atom. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供用作色素稳定剂的中性取代的二苯硫醇金属络合物。解决方案：取代的二苯硫醇金属络合物由通式（1）表示，其中R 1和R 2独立地表示1-6C烷基，可以具有取代基的可以具有取代基的哌啶子基，可以具有取代基的吡咯烷子基，可以具有取代基的硫代吗啉基，可以具有取代基的哌嗪子基，可以具有取代基的哌嗪子基，或可以具有取代基的苯基，M表示过渡金属原子。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

7. 发明专利

JP2011157277A Method for producing dithienyl sulfide compound 审中-公开
标题翻译：生产二硫化锡化合物的方法
公开(公告)号：JP2011157277A
公开(公告)日：2011-08-18
申请号：JP2010017603
申请日：2010-01-29
申请人： Sumitomo Seika Chem Co Ltd , 住友精化株式会社
发明人： AKEMI HIDEHIKO , YAMAMOTO KATSUMASA , YAMAGUCHI HIROSHI
IPC分类号： C07D333/34
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for simply producing a dithienyl sulfide compound at a low cost.
SOLUTION: The method for producing a dithienyl sulfide compound represented by formula (2) (wherein, R is H, 1C-10C alkyl, 1C-4C alkoxy, 1C-20C alkylthio, 4C-10C arylthio, a monocyclic carbon ring group which may have a substituent, or a monocyclic heterocyclic group which may have a substituent; and X is a halogen atom) comprises reacting a thiophene compound Grignard reagent represented by formula (1) (wherein, R is the same group as the group in formula (2)) with sulfur dichloride.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种简单地以低成本生产二噻吩基硫化物的方法。解决方案：制备式（2）表示的二噻吩基硫化物的方法（其中R为H，1C-10C烷基，1C-4C烷氧基，1C-20C烷硫基，4C-10C芳硫基，单环碳环可以具有取代基的基团，或可以具有取代基的单环杂环基; X是卤素原子）包括使由式（1）表示的噻吩化合物格氏试剂（其中，R是与基团中相同的基团）式（2））。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

8. 发明专利

JP2010018735A Composition for near-infrared ray absorption member and near-infrared ray absorption member using the same 审中-公开
标题翻译：用于近红外辐射吸收组件的组合物和使用其的近红外辐射吸收组分
公开(公告)号：JP2010018735A
公开(公告)日：2010-01-28
申请号：JP2008181640
申请日：2008-07-11
申请人： Sumitomo Seika Chem Co Ltd , 住友精化株式会社
发明人： AKEMI HIDEHIKO , NISHIGUCHI HIDEAKI
IPC分类号： C09K3/00 , C07C317/14 , C07F15/04 , C08F2/44 , C08F2/50 , C08F265/06 , G02B5/22
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composition for a near-infrared ray absorption member that absorbs largely and widely the near-infrared region, does not impair the near-infrared absorption performance during the production process of a liquid crystal device or the like and is excellent in heat resistance and to provide a near-infrared ray absorption member using the composition.
SOLUTION: The composition for a near-infrared ray absorption member includes (A) a substituted benzenedithiol nickel complex represented by formula (1), (B) a polyfunctional (meth)acrylic monomer and (C) a (meth)acrylic acid ester copolymer, and the near-infrared ray absorption member uses the composition. In formula (1), R denotes a cyclic amino group such as a dialkylamino group, a substituted or unsubstituted morpholino group, a substituted or unsubstituted piperidino group, a substituted or unsubstituted pyrrolidino group, a substituted or unsubstituted thiomorpholino group, a substituted or unsubstituted piperadino group or the like, an aryl group or an alkyl group and A denotes an ammonium ion or a phosphonium ion.
COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：为了提供一种近红外线吸收部件的组合物，其能够广泛吸收近红外区域，不会损害液晶装置的制造过程中的近红外吸收性能，并且耐热性优异，并且使用该组合物提供近红外线吸收部件。（A）由式（1）表示的取代苯二硫醇镍配合物，（B）多官能（甲基）丙烯酸系单体和（C）（甲基）丙烯酸系单体酸酯共聚物，并且近红外线吸收部件使用该组合物。式（1）中，R表示二烷基氨基，取代或未取代的吗啉代基，取代或未取代的哌啶子基，取代或未取代的吡咯烷子基，取代或未取代的硫代吗啉基，取代或未取代的环状氨基哌啶基等，芳基或烷基，A表示铵离子或鏻离子。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

9. 发明专利

JP2008169162A Method for producing methylene disulfonate compound 有权
标题翻译：生产甲基磺酸盐化合物的方法
公开(公告)号：JP2008169162A
公开(公告)日：2008-07-24
申请号：JP2007005008
申请日：2007-01-12
申请人： Sumitomo Seika Chem Co Ltd , 住友精化株式会社
发明人： HIYAMA TAKEHIRO , TAKEUCHI TAKESHI , AKEMI HIDEHIKO , KAGANO HIROKAZU
IPC分类号： C07C303/22 , C07C309/66
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a methylene disulfonate compound, by which the methylene disulfonate compound can easily industrially be produced at a low cost.
SOLUTION: This method for producing the methylene disulfonate compound represented by general formula (3) (R
1 is a 1 to 4C alkyl or the like) is characterized by reacting a sulfonic anhydride represented by general formula (1) [R
1 is the same group of R
1 in the general formula (3)] with a formaldehyde compound.
COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

10. 发明专利

JP2013155118A Method for producing aromatic thio(meth)acrylate 审中-公开
标题翻译：制备芳族硫代（甲基）丙烯酸酯的方法
公开(公告)号：JP2013155118A
公开(公告)日：2013-08-15
申请号：JP2012015160
申请日：2012-01-27
申请人： Sumitomo Seika Chem Co Ltd , 住友精化株式会社
发明人： AKEMI HIDEHIKO , YAMAMOTO KATSUMASA
IPC分类号： C07C327/22
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the yield, quality and preservation stability of aromatic thio(meth)acrylates in a method for producing the aromatic thio(meth)acrylates by reacting the alkali metal salt of aromatic thiols with a (meth)acryloyl halide.SOLUTION: The purity of used (meth)acryloyl halide is prescribed as ≥97.5%.
摘要翻译：待解决的问题：通过使芳族硫醇的碱金属盐与（甲基）丙烯酰卤反应生成芳族硫代（甲基）丙烯酸酯的方法，提高芳族硫代（甲基）丙烯酸酯的产率，质量和保存稳定性。解决方案：使用（甲基）丙烯酰卤的纯度为≥97.5％。

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