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1. 发明专利

JPWO2014156497A1 ＭｇＯ−ＴｉＯ焼結体ターゲット及びその製造方法有权
标题翻译： MgO的二氧化钛烧结体靶及其制造方法
公开(公告)号：JPWO2014156497A1
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：JP2014543701
申请日：2014-03-04
申请人： Jx金属株式会社
发明人：英生高見 , 英生高見 , 中村　祐一郎 , 祐一郎中村 , 荒川　篤俊 , 篤俊荒川 , 真一荻野 , 真一荻野
IPC分类号： C04B35/04 , C04B35/48
CPC分类号： G11B5/3909 , C04B35/053 , C04B35/46 , C04B35/645 , C04B2235/3206 , C04B2235/3232 , C04B2235/5436 , C04B2235/77 , C04B2235/786 , C23C14/08 , C23C14/3414 , G11B5/82 , G11B5/851
摘要： TiOを25〜90mol%含有し、残部がMgO及び不可避的不純物からなるMgO−TiO焼結体。本発明は、成膜速度が速く、パーティクルの発生が少ない直流(DC)スパッタリングが可能な高密度のターゲット及びその製造方法を提供することを課題とする。【選択図】図1
摘要翻译：含有25〜90摩尔％的MgO-TIO MgO和不可避免的杂质的烧结平衡的TiO。本发明中，膜形成速度是高的，它是一个对象DC颗粒的产生是小于（DC）溅射，以提供所述目标的高密度及其制造方法，能够在其。点域1

2. 发明专利

JPWO2014141737A1 スパッタリングターゲット有权
标题翻译：溅射靶材
公开(公告)号：JPWO2014141737A1
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：JP2014533302
申请日：2014-01-20
申请人： Jx金属株式会社
发明人：佐藤　敦 , 敦佐藤 , 荒川　篤俊 , 篤俊荒川 , 英生高見 , 英生高見 , 中村　祐一郎 , 祐一郎中村
IPC分类号： C23C14/34 , G11B5/65 , G11B5/851
CPC分类号： G11B5/851 , C23C14/3414 , G11B5/65
摘要：金属相と酸化物相が均一分散した組織を有する焼結体スパッタリングターゲットであって、該金属相が成分としてCoとPtとMnを含有し、該酸化物相が少なくともMnを構成成分とする酸化物を含有することを特徴とするスパッタリングターゲット。スパッタ時に発生するパーティクル量を低減することができ、成膜時における歩留まりを向上することができるという優れた効果を有する。【選択図】図1
摘要翻译：具有金属相和氧化物相A烧结体溅射靶中均匀分散的组织，氧化金属相包括Co，Pt和Mn作为一种成分，所述氧化物相是作为构成至少含有Mn 溅射靶，其特征在于含有的东西。它能够减少溅射过程中产生的颗粒的量，具有优良的效果，即，能够提高在膜形成时的成品率。点域1

3. 发明专利

JPWO2014125897A1 Ｃｏ又はＦｅを含有するスパッタリングターゲット有权
标题翻译：溅射含有Co或Fe靶
公开(公告)号：JPWO2014125897A1
公开(公告)日：2017-02-02
申请号：JP2015500172
申请日：2014-01-24
申请人： Jx金属株式会社
发明人：荒川　篤俊 , 篤俊荒川 , 英生高見 , 英生高見 , 中村　祐一郎 , 祐一郎中村
IPC分类号： C23C14/34 , C22C5/04 , C22C19/07 , C22C32/00 , G11B5/851
CPC分类号： C22C19/07 , C22C32/0026 , C22C33/02 , C22C38/00 , C22C38/002 , C23C14/3414
摘要：本発明は、ターゲット中の研磨面で観察される組織が平均粒径1.8μm以下の非磁性材粒子が分散したCo又はFeを含有する金属相及び金属粒とから構成されており、非磁性材粒子の外周上にある任意の2点の距離の最大値を最大径とし、平行な2本の直線で同粒子を挟んだときの2直線間の距離の最小値を最小径とした場合、その最大径と最小径の差が0.7μm以下である非磁性材粒子がターゲット中の研磨面で観察される組織内の非磁性材粒子に対して60%以上であり、かつ、金属粒の外周上にある任意の2点の距離の最大値を最大径とし、平行な2本の直線で金属粒を挟んだときの2直線間の距離の最小値を最小径とした場合、その最大径と最小径の和が30μm以上の金属粒が1mm2視野内に平均1個以上存在する焼結体スパッタリングターゲットであり、スパッタリング時のパーティクル発生の原因となる非磁性材料に起因する異常放電を抑制できる。
摘要翻译：本发明是由金属相和金属粒子平均粒径1.8μm或更小的目标在抛光表面中观察到的非磁性材料颗粒组织构成含有分散Co或Fe，非磁性材料如果位于该粒子周围和最大直径，两条直线之间夹入在两个平行的和最小直径的直线相同的粒子时的距离的最小值的任何两个点之间的距离的最大值，则的最大和最小直径之间的差异是在非磁性材料颗粒是0.7微米或更小的60％或以上，相对于在靶的抛光表面被观察在组织中的非磁性材料颗粒，并且，在金属粒子的外周如果最大直径的最大任意两点之间和在最外的最小直径和最大直径的距离，以及距离的两条直线之间以直线夹着金属颗粒时平行的二最小值较小直径30μm以上的金属粒子的烧结体溅射靶总和是一个本平均或多个内1平方毫米字段，溅射异常放电引起的这使得包装能够抑制期间颗粒的产生的非磁性材料。

4. 发明专利

JPWO2014178310A1 焼結体、同焼結体からなる磁気記録膜形成用スパッタリングターゲット有权
标题翻译：烧结，磁记录膜形成的溅射靶，其包括烧结体
公开(公告)号：JPWO2014178310A1
公开(公告)日：2017-02-23
申请号：JP2014541456
申请日：2014-04-23
申请人： Jx金属株式会社
发明人：英生高見 , 祐一郎中村 , 祐希池田 , 真一荻野
IPC分类号： C22C19/07 , C04B35/00 , C22C32/00 , C23C14/34 , G11B5/706 , G11B5/851 , H01F1/08 , H01F1/09 , H01F10/16 , H01F41/18
CPC分类号： C22C32/001 , C22C5/04 , C22C19/07 , C23C14/3414
摘要：少なくとも金属としてコバルトを含み、ホウ素及び/又は白金族元素から選択した1種以上の金属若しくは合金と、酸化物から構成される焼結体であって、前記酸化物からなる相に、Cr(BO3)、Co2B2O5、Co3B2O6の少なくとも1種以上を含有することを特徴とする焼結体。ターゲット中に、Cr(BO3)、Co2B2O5、Co3B2O6の化合物が存在する焼結体は、微細な組織を維持することができ、また水に対して安定な焼結体からなる磁気記録膜形成用焼結体を得ることができる。
摘要翻译：至少包含钴金属，以及硼和/或一种或多种金属或合金选自铂族元素的氧化物的组成的烧结体，制成氧化，Cr的相位选择（BO3 ）烧结体特征在于含有至少一种Co2B2O5，Co3B2O6的。在目标，铬（BO3），Co2B2O5，Co3B2O6的烧结化合物存在时，其是可以维持的微细结构，也磁记录膜形成烧结由稳定烧结体的水它可以得到烧结体。

5. 发明专利

JPWO2014054361A1 酸化亜鉛系焼結体、該焼結体からなる酸化亜鉛系スパッタリングターゲット及び該ターゲットをスパッタリングして得られた酸化亜鉛系薄膜有权
标题翻译：氧化锌烧结氧化钛，氧化锌基于通过溅射的基于氧化锌的溅射靶和由烧结体的靶得到的薄膜
公开(公告)号：JPWO2014054361A1
公开(公告)日：2016-08-25
申请号：JP2014519327
申请日：2013-09-02
申请人： Jx金属株式会社
发明人：英生高見 , 英生高見 , 淳史奈良 , 淳史奈良
IPC分类号： C04B35/453 , C23C14/08 , C23C14/34
CPC分类号： C04B35/453 , C04B2235/3217 , C04B2235/3256 , C04B2235/3258 , C04B2235/3272 , C04B2235/3275 , C04B2235/3279 , C04B2235/3281 , C04B2235/3286 , C04B2235/3289 , C04B2235/3409 , C04B2235/40 , C04B2235/402 , C04B2235/404 , C04B2235/405 , C04B2235/407 , C04B2235/408 , C04B2235/5436 , C04B2235/721 , C22C1/051 , C22C29/12 , C23C14/086 , C23C14/3414
摘要：酸化亜鉛(ZnO)を主成分とし、酸化亜鉛に対してn型ドーパントとなるガリウム(Ga)又はアルミニウム(Al)又はボロン(B)を含有すると共に、カーボンを10〜300wtppm含有し、かつ、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、鉄(Fe)、銅(Cu)、モリブデン(Mo)、ルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、タングステン(W)、イリジウム(Ir)、金(Au)から選択した金属元素Mの1種以上を含有し、金属Mは少なくとも一部或いは全て金属として焼結体中に残留し、酸化亜鉛系焼結体を構成する亜鉛とn型ドーパントと全金属元素に対する金属Mの濃度を0.05〜25.0原子%に調整した酸化亜鉛系焼結体、該焼結体からなるスパッタリングターゲット及び該ターゲットをスパッタリングすることにより得られる薄膜を提供する。【選択図】なし
摘要翻译：氧化锌（ZnO）的作为主要成分，同时含镓作为n型掺杂剂相对于氧化锌（GA）或铝（Al）或硼（B），含有10〜300重量ppm的碳，和钴从（Co），镍（Ni），铁（Fe），铜（Cu），钼（MO），钌（Ru），铑（Rh），钨（W），铱（Ir），金（Au）中选择金属所含有的至少一种金属元素M，金属M是至少一些或全部保留在烧结体中作为金属，构成锌的氧化锌系烧结体和n型掺杂剂和总的金属元素从所调整的基于氧化锌的烧结体M 0.05〜25.0％原子比，浓度，以提供通过溅射所述溅射靶和由烧结体的靶而得到的薄膜。系统技术领域

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